專利名稱：感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)和圖像記錄裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)和圖像記錄裝置。
背景技術(shù)：
在把感光性板狀構(gòu)件安放在臺(tái)架(stage)上，記錄所需的圖案等的圖像記錄裝置中，有在臺(tái)架的安放面上形成多個(gè)吸附孔，通過負(fù)壓吸附保持安放在安方面上的感光性板狀構(gòu)件的構(gòu)成。
可是，一般從安放在安放面上感光性板狀構(gòu)件的周圍，存在所謂的空氣泄漏，所以為了取得充分的吸附力，需要更大的真空泵或吹風(fēng)機(jī)等裝置。
此外，在該構(gòu)成中，在成為圖像記錄的對象的多個(gè)尺寸的感光性板狀構(gòu)件中，配合最大尺寸的感光性板狀構(gòu)件，使多個(gè)吸附孔分散在安放面的寬闊范圍中，所以當(dāng)吸附更小尺寸的感光性板狀構(gòu)件時(shí)，位于感光性板狀構(gòu)件的外側(cè)的吸附孔不被感光性板狀構(gòu)件堵塞，空氣從這里流入，所以吸附臺(tái)架內(nèi)部的壓力上升，有可能無法取得充分的吸附力。
為了消除這樣的問題，考慮到用薄膜等覆蓋位于感光性板狀構(gòu)件的外側(cè)區(qū)域的未使用的吸附孔的方法。可是，在該方法中，有必要按照感光性板狀構(gòu)件尺寸不同，準(zhǔn)備與此對應(yīng)的形狀的薄膜，貼在安放面上，花費(fèi)工夫。
對此，例如在專利文獻(xiàn)1中，描述了配合感光性板狀構(gòu)件即襯底(基板)的尺寸，把臺(tái)架內(nèi)劃分為多個(gè)吸附區(qū)，分割管道，配合襯底尺寸切換吸引泵，用比襯底尺寸更小的吸附區(qū)吸附的構(gòu)成的曝光裝置?？墒?，在該構(gòu)成中，臺(tái)架內(nèi)的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜，并且限制了能對應(yīng)的襯底尺寸。
此外，在專利文獻(xiàn)2中，描述了通過隔膜或筒狀彈性體的變形關(guān)閉而構(gòu)成的吸附保持裝置?？墒?，在該構(gòu)成中，用臺(tái)架內(nèi)的負(fù)壓使隔膜或筒狀彈性體變形，所以為了關(guān)閉未使用的吸附孔，有必要作用吸引力，無法有效利用基于臺(tái)架內(nèi)的負(fù)壓的吸引力。
特開平6-355279號公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]特開平3-73289號公報(bào)發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明考慮所述事實(shí)，其目的在于用簡單的構(gòu)成，取得即使是不同尺寸的感光性板狀構(gòu)件，也能有效利用基于負(fù)壓的吸引力，可靠地吸附在臺(tái)架上的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)和具有該感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)的圖像記錄裝置。
在發(fā)明1中，其特征在于包括能把感光性板狀構(gòu)件安放在安放面上的臺(tái)架；形成在所述安放面上，用于吸附安放的感光性板狀構(gòu)件的多個(gè)吸附孔；與所述多個(gè)吸附孔分別對應(yīng)設(shè)置，能在開放吸附孔的開放位置和閉塞吸附孔的閉塞位置之間移動(dòng)的開閉構(gòu)件；使所述各移動(dòng)構(gòu)件在所述安放面上安放了感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔，為開放位置，在安放面上未安放感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔，向閉塞位置移動(dòng)的移動(dòng)部件。
