專利名稱：：確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及晶圓曝光工藝，具體地說，涉及確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法。
背景技術(shù)：
：啄光機臺中的透鏡組系統(tǒng)裝置是完全封閉的，使用時間過長就會產(chǎn)生熱膨脹效應(yīng)，曝光的聚焦點會隨透鏡組系統(tǒng)裝置熱變形發(fā)生漂移，導(dǎo)致光程差發(fā)生偏移，同時，對準(zhǔn)也會發(fā)生偏移，導(dǎo)致晶圓上的成像發(fā)生畸變。目前通常采用曝光機臺中設(shè)定合適的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)提前彌補變形帶來的聚焦點漂移。然而，現(xiàn)有技術(shù)中，透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)通常是根據(jù)經(jīng)驗算法獲得的一個固定值，而且應(yīng)用于各類晶圓曝光過程中。隨著工藝的日益完善和工藝要求的日益精確，固定的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)顯然不能達到準(zhǔn)確的彌補作用，反而由于其不精確性會導(dǎo)致彌補的過大或過小，更加劇了聚焦點的漂移。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種新的確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，其可以確定更為精確的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，該方法適用于曝光多個晶圓，其中，該方法包括如下步驟a.在預(yù)先確定的區(qū)間內(nèi)選擇不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)；b.根據(jù)選定不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)獲取對應(yīng)的掩模板放大參數(shù)；c.選擇隨著曝光晶圓個數(shù)增加，掩模板放大參數(shù)變化最小的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)值為較佳透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明根據(jù)透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)對應(yīng)的掩模板放大參數(shù)變化程度來確定最精確的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)，這種方法利用了掩模板放大參數(shù)表征透鏡組系統(tǒng)裝置變形程度的特點，在有效的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)范圍內(nèi)選擇透鏡組系統(tǒng)裝置變形最小的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形#~正參數(shù)的方法，可以更為精確地獲得較佳的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。此外，不同類別的晶圓在不同的制程中都可以獲取相應(yīng)的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。附國說明通過以下對本發(fā)明一實施例結(jié)合其附圖的描述，可以進一歩理解其發(fā)明的目的、具體結(jié)構(gòu)特征和優(yōu)點。其中，附圖為圖1為本發(fā)明確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的曲線圖。具體實施方式本發(fā)明的確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)(CF)的方法適用于針對任一選定制程中的各種類別晶圓。當(dāng)選定的制程需要確定CF值時，首先調(diào)整曝光機臺上的晶圓校準(zhǔn)選用參數(shù)，該參數(shù)用于一批晶圓中每一片晶圃進行對準(zhǔn)。在本發(fā)明實施例中，一批晶圓為25片晶圓。本發(fā)明的方法具體包括如下步驟，首先設(shè)定不同的CF,運^f亍曝光機臺沖艮據(jù)設(shè)定不同的CF獲取對應(yīng)的掩模板放大參數(shù)(ReticleMagnification,R-Mag)。掩模板放大參數(shù)R-Mag可以表征透鏡組系統(tǒng)裝置的變形程度。然后根椐獲得的CF和R-Mag值繪制如圖1所示的曲線圖，該圖的橫坐標(biāo)是表示晶圃編號。該曲線圖可以表征當(dāng)CF取值不同時，隨著晶圓曝光個數(shù)增加，透鏡組系統(tǒng)裝置的變形程度。從曲線圖選擇透鏡組系統(tǒng)裝置變形程度最小的CF值即為多個CF值中最精確的。在本發(fā)明較佳實施例中，首先設(shè)定的不同的CF值是根據(jù)經(jīng)驗得知，例如設(shè)定CF的范圍為0.6至1.6,間隔為0.2,即取值為O.6,0.8,1.0,1.4，1.6。然后在才這些CF取值獲取曝光每一片晶圓時對應(yīng)的R-Mag，即可以得到如下取值關(guān)系，如表l所示表1<table>tableseeoriginaldocumentpage5</column></row><table>根據(jù)表l,繪制圖l所示的曲線圖。從圖l中可以看出，當(dāng)CF-1.2,隨著晶圓曝光個數(shù)的增加，透鏡組系統(tǒng)裝置變形的程度最小。所以，CF-1.2是CF=0.6至1.6范圍中最精確。在本發(fā)明其他實施例中，為了得到更為精確的CF值，可以再細(xì)分CF-1.2,例如1.21-1.29,間隔為0.01,然后運行曝光機臺得到對應(yīng)的R-Mag,并繪制曲線圖，選擇曲線變化最平緩的，即為隨著晶圓個it增加，透鏡組系統(tǒng)裝置的權(quán)利要求1.一種確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，該方法適用于曝光多個晶圓，其特征在于，該方法包括如下步驟a.在預(yù)先確定的區(qū)間內(nèi)選擇不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)；b.根據(jù)選定不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)獲取對應(yīng)的掩模板放大參數(shù)；c.選擇隨著曝光晶圓個數(shù)增加，掩模板放大參數(shù)變化最小的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)值為較佳透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。2、如權(quán)利要求1所述的確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，其特征在于掩模板放大參數(shù)表征透鏡組系統(tǒng)裝置的變形程度。3、如權(quán)利要求1所述的確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，其特征在于步驟c可以采用曲線圖來輔助選擇，橫坐標(biāo)是晶圓編號，縱坐標(biāo)表征掩模板放大參數(shù)，不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)對應(yīng)不同的曲線。4、如權(quán)利要求3所述的確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，其特征在于在曲線圖中選擇曲線起伏最平緩的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)作為較佳透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。5、如權(quán)利要求1所述的確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，其特征在于根椐步驟c中選擇的較佳透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)，確定其鄰近的一個較小區(qū)間，并重復(fù)步驟a,b及c以獲取更為精確的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。全文摘要本發(fā)明提供一種確定透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)的方法，該方法適用于曝光多個晶圓，其中，該方法包括如下步驟a.在預(yù)先確定的區(qū)間內(nèi)選擇不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)；b.根據(jù)選定不同的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)獲取對應(yīng)的掩模板放大參數(shù)；c.選擇隨著曝光晶圓個數(shù)增加，掩模板放大參數(shù)變化最小的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)值為較佳透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明可以更為精確獲得較佳的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。此外，不同類別的晶圓在不同的制程中都可以獲取相應(yīng)的透鏡組系統(tǒng)裝置受熱變形修正參數(shù)。文檔編號H01L21/027GK101231470SQ20071003672公開日2008年7月30日申請日期2007年1月23日優(yōu)先權(quán)日2007年1月23日發(fā)明者偉劉,楊金坡申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司