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      具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉的制作方法

      文檔序號(hào):6830716閱讀:229來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明屬于光電子器件領(lǐng)域,更具體的說是一種具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉。
      背景技術(shù)
      半導(dǎo)體光放大器(SOA)具有增益譜寬、非線性系數(shù)高、功耗低和易于集成的優(yōu)點(diǎn),在全光網(wǎng)絡(luò)中不僅可以作為功率放大器、中繼放大器、前置放大器等增益器件,而且還是功能器件如光開關(guān)、波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換器的關(guān)鍵部分。目前半導(dǎo)體光放大器的封裝技術(shù)與半導(dǎo)體激光器、探測(cè)器的封裝技術(shù)相比還不成熟,需要進(jìn)一步完善。半導(dǎo)體光放大器的工作特性與半導(dǎo)體激光器、探測(cè)器相比主要有兩點(diǎn)不同即需要雙端耦合和較大的偏置電流。因此,在半導(dǎo)體光放大器的封裝設(shè)計(jì)中應(yīng)重點(diǎn)考慮光耦合效率和散熱的問題。目前,半導(dǎo)體光放大器的封裝采用的熱沉多是用無(wú)氧高電導(dǎo)銅(0xygen-free high conductivity)材料加工的“工”字型的熱沉。如圖1所示,其中1為“工”字型熱沉;2為半導(dǎo)體光放大器芯片。半導(dǎo)體光放大器芯片放在熱沉的垂直臂上,垂直臂的寬度小于或等于芯片的長(zhǎng)度。這種結(jié)構(gòu)雖然比較簡(jiǎn)單,但從芯片的有源區(qū)和端面產(chǎn)生的熱量,需要經(jīng)過狹長(zhǎng)的垂直臂沿?zé)岢羵鬏?,很明顯這種結(jié)構(gòu)在散熱方面有很大的制約,需要在能保證耦合效率的前提下,通過優(yōu)化其結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),進(jìn)一步改進(jìn)它的導(dǎo)熱特性。

      發(fā)明內(nèi)容
      為了克服傳統(tǒng)的半導(dǎo)體光放大器熱沉結(jié)構(gòu)在散熱性能的不足,本發(fā)明的目的在于提供一種具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,使用該結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的熱沉不僅可以仍能保證光纖與芯片的耦合效率,而且還能進(jìn)一步改善散熱能力,使其在幾百毫安的偏置電流下,仍能正常工作。
      本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是本發(fā)明是一種用于具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特性在于,其中包括一熱沉,該熱沉為一矩形,在該矩形的兩長(zhǎng)側(cè)邊切割開有兩個(gè)半圓形的缺口,該兩個(gè)半圓形的缺口之間為支撐臂。
      其中熱沉所采用的是無(wú)氧高電導(dǎo)銅或金剛石或銀或金或碳化硅或氧化鈹或氮化鋁材料。
      其中熱沉的上、下表面經(jīng)過磨平、拋光工藝處理。
      其中熱沉的上、下表面經(jīng)過鍍金工藝處理。
      其中支撐臂的最小寬度等于半導(dǎo)體光放大器芯片的長(zhǎng)度。
      本發(fā)明的有益效果是熱沉采用兩個(gè)關(guān)于光纖耦合的豎直方向?qū)ΨQ雙圓弧結(jié)構(gòu),而且雙圓弧間的最短距離等于芯片長(zhǎng)度,這種結(jié)構(gòu)有如下優(yōu)點(diǎn)1、與傳統(tǒng)的熱沉結(jié)構(gòu)相比,芯片兩側(cè)的熱沉的橫截面積明顯增大,因此半導(dǎo)體光放大器工作過程中有源區(qū)和端面產(chǎn)生的熱量,可以通過這種雙圓弧結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更充分地向側(cè)向傳播,從而改善了熱沉的散熱能力;而且,本發(fā)明考慮到半導(dǎo)體光放大器的出射端面的光強(qiáng)大,所以產(chǎn)生的熱量比有源區(qū)的其它部位多,所以選擇支撐臂4的最小寬度等于半導(dǎo)體光放大器芯片的長(zhǎng)度。
      2、從半導(dǎo)體光放大器芯片出射的光束通常具有一定的發(fā)散角,這種雙圓弧的熱沉設(shè)計(jì)與傳統(tǒng)的熱沉結(jié)構(gòu)相比,沒有阻擋光線傳播;另外,在半導(dǎo)體光放大器的封裝中,通常采用兩根鍍膜的錐形光纖從芯片的兩側(cè)進(jìn)行光耦合,這種雙圓弧的熱沉結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)一樣,沒有增加光纖耦合的難度,所以不會(huì)降低封裝的光耦合效率。