在該感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)中，臺(tái)架的多個(gè)吸附孔中，在安放感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔中，通過移動(dòng)部件，開閉構(gòu)件向開放位置移動(dòng)，吸附孔開放。因此，通過臺(tái)架內(nèi)的負(fù)壓能吸引感光性板狀構(gòu)件。而在未安放感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔中，通過移動(dòng)部件，開閉構(gòu)件向閉塞位置移動(dòng)，使吸附孔閉塞。因此，空氣不會(huì)隨意從感光性板狀構(gòu)件的外側(cè)的未使用的吸附孔流入，例如即使使用小的吸引裝置時(shí)，也能可靠吸附感光性板狀構(gòu)件。開閉構(gòu)件根據(jù)感光性板狀構(gòu)件向安放面的安放或不安放，開閉該區(qū)域的吸附孔，所以沒必要為了吸附孔的開閉而利用臺(tái)架內(nèi)的負(fù)壓，能為了感光性板狀構(gòu)件的吸附，有效利用基于負(fù)壓的吸引力。此外，開閉部件因?yàn)橹婚_放安放感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔，所以能與不同尺寸的感光性板狀構(gòu)件對應(yīng)吸附。在臺(tái)架內(nèi)沒必要設(shè)置與感光性板狀構(gòu)件尺寸匹配的吸附區(qū)或管道，所以結(jié)構(gòu)不會(huì)變得復(fù)雜。
在發(fā)明2中，根據(jù)發(fā)明1，其特征在于所述移動(dòng)部件包括設(shè)置在所述開閉構(gòu)件上，在開閉構(gòu)件的閉塞位置從安放面突出，在開放位置由感光性板狀構(gòu)件按壓，后退到吸附孔內(nèi)的被按壓部；使所述開閉構(gòu)件施力閉塞位置的施力部件。
因此，在不安放感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔中，通過施力(賦能)構(gòu)件，把開閉構(gòu)件施力于閉塞位置，被按壓部從安放面突出。如果安放感光性板狀構(gòu)件，則在該區(qū)域的吸附孔中，被突出部由感光性板狀構(gòu)件按壓，抵抗施力構(gòu)件的施力力，向吸附孔內(nèi)后退，開閉構(gòu)件變?yōu)殚_放位置。這樣，通過施力構(gòu)件使開閉構(gòu)件施力開放位置，能把不吸附感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔維持在閉塞位置。此外，用在閉塞構(gòu)件上設(shè)置被按壓部的簡單構(gòu)成，在安放感光性板狀構(gòu)件的狀態(tài)下，能使閉塞構(gòu)件向開放位置移動(dòng)。
在發(fā)明3中，根據(jù)發(fā)明2，其特征在于所述開閉構(gòu)件的移動(dòng)方向?yàn)榕c通過臺(tái)架內(nèi)的負(fù)壓作用于開閉構(gòu)件上的力正交的方向。
因此，當(dāng)臺(tái)架內(nèi)為負(fù)壓時(shí)，使開閉構(gòu)件移動(dòng)的力作用，開閉構(gòu)件也不會(huì)隨便移動(dòng)，所以能把開閉構(gòu)件可靠地維持在閉塞位置。
在發(fā)明4中，其特征在于包括發(fā)明1～3中的任意一項(xiàng)所述的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)；在通過所述感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)吸附在安放面上的感光性板狀構(gòu)件上記錄圖像的圖像記錄部件。
因?yàn)榫哂邪l(fā)明1～3中的任意一項(xiàng)所述的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)，所以用簡單的構(gòu)成，并且無論感光性板狀構(gòu)件的尺寸，都能可靠吸附感光性板狀構(gòu)件。
在臺(tái)架的安放面上吸附感光性板狀構(gòu)件的狀態(tài)下，能通過圖像記錄部件記錄圖像。
在發(fā)明5中，根據(jù)發(fā)明4，其特征在于所述圖像記錄部件為對感光性板狀構(gòu)件照射激光，進(jìn)行圖像記錄的激光記錄部件。
這樣，通過激光記錄部件對感光性板狀構(gòu)件照射激光，能以高速和高精度記錄圖像。


圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的圖像記錄裝置的外觀的立體圖。
圖2是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的圖像記錄裝置的掃描儀的構(gòu)成的立體圖。
圖3(A)是表示形成在感光材料上的曝光完畢區(qū)域的平面圖，(B)是表示基于各曝光頭的曝光區(qū)的排列的圖。
圖4是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的曝光頭概略構(gòu)成的立體圖。
圖5(A)是表示圖4所示的曝光頭的構(gòu)成的沿著光軸的副掃描方向的剖面圖，(B)是(A)的側(cè)面圖。
