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      半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件的制作方法

      文檔序號(hào):6827040閱讀:357來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明主要是用于半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的要求細(xì)薄化的場(chǎng)合,以厚的耐熱膠帶充當(dāng)基底,并于耐熱膠帶上施以電路基板成形加工方法,制作出電路,并與芯片電氣接合封裝,之后再移除膠帶,形成薄形封裝元件。
      本發(fā)明的次要目的是可獲得更佳的散熱封裝體本發(fā)明的芯片背面在移除耐熱膠帶后直接曝露,對(duì)于芯片的散熱更有幫助。
      本發(fā)明的再一目的是本發(fā)明的工藝可以更為經(jīng)濟(jì)本發(fā)明不采用昂貴的金屬導(dǎo)線架,而改用以耐熱膠帶為基底,并在其上用一般電路成形法來(lái)制作,可降低金屬導(dǎo)線架的購(gòu)制成本;又芯片直接貼于耐熱膠帶上,亦可省去芯片接合膠的成本。
      為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件,包括以耐熱膠帶為基墊,并在其上制作電路布線后與芯片作電性接合并封裝成型后,移除耐熱膠帶成為一封裝件。
      該耐熱膠帶與芯片接合采用引線接合形式接合,其電路布局在芯片位置預(yù)留空間,以便容置芯片,其工藝為a)在一耐熱膠帶上鋪上一銅層;b)于銅層上再覆一層光阻劑;c)以一設(shè)計(jì)好的電路圖形的負(fù)片于光源下照射光阻劑,使曝光顯影;d)續(xù)施行蝕刻作業(yè)后,清除光阻劑作成銅線路;e)將裸芯片直接貼在銅線路預(yù)留位置(耐熱膠帶上),并以引線接合形式方式將芯片與銅線路作電氣接合;f)以環(huán)氧樹(shù)脂封裝后切割成粒狀封裝體;g)將粗裝封裝體撕去耐熱膠帶成為一封裝件。
      該耐熱膠帶與芯片接合采用倒裝片方式接合,其工藝為a)在一耐熱膠帶上鋪上一銅層;b)于銅層上再覆一層光阻劑;c)以一設(shè)計(jì)好的電路圖形的負(fù)片于光源下照射光阻劑,使曝光顯影;d)續(xù)施行蝕刻作業(yè)后,清除光阻劑作成銅線路;e)將裸芯片翻轉(zhuǎn)直接與銅線路預(yù)留位置作電氣接合;f)以環(huán)氧樹(shù)脂封裝后切割成粒狀封裝體;g)將粒狀封裝體撕去耐熱膠帶成為一封裝件。
      圖5A-G是本發(fā)明的倒裝片形式工藝示意圖;圖6A、圖6B是本發(fā)明的倒裝片形式封裝件與現(xiàn)有金屬導(dǎo)線架封裝件的比較示意圖。
      圖中符號(hào)說(shuō)明現(xiàn)有部分1’金屬導(dǎo)線架11’芯片承載板12’ 肋片13 導(dǎo)線接腳2’芯片21’凸塊 22’ 鋁質(zhì)墊片23’芯片接合膠3’金線4’環(huán)氧樹(shù)脂本發(fā)明部份1 耐熱膠帶2 銅層3 光阻劑4 負(fù)片網(wǎng)板5 銅線路6 芯片61凸塊62金線7 環(huán)氧樹(shù)脂請(qǐng)參閱圖4A-G所示,本發(fā)明是為一種半導(dǎo)體封裝工藝,包括以耐熱膠帶為基墊,并在其表面上制作電路布線后與芯片作電性接合并封裝成型后,移除耐熱膠帶成為一封裝件。其中(I)芯片接合以引線接合形式的工藝為a)在一耐熱膠帶1上鋪上一銅層2以利制作銅線路5(圖4A示出)。
      b)于銅層2上再覆一層光阻劑3(圖4B示出)。
      c)以一設(shè)計(jì)好的電路圖形的負(fù)片網(wǎng)板4于光源下照射光阻劑3,使之曝光顯影,將線路部份的圖案以光阻劑3保留出來(lái)(圖4C示出)。
      d)續(xù)施行蝕刻作業(yè),將銅層2的線路不要的部分去除之后,清除光阻劑3成為銅線路5(圖4D示出)。
      E)將裸芯片6直接貼在銅線路5預(yù)留位置(耐熱膠帶1上),并以引線接合方式將芯片6與銅線路5作電氣接合(圖4E示出)。
      f)以環(huán)氧樹(shù)脂7封裝后切割成粒狀封裝體(圖4F示出)。
      g)將粒裝封裝體撕去耐熱膠帶1成為一封裝件(圖4G示出)。
      以上實(shí)施例的芯片6直接與耐熱膠帶1粘貼,并在最后撕去耐熱膠帶1。因此可較傳統(tǒng)金屬導(dǎo)線架1’的引線接合封裝形式更能有效降低封裝高度,且本工藝的封裝件芯片背面裸露散熱佳,并更為節(jié)省金屬導(dǎo)線架1’與芯片接合膠23’的材料成本。
