專利名稱：高壓處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種高壓處理設(shè)備，該設(shè)備可在例如制造半導(dǎo)體器件的過程中、特別是在處理晶片或用于液晶的基板的過程中進(jìn)行操作。
背景技術(shù)：
在這種常規(guī)的高壓處理設(shè)備中，對于蓋部件與壓力容器之間的密封部使用了徑向密封件，其中在高壓介質(zhì)下產(chǎn)生的軸向力由壓力機(jī)框架和柱承受(例如見公開號為No.2001-250821和No.2001-280856的未審查的日本專利申請)。另一方面，對于密封部使用了端面密封件，其中軸向力由例如液壓缸的壓力機(jī)設(shè)備來承受(例如，見公開號為No.7-502376的進(jìn)入日本的PCT專利申請，以及公開號為No.9-292181、No.10-335408和No.2001-96103的未審查的日本專利申請)。
在軸向密封形式的高壓處理設(shè)備的情況下，密封部的滑動運(yùn)動使得在其間產(chǎn)生了顆粒。
在端面密封形式的高壓處理設(shè)備的情況下，因?yàn)槊芊獠坎辉倩瑒?，所以產(chǎn)生很少的顆粒。因此，這種形式的高壓處理設(shè)備適用于半導(dǎo)體器件等的制造過程，其中顆粒的產(chǎn)生被嚴(yán)格的抑制。
另一方面，在制造半導(dǎo)體器件的過程中使用了用于攪動高壓處理設(shè)備中的過程流體的輔助設(shè)備(例如見公開號為No.11-87306的未審查的日本專利申請)。
存在一種對于設(shè)置有這種輔助設(shè)備的端面密封形式的高壓處理設(shè)備的需要。
但是，因?yàn)樯鲜鰤毫C(jī)設(shè)備通常使用在這種常規(guī)的端面密封形式的高壓處理設(shè)備中，所以存在著上述輔助設(shè)備不能設(shè)置在壓力容器外部的問題。
發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種端面密封形式的高壓處理設(shè)備，例如攪動裝置等的輔助設(shè)備安裝在該高壓處理設(shè)備上。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了以下裝置一種高壓處理設(shè)備，其包括包括第一容器部和第二容器部的壓力容器，該第一容器部和第二容器部可軸向彼此分離，以便在形成于所述第一容器部和第二容器部之間的高壓處理腔中使用高壓介質(zhì)來處理工件；形成在所述第一容器部和第二容器部之間的接觸區(qū)域中的端面密封部，以用于密封所述高壓處理腔；用于向該端面密封部提供軸向力的壓力機(jī)設(shè)備，所述壓力機(jī)設(shè)備這樣設(shè)置，以便通過接觸與所述第一容器部相對的所述第二容器部的表面的一部分來壓靠所述第二容器部；和用于改變所述高壓處理腔中的狀況的輔助設(shè)備，所述輔助設(shè)備這樣設(shè)置，以便與所述第二容器部的該表面的一部分相接觸，該表面由所述壓力機(jī)設(shè)備來施壓，并且該表面的所述部分不與所述壓力機(jī)設(shè)備接觸。
依據(jù)基于本發(fā)明的以上構(gòu)形，用于改變處理腔內(nèi)的狀況的該輔助設(shè)備設(shè)置在壓力機(jī)設(shè)備的空間中，由此減小了安裝所需的空間。
在這種情況下，輔助設(shè)備優(yōu)選為設(shè)置成與第二容器部同軸，或該第二容器部的表面的一部分形成為環(huán)形，該部分與壓力機(jī)設(shè)備接觸，并且該表面由該壓力機(jī)設(shè)備施壓。這種構(gòu)形使得可以以較高的效率來使用空間。
對于以上的輔助設(shè)備，使用了用于攪動第二容器部中的壓力介質(zhì)的攪動器；或用于移動凸臺的驅(qū)動設(shè)備，用于工件的凸臺設(shè)置在高壓處理腔中；或用于將壓力介質(zhì)供給到高壓處理腔中的導(dǎo)通管系統(tǒng)。
而且，該高壓處理設(shè)備可這樣設(shè)計(jì)成，即，間隔器單元插入到壓力機(jī)設(shè)備和第二容器部之間，并且壓力機(jī)設(shè)備通過該間隔器單元壓靠第二容器部。在這種情況下，可通過取出間隔器單元從而將該工件從高壓處理腔中取出。