圖6是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的曝光頭的數(shù)字微反射鏡器件(DMD)的構(gòu)成的局部放大圖。
圖7(A)和(B)是用于說明本發(fā)明實(shí)施方式1的曝光頭的DMD動(dòng)作的說明圖。
圖8是表示具有本發(fā)明實(shí)施方式1的襯底吸附機(jī)構(gòu)的臺(tái)架的剖面圖。
圖9是表示本發(fā)明實(shí)施方式1的襯底吸附機(jī)構(gòu)的剖面圖，(A)是未安放襯底的狀態(tài)，(B)是安放襯底的狀態(tài)。
圖10是表示本發(fā)明實(shí)施方式2的襯底吸附機(jī)構(gòu)的剖面圖，(A)是未安放襯底的狀態(tài)，(B)是安放襯底的狀態(tài)。
圖11是表示本發(fā)明實(shí)施方式3的襯底吸附機(jī)構(gòu)的剖面圖。
圖12是為說明用基于掃描儀的一次掃描把感光材料曝光的曝光方式的平面圖。
圖13(A)和(B)是為說明用基于掃描儀的多次掃描把感光材料曝光的曝光方式的平面圖。
圖中，LD1～LD7-GaN類半導(dǎo)體激光器；102-圖像記錄裝置；104-襯底吸附機(jī)構(gòu)(感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu))；150-襯底(感光性板狀構(gòu)件)；152-臺(tái)架；152P-安放面；166-曝光頭；172-吸附孔；176-氣缸構(gòu)件(移動(dòng)構(gòu)件)；178-活塞構(gòu)件(開閉構(gòu)件)；178T-頂端部(被按壓部，移動(dòng)部件)；182-壓縮盤簧(施力部件，移動(dòng)部件)；188-牽線(卷出裝置)；204-襯底吸附機(jī)構(gòu)(感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu))；304-襯底吸附機(jī)構(gòu)(感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu))。
具體實(shí)施例方式
在圖8和圖9中表示本發(fā)明實(shí)施方式1的襯底吸附機(jī)構(gòu)104。此外，圖1表示具有該襯底吸附機(jī)構(gòu)104的圖像記錄裝置102。
該圖像記錄裝置102是所謂的平頭型的圖像記錄裝置，如圖1所示，備有把感光性板狀構(gòu)件的一例即襯底150吸附保持在表面(安放面152P)上的臺(tái)架152。在由四個(gè)腳部154支撐的板狀底板156的上表面上設(shè)置有沿著臺(tái)架移動(dòng)方向延伸的兩條導(dǎo)軌158。臺(tái)架152配置為其長度方向向著臺(tái)架移動(dòng)方向，并且被支撐為能通過導(dǎo)軌158往返移動(dòng)。而且，在該圖像記錄裝置中設(shè)置有用于沿著導(dǎo)軌158驅(qū)動(dòng)臺(tái)架152的未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置，如后所述，由未圖示的控制器進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，從而變?yōu)樵趻呙璺较虻乃璧囊苿?dòng)速度。
在底板156的中央部，跨臺(tái)架152的移動(dòng)路線設(shè)置門160。コ字狀的門160的端部分別固定在底板156的兩個(gè)側(cè)面上。隔著門160，在一方一側(cè)設(shè)置掃描儀162，在另一方一側(cè)設(shè)有檢測襯底150的頂端和后端的多個(gè)(例如2個(gè))檢測傳感器164。掃描儀162和檢測傳感器164分別安裝在門160上，固定在臺(tái)架152的移動(dòng)路線的上方。另外，掃描儀162和檢測傳感器164連接在控制它們的未圖示的控制器上，如后所述，在由曝光頭166曝光時(shí)，控制為在所定的定時(shí)曝光。
此外，檢測傳感器164具有1次的發(fā)光時(shí)間極短的閃光燈(省略圖示)，設(shè)定感光靈敏度，從而只在該閃光燈的發(fā)光時(shí)能進(jìn)行攝像。
檢測傳感器164在臺(tái)架152通過其正下方的攝像位置時(shí)，在所定的定時(shí)使閃光燈發(fā)光，通過接收來自該閃光燈的光的反射光，分別拍攝包含形成在襯底150上的對準(zhǔn)標(biāo)記的攝像范圍。此外，檢測傳感器164能按照對準(zhǔn)標(biāo)記的位置等調(diào)整沿著寬度方向的位置。
此外，掃描儀162被支撐為能通過門160沿著掃描方向調(diào)整位置。據(jù)此，能在所定的范圍內(nèi)調(diào)整基于檢測傳感器164的攝像位置和基于掃描儀162的曝光位置的距離。