      (II)另一種芯片接合以倒裝片形式的工藝為a)在一耐熱膠帶1上鋪上一銅層2以利制作銅線路5(圖5A示出)。
      b)于銅層2上再覆一層光阻劑3(圖5B示出)。
      c)以一設(shè)計(jì)好的電路圖形的負(fù)片網(wǎng)板4于光源下照射光阻劑3,使之曝光顯影,將銅線路5部份的圖案以光阻劑3保留出來(lái)(圖5C示出)。
      d)續(xù)施行蝕刻作業(yè)將銅層2的線路不要的部分去除之后,清除光阻劑3成為銅線路5(圖5D示出)。
      E)將裸芯片6直接貼在銅線路5預(yù)留位置(耐熱膠帶1上),并以倒裝片方式將芯片6與銅線路5作電氣接合(圖5E示出)。
      f)以環(huán)氧樹(shù)脂7封裝后切割成粒狀封裝體(圖5F示出)。
      g)將粒裝封裝體撕去耐熱膠1帶成為一封裝件(圖5G示出)。
      以上實(shí)施例可不必在芯片下方設(shè)置一芯片承載板11’,可較傳統(tǒng)金屬導(dǎo)線架1’的打線封裝形式更為節(jié)省金屬導(dǎo)線架1’與芯片接合膠23’的材料成本(圖6A、圖6B示出)。
      綜上所述,當(dāng)知本案所發(fā)明的半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件已具有產(chǎn)業(yè)利用性、新穎性與創(chuàng)造性,符合發(fā)明專利要求,但以上所述,僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并非用來(lái)限定本發(fā)明實(shí)施的范圍。即凡依本發(fā)明所做的均等變化與修飾,皆為本發(fā)明專利范圍所涵蓋。
      權(quán)利要求
      1.一種半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件,包括以耐熱膠帶為基墊,并在其上制作電路布線后與芯片作電性接合并封裝成型后,移除耐熱膠帶成為一封裝件。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件,其特征在于耐熱膠帶與芯片接合采用引線接合形式接合,其電路布局在芯片位置預(yù)留空間,以便容置芯片,其工藝為a)在一耐熱膠帶上鋪上一銅層;b)于銅層上再覆一層光阻劑;c)以一設(shè)計(jì)好的電路圖形的負(fù)片于光源下照射光阻劑,使曝光顯影;d)續(xù)施行蝕刻作業(yè)后,清除光阻劑作成銅線路;e)將裸芯片直接貼在銅線路預(yù)留位置(耐熱膠帶上),并以引線接合方式將芯片與銅線路作電氣接合;f)以環(huán)氧樹(shù)脂封裝后切割成粒狀封裝體;g)將粗裝封裝體撕去耐熱膠帶成為一封裝件。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件,其特征在于耐熱膠帶與芯片接合采用倒裝片方式接合,其工藝為a)在一耐熱膠帶上鋪上一銅層;b)于銅層上再覆一層光阻劑;c)以一設(shè)計(jì)好的電路圖形的負(fù)片于光源下照射光阻劑,使曝光顯影;d)續(xù)施行蝕刻作業(yè)后,清除光阻劑作成銅線路;e)將裸芯片翻轉(zhuǎn)直接與銅線路預(yù)留位置作電氣接合;f)以環(huán)氧樹(shù)脂封裝后切割成粒狀封裝體;g)將粒狀封裝體撕去耐熱膠帶成為一封裝件。
      全文摘要
      本發(fā)明是一種半導(dǎo)體封裝制造方法及其封裝件,是使用厚的耐熱膠帶,并在其表面上鋪一層銅層,在銅層上涂上感光靈敏的抗物質(zhì)(光阻劑),之后以光源經(jīng)設(shè)有電路圖案的負(fù)片曝曬,使光阻劑留在銅層表面上,再進(jìn)行蝕刻作業(yè)以留下具有電路圖案的銅線,再將裸芯片以引線接合形式(Wire Bonding)或倒裝片形式(F1ip Chip)與銅線路接合后,以適用的封裝方式封裝后,撕去耐熱膠帶而成的封裝件。
      文檔編號(hào)H01L21/50GK1471160SQ0212562
      公開(kāi)日2004年1月28日 申請(qǐng)日期2002年7月25日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月25日
      發(fā)明者謝文樂(lè), 黃寧, 陳慧萍, 蔣華文, 張衷銘, 涂豐昌, 黃富裕, 張軒睿, 胡嘉杰, 呂文隆, 陳哲禎 申請(qǐng)人:華泰電子股份有限公司
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