以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例的描述并參照附圖，使得本發(fā)明的其它目的、特征和優(yōu)點(diǎn)更清晰地呈現(xiàn)出來。
圖1是本發(fā)明的實(shí)施例的高壓處理設(shè)備的側(cè)視圖及其部分剖視圖，其中該高壓處理設(shè)備是關(guān)閉的；圖2是圖1所示的高壓處理設(shè)備的側(cè)視圖及其部分剖視圖，其中該高壓處理設(shè)備是打開的；圖3是輔助設(shè)備的另一實(shí)施例的部分剖視圖；圖4是本發(fā)明的高壓處理設(shè)備的另一實(shí)施例的側(cè)視圖及其部分剖視圖，其中該高壓處理設(shè)備是關(guān)閉的；和圖5是圖4所示的高壓處理設(shè)備的側(cè)視圖及其部分剖視圖，其中該高壓處理設(shè)備是打開的。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)參照附圖，詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例。
在圖1中，高壓處理設(shè)備包括壓力容器1。壓力容器1包括可彼此軸向分離的第一容器部2和第二容器部3。用于放置工件的壓力處理腔4形成在第一容器部2和第二容器部3之間，并且用于密封該壓力處理腔4的端面密封部5形成在第一容器部2和第二容器部3之間的接觸表面中。
可通過連接到壓力容器1的一導(dǎo)通管(未示出)將壓力介質(zhì)供給到該壓力處理腔4中。在實(shí)施例中，液體用作該壓力介質(zhì)，并且半導(dǎo)體晶片或用于液晶的玻璃基板用作該工件。
壓力容器1由軸向力支承設(shè)備6以這樣一種方式來支承，即，使得第一容器部2和第二容器部3不彼此分離，并且壓力機(jī)設(shè)備7設(shè)置在該軸向力支承設(shè)備6和壓力容器1之間，該壓力機(jī)設(shè)備7用于向端面密封部5提供軸向力以防止高壓處理腔4中的壓力介質(zhì)從其間泄漏。
軸向力支承設(shè)備6包括上板8、下板9、和拉桿10，拉桿用于將上板8、下板9以不移動的方式彼此固定。該壓力機(jī)設(shè)備7設(shè)置在下板9的上表面上，并且壓力容器1被夾持在壓力機(jī)設(shè)備7的上表面和上板8的下表面之間。
第一容器部2形成為具有縱向軸向中心的柱狀。第一容器部2的上和下表面是平表面，該表面彼此平行，并且同心孔形成為朝向該下表面?zhèn)乳_口。
第一容器部2的上表面固定到在軸向力支承設(shè)備6中的上板8的下表面上。
第二容器部3也形成為具有縱向軸向中心的柱狀。該第二容器部3的上和下表面是平表面，該表面彼此平行，并且一向上突出的同心圓形臺階部形成在上表面上。
通過使該臺階部與該孔接合，高壓處理腔4形成在該臺階部的上表面和該孔的底表面之間。
通過將密封件11插入第一容器部2的下表面和第二容器部3的上表面之間的接觸區(qū)域中，從而使得端面密封部5形成于其中。
壓力容器1在外部設(shè)置有用于改變高壓處理腔4的狀況的輔助設(shè)備12。在第一實(shí)施例中，該輔助設(shè)備12在第二容器部3的下表面上安裝到該軸向中心上。
換言之，凸臺13設(shè)置在高壓處理腔4中，并且工件放置在該凸臺13上。凸臺13由軸14支承，該軸經(jīng)過第二容器部3的軸向中心。該軸14的下端連接到輔助設(shè)備12上。
也就是說，輔助設(shè)備12由用于向凸臺13提供旋轉(zhuǎn)或上下或振動運(yùn)動的驅(qū)動設(shè)備構(gòu)造成。該驅(qū)動設(shè)備優(yōu)選由電磁馬達(dá)等構(gòu)造成。
壓力容器1的下表面，即第二容器部3的下表面由壓力機(jī)設(shè)備7來支承。
壓力機(jī)設(shè)備7由具有預(yù)定尺寸的缸體構(gòu)造成，該缸體可沿軸向方向延伸。在壓力機(jī)設(shè)備7中，沿軸向中心方向經(jīng)過的空間15形成在對應(yīng)于壓力容器1的軸向中心的位置處。
輔助設(shè)備12置于該空間15中。