掃描儀162如圖2和圖3(B)所示，具有排列為m行n列(例如，3行5列)的近似矩陣狀的多個(gè)曝光頭166。在本例子中，根據(jù)與襯底150的寬度的關(guān)系，在第一行和第二行配置5個(gè)曝光頭166，在第三行配置4個(gè)曝光頭166，全體為14個(gè)。而且，當(dāng)表示配置在第m行的第n列的各曝光頭時(shí)，表示為曝光頭166mn。
基于曝光頭166的曝光區(qū)168在圖2中是以掃描方向?yàn)槎踢叺木匦危⑶覍τ陬^排列方向，以所定的傾斜角傾斜。而且，伴隨著臺(tái)架152的移動(dòng)，在襯底150上，按各曝光頭166形成帶狀的曝光完畢區(qū)域170。另外，當(dāng)表示基于配置在第m行的第n列的各曝光頭的曝光區(qū)時(shí)，表示為曝光區(qū)168mn。
此外，如圖3(A)和(B)所示，排列為線狀的各行的曝光頭分別在頭排列方向錯(cuò)開所定間隔配置，從而使帶狀的曝光完畢區(qū)域170分別與相鄰的曝光完畢區(qū)域170局部重疊。因此，第一行的曝光區(qū)16811和曝光區(qū)16812之間的無法曝光的部分能通過第二行的曝光區(qū)16821和第三行的曝光區(qū)16831曝光。
曝光頭16611～166mn如圖4、圖5(A)以及(B)所示，按照圖像數(shù)據(jù)，作為按各像素調(diào)制入射的光束的空間光調(diào)制元件，具有數(shù)字微反射鏡器件(DMD)50。該DMD50連接在具有數(shù)據(jù)處理部和反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部的未圖示的控制器上。在控制器的數(shù)據(jù)處理部中，根據(jù)輸入的圖像數(shù)據(jù)，為各曝光頭166生成驅(qū)動(dòng)控制DMD50的應(yīng)該控制的區(qū)域內(nèi)的各微反射鏡的控制信號。
此外，在反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部中，根據(jù)由圖像數(shù)據(jù)處理部生成的控制信號，按各曝光頭166控制DMD50的各微反射鏡的反射面的角度。
在DMD50的光入射一側(cè)，按順序配置光纖的出射端部(發(fā)光點(diǎn))沿著與曝光區(qū)168的長邊方向?qū)?yīng)的方向排列為一列的具有激光出射部的光纖陣列光源66；修正從光纖陣列光源66出射的激光，聚光到DMD上的透鏡組67；把透射透鏡組67的激光向DMD50反射的反射鏡69。
透鏡組67由把從光纖陣列光源66出射的激光變?yōu)槠叫泄獾囊粚M合透鏡71、把變?yōu)槠叫泄獾募す獾墓饬糠植夹拚秊榫鶆虻囊粚M合透鏡73，把修正了光量分布的激光聚光到DMD上的聚光透鏡75構(gòu)成。組合透鏡73具有對于激光出射端的排列方向，靠近透鏡光軸的部分把光束擴(kuò)展，并且遠(yuǎn)離光軸的部分把光束收縮，并且對于與排列方向正交的方向，使光原封不動(dòng)地通過的功能，把激光修正為光量分布均勻。
此外，在DMD50的光反射一側(cè)，配置把由DMD50反射的激光在襯底150的掃描面(被曝光面)上成像的透鏡組54、58。
在本實(shí)施方式中，從光纖陣列光源66出射的激光實(shí)質(zhì)上放大到5倍后，各像素通過這些透鏡組54、58設(shè)定為收縮到約5μm。
DMD50如圖6所示，在SRAM(存儲(chǔ)單元)60上，微小反射鏡(微反射鏡)62由支柱支撐，是把構(gòu)成像素的多個(gè)(例如間隔13.68μm，102個(gè)×768個(gè))微小反射鏡排列為格子狀而構(gòu)成的反射鏡器件。在各像素中，在最上部設(shè)置由支柱支撐的微反射鏡62，在微反射鏡62的表面蒸鍍鋁等反射率高的材料。而且，微反射鏡62的反射率為90％以上。此外，在微反射鏡62的正下方通過包含鉸鏈和軛的支柱配置由通常的半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的生產(chǎn)線制造的硅柵的CMOS的SRAM單元60，全體構(gòu)成為單片(一體型)。
如果對DMD50的SRAM單元60寫入數(shù)字信號，則由支柱支撐的微反射鏡62以對角線為中心，對于配置DMD50的襯底一側(cè)在±α度(例如±10度)的范圍中傾斜。圖7(A)表示微反射鏡62傾斜為工作狀態(tài)的+α度的狀態(tài)，圖7(B)表示微反射鏡62傾斜為不工作狀態(tài)的-α度的狀態(tài)。因此，通過按照圖像信號，如圖6所示那樣控制DMD50的各像素的微反射鏡62的傾斜，入射到DMD50的光反射到各微反射鏡62的傾斜方向。
