專利名稱：一種真空滅弧室的觸頭及其配方的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子真空器件的零部件及其配方，更具體地講，本發(fā)明是涉及一種電子真空器件方面的真空滅弧室的觸頭及其配方，在國(guó)際專利分類表中應(yīng)分為H01G小類。
背景技術(shù)：
目前，有關(guān)真空滅弧室的關(guān)鍵部件—觸頭的設(shè)計(jì)大多采用Cu-Cr二元合金的平板狀和“卐”字型結(jié)構(gòu)。由于設(shè)計(jì)上的誤區(qū)和觸頭材料的缺陷，在126KV以上高壓等級(jí)的真空滅弧室領(lǐng)域，存在著熔焊顯著的缺點(diǎn)。此外，在截流值、抗電壓、開斷次數(shù)等電氣性能上也存在問題。再由于環(huán)保原因而必須停用六氟化硫開關(guān)，現(xiàn)在已陷入真空滅弧室(真空開關(guān)管)難于進(jìn)入126KV以上高壓領(lǐng)域的困境。

發(fā)明內(nèi)容
及
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明的目的在于針對(duì)已有技術(shù)的不足，提供一種適用于126KV以上高壓領(lǐng)域的、能夠解決熔焊問題的、在截流值、抗電壓、開斷次數(shù)等電氣性能上有所提高的真空滅弧室的觸頭及其配方。
本發(fā)明的目的是通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的所述觸頭為圓盤形，在所述觸頭的中心點(diǎn)上有一個(gè)工程焊接點(diǎn)(3)，主要特點(diǎn)在于在所述的觸頭上均布有“S”形跑弧槽(1)，在“S”形跑弧槽(1)之間的所述的觸頭的面上均布有跑弧面(2)。
在具體實(shí)施例中，所述的“S”形跑弧槽(1)的數(shù)量≥3，所述的跑弧面(2)的數(shù)量≥3。在最佳實(shí)施例中，所述的“S”形跑弧槽(1)的數(shù)量為六個(gè)，所述的跑弧面(2)的數(shù)量為六個(gè)。
所述真空滅弧室的觸頭的配方為Cu-Ti-Co-Te-Cr五組元合金，其組成百分比為Cu 余量，Ti 0.05-0.08％，Co 0.05-1.00％，Te 0.05-1.00％，Cr 20-40％。
由于本發(fā)明采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明不但解決了觸頭的熔焊問題，而且在截流值、抗電壓、開斷次數(shù)等電氣性能上有了明顯的提高，對(duì)切合電容器組、異相接地以及在126KV高壓等級(jí)真空滅弧室使用中以前出現(xiàn)的各種問題有了一個(gè)綜合性的解決方案。對(duì)原來真空滅弧室各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)顧此失彼的問題實(shí)現(xiàn)了兼顧的效果，明顯地提高了真空滅弧室的壽命。
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明，其中附

圖1是本發(fā)明的觸頭的俯視圖。
附圖2是連接有導(dǎo)電桿的本發(fā)明的觸頭的正視圖。
附圖1是本發(fā)明的觸頭的俯視圖，在該附圖中示出了觸頭的具體結(jié)構(gòu)。在所述的觸頭上均布有“S”形跑弧槽(1)，在“S”形跑弧槽(1)之間的觸頭的面上均布有跑弧面(2)。也可以看到在所述觸頭面的中心點(diǎn)上設(shè)有一個(gè)工程焊接點(diǎn)(3)。在附圖1所示出的觸頭的最佳實(shí)施例中，所述的“S”形跑弧槽(1)的數(shù)量為六個(gè)，所述的跑弧面(2)的數(shù)量為六個(gè)，且六等分均布。由于“S”形跑弧槽(1)的類似田埂形狀的設(shè)計(jì)，由原來的直線分布改為平滑的“S”形的曲線分布，延長(zhǎng)了滅弧室的燃弧、滅弧的路徑，降低了電場(chǎng)的分布梯度，抑制了電流的分布速度和分布方向，使電場(chǎng)和電流密度分布更為均勻，能夠保證在大功率下使電場(chǎng)強(qiáng)度和電流密度趨于盡可能小的最佳值。正是基于上述原因，本發(fā)明克服了已有技術(shù)熔焊顯著的缺點(diǎn)，提高了真空滅弧室的各項(xiàng)電氣指標(biāo)，其中最為突出的是提高了真空滅弧室的使用壽命。同理，由于在“S”形跑弧槽(1)之間的均布的跑弧面的設(shè)計(jì)，也相應(yīng)地延長(zhǎng)了滅弧室的燃弧、滅弧的路徑，降低了電場(chǎng)的分布梯度，抑制了電流的分布速度和分布方向，使電場(chǎng)和電流密度分布更為均勻，避免了電場(chǎng)強(qiáng)度和電流密度局部過大的缺點(diǎn)，也為克服熔焊問題和提高滅弧室的電氣指標(biāo)作出了貢獻(xiàn)。