也就是說，壓力機(jī)設(shè)備7由環(huán)形活塞16和環(huán)形缸體17構(gòu)造成，該環(huán)形活塞16設(shè)置在下板9的上表面上，而環(huán)形缸體17可滑動沿垂直方向與該活塞16接合。在環(huán)形缸體17的中心處的中空空間形成該空間15，并且該輔助設(shè)備12設(shè)置在其中。
缸體17的上表面支承第二容器部3的下表面。缸體17的垂直運(yùn)動由導(dǎo)向件18來導(dǎo)向，該導(dǎo)向件置靠在下板9上。
用于壓力機(jī)設(shè)備7的缸體的形式是單向動作的，并且用于向缸體空間供給壓力介質(zhì)的導(dǎo)通管19連接到缸體17上。
通過經(jīng)導(dǎo)通管19引入高壓介質(zhì)，第二容器部3壓靠第一容器部2，以便壓靠端面密封部5提供壓制力，從而使在高壓處理腔4中產(chǎn)生的壓力由上板8和下板9來保持，上板8和下板9借助拉桿10彼此連接。
在壓力機(jī)設(shè)備7的缸體內(nèi)的環(huán)形空間沿水平方向的截面這樣設(shè)計(jì)，即，使得該截面大于高壓處理腔4的內(nèi)空間沿水平方向的截面。即，壓力機(jī)設(shè)備7可由工作壓力來支承，該工作壓力低于在高壓處理腔4中的壓力。
如圖2所示，來自缸體腔的壓力介質(zhì)的排出使得第二容器部3的垂直位置下降，從而使高壓處理腔4打開，由此使得可實(shí)施工件的取出/安裝。
在第一實(shí)施例中，輔助設(shè)備12可這樣形成，即，使得該輔助設(shè)備固定到環(huán)形缸體17上，或與單件形式的環(huán)形缸體成一體。而且，該環(huán)形缸體17和環(huán)形活塞16的位置可上下顛倒改變。第一容器部2和第二容器部3還可上下顛倒布置。在這種情況下，凸臺13和輔助設(shè)備12布置在處于下側(cè)的容器部中。當(dāng)然，整個(gè)系統(tǒng)也可上下顛倒設(shè)置。
圖3示出了本發(fā)明的另一實(shí)施例，在這種情況中，用于攪動高壓處理腔4中的壓力介質(zhì)的攪動器作為輔助設(shè)備12。
攪動器包括可旋轉(zhuǎn)地安裝在第二容器部3的軸向中心上的攪動器葉片20和用于使攪動器葉片20旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動部21。該驅(qū)動部21安裝在第二容器部3的下表面上，并且該驅(qū)動部21設(shè)置在壓力機(jī)設(shè)備7的空間15中。
另外，包括用于將壓力介質(zhì)引入高壓處理腔4中的管和閥的管系統(tǒng)用作輔助設(shè)備12，但該管系統(tǒng)未示出。
圖4和圖5示出了本發(fā)明的另一實(shí)施例。在這種情況中，間隔器單元22插入壓力機(jī)設(shè)備7和壓力容器1之間，以便通過將該間隔器單元22從其間取出從而將工件從高壓處理腔4內(nèi)取出。
也就是說，包括一對左和右間隔器的間隔器單元22可在圖4所示的狀態(tài)或圖5所示的狀態(tài)中移動。
在該實(shí)施例中，軸向力支承設(shè)備6由在中心處具有中空空間的封閉框架而形成。該壓力機(jī)設(shè)備7置于該封閉框架的下部的上表面上，第一容器部2的上表面固定到該框架上。
作為一對左和右間隔器的間隔器單元以這樣的方式安裝在壓力機(jī)設(shè)備7的上表面上，即，使得間隔器可由位移設(shè)備(未示出)沿水平方向來移動。而且，第二容器部3支承在間隔器單元22的上表面上，并且第二容器部3可隨提升設(shè)備(未示出)上下移動。
壓力機(jī)設(shè)備7由往復(fù)動作的缸體構(gòu)造成。即，環(huán)形缸體23放置在該框架的下部上，而環(huán)形活塞24與缸體23接合，使得該活塞沿垂直方向滑動地移動。間隔器單元22設(shè)置在活塞24的上表面上。該缸體23設(shè)置有用于供給壓力介質(zhì)以便沿垂直方向向上移動活塞24的孔25，以及用于供給壓力介質(zhì)以便沿垂直方向向下移動活塞24的另一孔26。
在該實(shí)施例中，用于改變高壓處理腔4中的狀況的輔助設(shè)備12在中心處也設(shè)置在壓力容器1的下表面上。該輔助設(shè)備12設(shè)置在壓力機(jī)設(shè)備7的空間15中。