而且，在圖6中把DMD50的一部分放大，表示微反射鏡62被控制在+α度或-α度的狀態(tài)的一例。各微反射鏡62的工作不工作控制由連接在DMD50上的未圖示的控制器進(jìn)行。在由不工作狀態(tài)的微反射鏡62反射光束的方向配置有光吸收體(未圖示)。
圖8表示本實(shí)施方式的臺(tái)架152。該臺(tái)架152形成為中空的扁平箱狀，上表面為安放襯底150的安放面152P。安放面152P的尺寸為即使是成為圖像記錄裝置102的圖像記錄對象的最大襯底，也能安放的尺寸。下面，把在本實(shí)施方式的圖像記錄裝置102中成為圖像記錄對象的最大尺寸的襯底稱為“最大尺寸襯底”，把最小尺寸的襯底稱為“最小尺寸襯底”。
在安放面152P上形成有多個(gè)吸附孔172(在本實(shí)施方式中，在臺(tái)架移動(dòng)方向?yàn)?個(gè)，在與它正交的臺(tái)架寬度方向?yàn)?個(gè)的矩陣狀，合計(jì)49個(gè))。在臺(tái)架152上通過管路174連接未圖示的吸引裝置(例如真空泵)，使臺(tái)架152內(nèi)為負(fù)壓，并且能從吸附孔172吸引空氣。當(dāng)由安放在安放面152P上的襯底150覆蓋著吸附孔172時(shí)，吸附襯底150。吸附孔172配置為覆蓋能可靠吸引最大尺寸襯底的寬闊范圍，并且即使是最小尺寸襯底，也成為能可靠吸引的面密度。
如圖9(A)和(B)所示，在臺(tái)架152內(nèi)，與各吸附孔172分別對應(yīng)，安裝有底圓筒狀的氣缸構(gòu)件176。在氣缸構(gòu)件176的側(cè)面形成連通孔176H，氣缸構(gòu)件176的內(nèi)部和外部(臺(tái)架152內(nèi))連通著。
在氣缸構(gòu)件176內(nèi)收藏有活塞構(gòu)件178，它能在軸向移動(dòng)，進(jìn)行密封，使它們之間空氣不會(huì)隨便流通。氣缸構(gòu)件176的底板176B和活塞構(gòu)件178的底面178B之間為彈簧室179，在該彈簧室179內(nèi)，固定在底板176B上的壓縮盤簧182使活塞構(gòu)件178施力從安放面152P突出的方向(向上)。
活塞構(gòu)件178具有安放面152P一側(cè)的小直徑部178S和氣缸構(gòu)件176的底板176B一側(cè)的大直徑部178L，如圖9(A)所示，通過壓縮盤簧182的施力力，小直徑部178S的一部分從安放面152P突出。而如圖9(B)所示，決定活塞構(gòu)件178的長度，如果對抗壓縮盤簧182的施力力，活塞構(gòu)件178向下方移動(dòng)，則小直徑部178S的頂端178T與安放面152P成為一個(gè)面(或比安放面152P更進(jìn)入氣缸構(gòu)件176內(nèi))。而且，壓縮盤簧182的施力力(彈力)為在安放面152P上安放了襯底152時(shí)，通過作用于一個(gè)活塞構(gòu)件178的負(fù)載，能充分壓縮的程度。
此外，小直徑部178S和大直徑部178L如圖9(A)所示，決定各自的長度，從而在小直徑部178S從安放面152P突出的狀態(tài)下，大直徑部178L閉塞連通孔176H，如圖9(B)所示，在小直徑部178S的頂端178T與安放面152P成為一個(gè)面的狀態(tài)下，通過小直徑部178S開放連通孔176H。因此，大直徑部178L閉塞連通孔176H的狀態(tài)為活塞構(gòu)件的閉塞位置，通過小直徑部178S開放連通孔176H的狀態(tài)為活塞構(gòu)件178的開放位置。
在活塞構(gòu)件178的中心，沿著軸向形成通氣孔180，在小直徑部178S上形成與通氣孔180正交的通氣孔182。通過這些通氣孔，活塞構(gòu)件178的外部以及活塞構(gòu)件178和氣缸構(gòu)件176之間連通著。
下面說明本實(shí)施方式的作用。
為了在襯底150上記錄圖像，首先在臺(tái)架152的安放面152P上安放襯底150。按照襯底150的尺寸，在活塞構(gòu)件178的一部分或全部上作用襯底150的負(fù)載。
襯底150的負(fù)載不作用的活塞構(gòu)件178如圖9(B)所示，通過壓縮盤簧182的施力力變?yōu)殚]塞位置。因此，空氣不會(huì)通過吸附孔172在臺(tái)架152的內(nèi)部和外部流通。
與此相對，在安放了襯底150的活塞構(gòu)件178中，通過襯底150的負(fù)載(或輸送安放襯底150時(shí)的按壓力)，如圖9(A)所示，抵抗壓縮盤簧182的施力力按壓，到達(dá)開放位置。另外，這時(shí)通過通氣孔180、182，彈簧室179內(nèi)的空氣排出到外部(可以是臺(tái)架152的內(nèi)部，也可以是外部)，所以在活塞構(gòu)件178的移動(dòng)中不產(chǎn)生基于彈簧室179的空氣壓的阻力。