附圖2是連接有導(dǎo)電桿的本發(fā)明的觸頭的正視圖。在該附圖中清楚地顯示了觸頭(4)與真空滅弧室中的導(dǎo)電桿(5)的連接關(guān)系。該附圖僅顯示了本發(fā)明的觸頭與真空滅弧室中的相關(guān)部件的局部連接關(guān)系，所述觸頭可以通過工程焊接點(diǎn)(3)與導(dǎo)電桿(5)焊接在一起。
須要指出，觸頭材料使用五組元合金是本發(fā)明的關(guān)鍵部分。尤其是Ti和Te的加入，在合金組織中產(chǎn)生新的Cu2Ti相和Cu2Te相，由于其脆性相的作用，可以有效地防止熔焊問題。
在“S”形跑弧槽(1)和相應(yīng)的跑弧面(2)的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上，對(duì)觸頭材料配方的設(shè)計(jì)成為至關(guān)重要的問題。因?yàn)橛梢延屑夹g(shù)Cu-Cr二元材料所組成的觸頭的主要缺陷是熔焊問題，所以本發(fā)明所解決的主要問題也在于此。通過科學(xué)研究和精心的實(shí)驗(yàn)，本發(fā)明所開發(fā)的五組元合金觸頭與已有技術(shù)相比有了明顯的不同，其主要區(qū)別在于原來的Cu-Cr二元材料是機(jī)械混合物，而本發(fā)明的五組元合金材料已升華為具有電子化和同溶體特征的呈彌散分布的真正意義上的合金，而且還兼存了機(jī)械混合物的原有特性，由此五組元合金材料制成的觸頭具有良好的電氣物理性能?？傊?，基于“S”形跑弧槽(1)和相應(yīng)的跑弧面(2)的設(shè)計(jì)，再加之觸頭材料的合理配方，使得已有技術(shù)原有的在開斷、燃弧、滅弧、截流、抗熔焊、切合電容器組等一系列的技術(shù)指標(biāo)上顧此失彼的問題得到了圓滿的解決，達(dá)到和諧兼顧的效果，明顯地提高了真空滅弧室的壽命。
權(quán)利要求
1.一種真空滅弧室的觸頭，所述觸頭為圓盤形，在所述觸頭的中心點(diǎn)上有一個(gè)工程焊接點(diǎn)(3)，其特征在于在所述的觸頭上均布有“S”形跑弧槽(1)，在“S”形跑弧槽(1)之間的所述的觸頭的面上均布有跑弧面(2)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的觸頭，其特征在于所述的“S”形跑弧槽(1)的數(shù)量≥3，所述的跑弧面(2)的數(shù)量≥3。
3.根據(jù)權(quán)利要求1、2所述的真空滅弧室的觸頭，其特征在于所述的“S”形跑弧槽(1)的數(shù)量為六個(gè)，所述的跑弧面(2)的數(shù)量為六個(gè)。
4.一種如權(quán)利要求1所述的真空滅弧室的觸頭的配方，其特征在于所述觸頭的配方為Cu-Ti-Co-Te-Cr五組元合金，其組成百分比為Cu 余量，Ti 0.05-0.08％，Co 0.05-1.00％，Te 0.05-1.00％，Cr 20-40％。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種真空滅弧室的觸頭及其配方，所述觸頭為圓盤形，在所述觸頭的中心點(diǎn)上有一個(gè)工程焊接點(diǎn)(3)，主要特點(diǎn)在于在所述的觸頭上均布有“S”形跑弧槽(1)，在“S”形跑弧槽(1)之間的所述的觸頭的面上均布有跑弧面(2)。所述觸頭的配方為Cu－Ti－Co－Te－Cr五組元合金，其組成百分比為Cu(余量)，Ti(0.05－0.08％)，Co(0.05－1.00％)，Te(0.05－1.00％)，Cr(20－40％)。本發(fā)明使滅弧室的各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)實(shí)現(xiàn)了兼顧的效果，明顯地提高了真空滅弧室的使用壽命。
文檔編號(hào)H01H1/02GK1395268SQ02125448
公開日2003年2月5日 申請(qǐng)日期2002年8月9日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月9日
發(fā)明者吳學(xué)棟, 朱玉京 申請(qǐng)人:吳學(xué)棟, 朱玉京