依據(jù)以上的實(shí)施例，高壓處理設(shè)備是端面密封形式的，以便抑制顆粒的產(chǎn)生，使其少于徑向密封形式的高壓處理設(shè)備產(chǎn)生的顆粒。另外，用于改變高壓處理腔4中的狀況的輔助設(shè)備12可設(shè)置在壓力機(jī)設(shè)備的空間中，由此減小了處理設(shè)備所需的空間。
本發(fā)明不限于以上實(shí)施例。例如，可使用所謂的銷式壓力機(jī)設(shè)備以代替缸式壓力機(jī)設(shè)備。
盡管以上示出了并描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但是可在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)進(jìn)行各種變型和替代。因此，應(yīng)當(dāng)理解本發(fā)明以示例性方式來描述，而不是以限定性的方式來描述。
權(quán)利要求
1.一種高壓處理設(shè)備，其包括包括第一容器部和第二容器部的壓力容器，該第一容器部和第二容器部可軸向彼此分離，以便在形成于所述第一容器部和第二容器部之間的高壓處理腔中使用高壓介質(zhì)來處理工件；形成在所述第一容器部和第二容器部之間的接觸區(qū)域中的端面密封部，以用于密封所述高壓處理腔；用于向該端面密封部提供軸向力的壓力機(jī)設(shè)備，所述壓力機(jī)設(shè)備這樣設(shè)置，以便通過接觸與所述第一容器部相對的所述第二容器部的表面的一部分來壓靠所述第二容器部；和用于改變所述高壓處理腔中的狀況的輔助設(shè)備，所述輔助設(shè)備這樣設(shè)置，以便與所述第二容器部的該表面的一部分相接觸，該表面由所述壓力機(jī)設(shè)備來施壓，并且該表面的所述部分不與所述壓力機(jī)設(shè)備接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的高壓處理設(shè)備，其特征在于，所述輔助設(shè)備設(shè)置在所述第二容器部的軸向中心。
3.如權(quán)利要求1所述的高壓處理設(shè)備，其特征在于，所述輔助設(shè)備是用于攪動所述第二容器部中的壓力介質(zhì)的攪動器。
4.如權(quán)利要求1所述的高壓處理設(shè)備，其特征在于，所述輔助設(shè)備是用于移動凸臺的驅(qū)動設(shè)備，用于工件的所述凸臺設(shè)置在所述高壓處理腔中。
5.如權(quán)利要求1所述的高壓處理設(shè)備，其特征在于，所述輔助設(shè)備是用于將壓力介質(zhì)供給到所述高壓處理腔中的導(dǎo)通管系統(tǒng)。
6.如權(quán)利要求1所述的高壓處理設(shè)備，其特征在于，所述第二容器部的該表面的一部分是環(huán)形的形式，所述表面由所述壓力機(jī)設(shè)備來施壓，并且該表面與所述壓力機(jī)設(shè)備接觸。
7.如權(quán)利要求1所述的高壓處理設(shè)備，其特征在于，間隔器單元插入到所述壓力機(jī)設(shè)備和所述第二容器部之間，并且所述壓力機(jī)設(shè)備通過該間隔器單元壓靠所述第二容器部，以便該工件可通過取出所述間隔器單元從而從所述高壓處理腔中取出。
全文摘要
提供了一種用于將壓力介質(zhì)供給到高壓處理腔(4)中的高壓處理設(shè)備，該高壓處理腔形成在壓力容器(1)中以便處理工件。該壓力容器包括可軸向彼此分離的第一容器部(2)和第二容器部(3)，其中高壓處理腔形成于第一容器部和第二容器部之間。另外，用于緊密密封高壓處理腔的端面密封部(5)鄰接第一容器部和第二容器部而形成。設(shè)置有用于向該端面密封部提供軸向力的壓力機(jī)設(shè)備(7)，并且該壓力機(jī)設(shè)備在對應(yīng)于壓力容器的軸向中心的位置處具有用于放置例如攪動器等的輔助設(shè)備的空間。這種構(gòu)形實(shí)現(xiàn)了這樣一種端面密封形式的高壓處理設(shè)備，例如攪動器等的輔助設(shè)備安裝在該高壓處理設(shè)備上。
文檔編號H01L21/677GK1480993SQ0315264
公開日2004年3月10日 申請日期2003年8月4日 優(yōu)先權(quán)日2002年8月2日
發(fā)明者渡邊克充, 石井孝彥, 猿丸正悟, 山根秀士, 士, 彥, 悟 申請人:株式會社神戶制鋼所