在該狀態(tài)下，驅(qū)動(dòng)未圖示的吸引裝置，使臺(tái)架152的內(nèi)部為負(fù)壓。因?yàn)榘卜乓r底150的區(qū)域的吸附孔172開放，所以通過基于負(fù)壓的吸引力吸引襯底150。而襯底150的外側(cè)的區(qū)域的吸附孔172由活塞構(gòu)件178閉塞，所以不會(huì)從活塞構(gòu)件172隨便吸引空氣。因此，例如即使使用小型的吸引裝置時(shí)，也能可靠吸引襯底150。
此外，因?yàn)橹挥邪卜帕艘r底150的區(qū)域的吸附孔172被開放，所以無論襯底150的尺寸如何，都能在臺(tái)架152的安放面152P上吸附襯底150。在臺(tái)架152內(nèi)沒必要設(shè)置與襯底尺寸對應(yīng)的吸附區(qū)或管道，所以結(jié)構(gòu)不會(huì)變得復(fù)雜。
另外，在使臺(tái)架152內(nèi)為負(fù)壓的狀態(tài)下，臺(tái)架152內(nèi)的負(fù)壓作用于活塞構(gòu)件178，但是連通孔176H形成在氣缸構(gòu)件176的側(cè)面，所以該負(fù)壓作用于與活塞構(gòu)件178的移動(dòng)方向(上下方向)正交的方向。因此，受到負(fù)壓的活塞構(gòu)件178不會(huì)抵抗壓縮盤簧182的施力力，無準(zhǔn)備地向開放位置移動(dòng)，可靠地維持在閉塞位置。
此外，位于開放位置的活塞構(gòu)件178的頂端178T并不一定與安放面152P變?yōu)辇R平(同一水平)面，與襯底150接觸，即使頂端178T與襯底150變?yōu)榉墙佑|，也能吸附。
這樣把襯底150吸附在安放面152P上的臺(tái)架152，通過未圖示的驅(qū)動(dòng)裝置，以一定速度沿著導(dǎo)軌158，從門160的上游一側(cè)向下游一側(cè)移動(dòng)。
如果對準(zhǔn)標(biāo)記到達(dá)檢測傳感器164的攝像位置，未圖示的控制器就使閃光燈發(fā)光，通過檢測傳感器164拍攝包含對準(zhǔn)標(biāo)記的攝像區(qū)域。這時(shí)，由檢測傳感器164取得的攝像信息向圖像處理部輸出，圖像處理部把攝像信息變換為與對準(zhǔn)標(biāo)記的沿著掃描方向和寬度方向的位置對應(yīng)的位置信息，把該位置信息向控制器輸出。
控制器根據(jù)來自圖像處理部的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息，分別判斷與一個(gè)描畫區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置的多個(gè)對準(zhǔn)標(biāo)記的位置，從這些對準(zhǔn)標(biāo)記的位置分別判斷描畫區(qū)域的沿著掃描方向和寬度方向的位置和描畫區(qū)域?qū)τ趻呙璺较虻膬A斜量。
然后，控制器根據(jù)描畫區(qū)域的沿著掃描方向的位置，計(jì)算對于描畫區(qū)域的曝光開始的定時(shí)，并且根據(jù)描畫區(qū)域的沿著寬度方向的為和相對于掃描方向的傾斜量，執(zhí)行相對于與描畫圖案對應(yīng)的圖像信息的變換處理，把變換處理的圖像信息存儲(chǔ)在幀存儲(chǔ)器內(nèi)。這里，作為變換處理的內(nèi)容，包含以坐標(biāo)原點(diǎn)為中心，使圖像信息旋轉(zhuǎn)的坐標(biāo)變換處理；沿著與寬度方向?qū)?yīng)的坐標(biāo)軸使圖像信息平行移動(dòng)的坐標(biāo)變換處理。進(jìn)而根據(jù)需要，控制器執(zhí)行與掃描區(qū)域的沿著寬度方向和掃描方向伸長量和縮小量對應(yīng)，使圖像信息伸長或縮小的變換處理。
而且，控制器與描畫區(qū)域的頂端到達(dá)曝光位置的定時(shí)同步，把曝光開始信號向掃描儀控制部輸出。據(jù)此，掃描儀控制部按每次多行讀出存儲(chǔ)在幀存儲(chǔ)器中的圖像信息，根據(jù)由數(shù)據(jù)處理部讀出的圖像信息，為各曝光頭166生成控制信號，根據(jù)由反射鏡驅(qū)動(dòng)控制部生成的控制信號，為各曝光頭166控制DMD50的各微反射鏡的工作和不工作。
如果從光纖陣列光源66對DMD50照射激光，則DMD50的微反射鏡為工作狀態(tài)時(shí)反射的激光通過透鏡組54、58成像在襯底150的被曝光面上。這樣，從光纖陣列光源66出射的激光按像素工作和不工作，襯底150的描畫區(qū)域以與DMD50的使用像素?cái)?shù)大致相同的像素單位曝光。此外，襯底150通過以一定速度與臺(tái)架152一起移動(dòng)，襯底150通過掃描儀162向與臺(tái)架移動(dòng)方向相反的方向副掃描，為按各曝光頭166每一個(gè)形成帶狀的曝光完畢區(qū)域170(參照圖2和圖3(A))。