      為進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容,以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明,其中圖1是現(xiàn)有半導(dǎo)體放大器熱沉的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本發(fā)明的熱沉的俯視圖;圖3是圖2的側(cè)視圖。
      具體實(shí)施例方式
      請(qǐng)參閱圖2和圖3,在圖2和圖3的實(shí)施例中,一種用于具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其中包括一熱沉1,該熱沉1為一矩形,在該矩形的兩長(zhǎng)側(cè)邊切割開有兩個(gè)半圓形的缺口2、3,該兩個(gè)半圓形的缺口2、3之間為支撐臂4。
      其中熱沉1所采用的是無(wú)氧高電導(dǎo)銅或金剛石或銀或金或碳化硅或氧化鈹或氮化鋁材料。
      其中熱沉1的上、下表面經(jīng)過磨平、拋光工藝處理。
      其中熱沉1的上、下表面經(jīng)過鍍金工藝處理。
      其中支撐臂4的最小寬度等于半導(dǎo)體光放大器芯片的長(zhǎng)度。
      本發(fā)明的有益效果是熱沉采用兩個(gè)關(guān)于光纖耦合的豎直方向?qū)ΨQ雙圓弧結(jié)構(gòu),而且雙圓弧間的最短距離等于芯片長(zhǎng)度,這種結(jié)構(gòu)有如下優(yōu)點(diǎn)1、與傳統(tǒng)的熱沉結(jié)構(gòu)相比,芯片兩側(cè)的熱沉的橫截面積明顯增大,因此半導(dǎo)體光放大器工作過程中有源區(qū)和端面產(chǎn)生的熱量,可以通過這種雙圓弧結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更充分地向側(cè)向傳播,從而改善了熱沉的散熱能力;而且,本發(fā)明考慮到半導(dǎo)體光放大器的出射端面的光強(qiáng)大,所以產(chǎn)生的熱量比有源區(qū)的其它部位多,所以選擇支撐臂4的最小寬度等于半導(dǎo)體光放大器芯片的長(zhǎng)度。
      2、從半導(dǎo)體光放大器芯片出射的光束通常具有一定的發(fā)散角,這種雙圓弧的熱沉設(shè)計(jì)與傳統(tǒng)的熱沉結(jié)構(gòu)相比,沒有阻擋光線傳播;另外,在半導(dǎo)體光放大器的封裝中,通常采用兩根鍍膜的錐形光纖從芯片的兩側(cè)進(jìn)行光耦合,這種雙圓弧的熱沉結(jié)構(gòu)與傳統(tǒng)的設(shè)計(jì)一樣,沒有增加光纖耦合的難度,所以不會(huì)降低封裝的光耦合效率。
      權(quán)利要求
      1.一種具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特性在于,其中包括一熱沉,該熱沉為一矩形,在該矩形的兩長(zhǎng)側(cè)邊切割開有兩個(gè)半圓形的缺口,該兩個(gè)半圓形的缺口之間為支撐臂。
      2.如權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特征在于,其中熱沉所采用的是無(wú)氧高電導(dǎo)銅或金剛石或銀或金或碳化硅或氧化鈹或氮化鋁材料。
      3.如權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特征在于,其中熱沉的上、下表面經(jīng)過磨平、拋光工藝處理。
      4.如權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特征在于,其中熱沉的上、下表面經(jīng)過鍍金工藝處理。
      5.如權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特征在于,其中支撐臂的最小寬度等于半導(dǎo)體光放大器芯片的長(zhǎng)度。
      全文摘要
      一種具有傾斜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體光放大器封裝用的熱沉,其特性在于,其中包括一熱沉,該熱沉為一矩形,在該矩形的兩長(zhǎng)側(cè)邊切割開有兩個(gè)半圓形的缺口,該兩個(gè)半圓形的缺口之間為支撐臂。使用該結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的熱沉不僅可以仍能保證光纖與芯片的耦合效率,而且還能進(jìn)一步改善散熱能力,使其在幾百毫安的偏置電流下,仍能正常工作。
      文檔編號(hào)H01S5/024GK1700539SQ20041004326
      公開日2005年11月23日 申請(qǐng)日期2004年5月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月20日
      發(fā)明者劉超, 袁海慶, 祝寧華 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所
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