圖像記錄結(jié)束后，如果解除臺(tái)架152內(nèi)的負(fù)壓，變?yōu)榇髿鈮?，則彈簧室179的空氣通過通氣孔180、182流入，所以如果從安放面152P除去襯底150，則通過壓縮盤簧182的施力力，活塞構(gòu)件178向閉塞位置移動(dòng)，閉塞吸附孔172。
圖10表示本發(fā)明實(shí)施方式2的襯底吸附機(jī)構(gòu)204。在實(shí)施方式2中，圖像記錄裝置的基本構(gòu)成與實(shí)施方式1相同，所以省略詳細(xì)的說明。下面，對于與實(shí)施方式1相同的構(gòu)成要素、構(gòu)件等，付與相同的符號，省略詳細(xì)的說明。
在實(shí)施方式2中，氣缸構(gòu)件176的底板176B與臺(tái)架152的底板150B為同一面，露出到臺(tái)架152的外部。而且，代替實(shí)施方式1的通氣孔180、182，在底板176B上形成通氣孔206。
因此，在實(shí)施方式2中，能使彈簧室179的空氣通過通氣孔206與外部流通。在實(shí)施方式1中，需要兩個(gè)通氣孔180、182，而在實(shí)施方式2中，只用一個(gè)通氣孔206，能使結(jié)構(gòu)單純化。
圖11表示本發(fā)明實(shí)施方式3的襯底吸附機(jī)構(gòu)304。在實(shí)施方式3中，代替實(shí)施方式1的氣缸構(gòu)件176、活塞構(gòu)件178等，設(shè)置能閉塞吸附孔172的形狀的閥體306。
閥體306通過鉸鏈308可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝在臺(tái)架152上，通過轉(zhuǎn)動(dòng)，在閉塞吸附孔172的閉塞位置(在圖11中用實(shí)線表示)和開放吸附孔172的開放位置(在圖11中用雙點(diǎn)劃線表示的位置)之間移動(dòng)。在鉸鏈308上纏繞受扭螺旋彈簧310，把閥體306施力閉塞位置。
在閥體306上形成突起312，通過把突起312壓到安放在安放面152P上的襯底150，閥體306抵抗扭轉(zhuǎn)螺旋彈簧310的施力力，向開放位置移動(dòng)。
因此，在實(shí)施方式3中，不安放襯底150的區(qū)域的吸附孔172由閥體306閉塞，安放襯底150的區(qū)域的吸附孔172開放。
而且，在所述中，作為空間光調(diào)制元件，說明了具有DMD的曝光頭，但是除了這樣的反射型空間光調(diào)制元件，也能使用透射型空間光調(diào)制元件(LCD)。例如，也能使用MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)類型的空間光調(diào)制元件(SLM；Spacial Light Modulator)、通過電光效應(yīng)調(diào)制透射光的光學(xué)元件(PLZT元件)或液晶光閘(FLC)等液晶光閘陣列等MEMS類型以外的空間光調(diào)制元件。另外，MEMS是基于以IC制造工藝為基礎(chǔ)的顯微機(jī)械加工技術(shù)的微尺寸的傳感器、執(zhí)行元件(actuator)、把控制電路集成化的微細(xì)系統(tǒng)的總稱，MEMS類型的空間光調(diào)制元件意味著由利用靜電力的電機(jī)械動(dòng)作驅(qū)動(dòng)的空間光調(diào)制元件。也能使用排列多個(gè)光柵光閥(GLV)，構(gòu)成二維狀的器件。在使用這些反射型空間光調(diào)制元件(GLV)或透射型空間光調(diào)制元件(LCD)的構(gòu)成中，除了激光器，也能使用燈等作為光源。
此外，在所述實(shí)施方式中，說明使用具有多個(gè)合波激光光源的光纖陣列光源的例子，但是激光裝置并不局限于把合波激光光源陣列化的光纖陣列光源。例如，能使用設(shè)置了把從具備一個(gè)發(fā)光點(diǎn)的單一半導(dǎo)體激光器入射的激光出射的一條光纖的光纖光源陣列化的光纖陣列光源。
進(jìn)而，也能使用把多個(gè)發(fā)光點(diǎn)排列為二維狀的光源(例如，LD陣列，有機(jī)EL陣列等)。在使用這些光源的構(gòu)成中，通過使各發(fā)光點(diǎn)與像素對應(yīng)，能省略所述空間調(diào)制措施。
在所述實(shí)施方式中，如圖12所示，說明了用基于掃描儀162的向X方向的一次掃描把襯底150的全面曝光的例子，但是如圖13(A)和(B)所示，也可以通過掃描儀162把襯底150向X方向掃描后，使掃描儀162在Y方向移動(dòng)1步，向X方向進(jìn)行掃描，重復(fù)掃描和移動(dòng)，用多次掃描把襯底150的全面曝光。
此外，在所述實(shí)施方式中，以所謂的平頭型的圖像記錄裝置為例進(jìn)行了說明，但是作為本發(fā)明的圖像記錄裝置，也可以是具有盤繞感光材料的磁鼓的所謂的外部磁鼓類型的圖像記錄裝置。
所述圖像記錄裝置適合用于印刷電路板(PWB；Printed Wiring Board)的制造工序的干·膜·抗蝕劑(DFR；Dry Film Resist)的曝光、液晶顯示裝置(LCD)的制造工序中的彩色濾光器的形成、TFT制造工序中的DFR的曝光、等離子體顯示器面板(PDP)的制造工序中的DFR的曝光等用途。
此外，在所述圖像記錄裝置中，也能使用通過曝光直接記錄信息的光子模式感光材料、通過由曝光產(chǎn)生的熱記錄信息的熱模式感光材料。當(dāng)使用光子模式感光材料時(shí)，對激光裝置使用GaN類半導(dǎo)體激光器、波長變換固體激光器等，在使用熱模式感光材料時(shí)，對激光裝置使用AlGaAs類半導(dǎo)體激光器(紅外激光器)、固體激光器。
本發(fā)明采用所述構(gòu)成，所以用簡單的構(gòu)成，即使是尺寸不同的襯底，也能有效地利用基于負(fù)壓的吸引力，可靠地吸附在臺(tái)架上。
權(quán)利要求
1.一種感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)，其特征在于包括能把感光性板狀構(gòu)件安放在安放面上的臺(tái)架；形成在所述安放面上，用于吸附安放的感光性板狀構(gòu)件的多個(gè)吸附孔；與所述多個(gè)吸附孔分別對應(yīng)設(shè)置，能在開放吸附孔的開放位置和閉塞吸附孔的閉塞位置之間移動(dòng)的開閉構(gòu)件；使所述各移動(dòng)構(gòu)件在所述安放面上安放了感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔，為開放位置，在安放面上未安放感光性板狀構(gòu)件的區(qū)域的吸附孔，向閉塞位置移動(dòng)的移動(dòng)部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)，其特征在于所述移動(dòng)部件包括設(shè)置在所述開閉構(gòu)件上，在開閉構(gòu)件的閉塞位置從安放面突出，在開放位置由感光性板狀構(gòu)件按壓，后退到吸附孔內(nèi)的被按壓部；使所述開閉構(gòu)件施力閉塞位置的施力部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)，其特征在于所述開閉構(gòu)件的移動(dòng)方向?yàn)榕c通過臺(tái)架內(nèi)的負(fù)壓作用于開閉構(gòu)件上的力正交的方向。
4.一種圖像記錄裝置，其特征在于包括權(quán)利要求1～3中的任意一項(xiàng)所述的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)；在通過所述感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)吸附在安放面上的感光性板狀構(gòu)件上記錄圖像的圖像記錄部件。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的圖像記錄裝置，其特征在于所述圖像記錄部件為對感光性板狀構(gòu)件照射激光，進(jìn)行圖像記錄的激光記錄部件。
全文摘要
在臺(tái)架(152)內(nèi)與各吸附孔(172)對應(yīng)安裝氣缸構(gòu)件(176)，收藏在其內(nèi)部的活塞構(gòu)件(178)通過壓縮盤簧施力上。在安放面(152P)上不安方襯底(150)的狀態(tài)下，活塞構(gòu)件(178)由于壓縮盤簧(182)的施力力，變?yōu)殚]塞位置，閉塞吸附孔(172)。如果安放襯底(150)，則活塞構(gòu)件(178)抵抗壓縮盤簧(182)的施力力，變?yōu)殚_放位置，吸附孔(172)被開放，所以能用基于負(fù)壓的吸引力吸引襯底(150)。用簡單的構(gòu)成，取得即使是尺寸不同的感光性板狀構(gòu)件，也能有效利用基于負(fù)壓的吸引力，可靠吸附在臺(tái)架上的感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)和具有該感光性板狀構(gòu)件吸附機(jī)構(gòu)的圖像記錄裝置。
文檔編號H01L21/027GK1574222SQ20041004856
公開日2005年2月2日 申請日期2004年6月8日 優(yōu)先權(quán)日2003年6月10日
發(fā)明者上村寬 申請人:富士膠片株式會(huì)社