專(zhuān)利名稱(chēng)：Tft lcd玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法，尤其 涉及一種可于一次制程中同時(shí)完成兩個(gè)承載匣的多個(gè)TFT LCD玻璃基板 的蝕刻，達(dá)到縮短蝕刻時(shí)間及簡(jiǎn)化蝕刻過(guò)程的TFTLCD玻璃基板的蝕刻 裝置及其蝕刻方法。
背景技術(shù)：
一般現(xiàn)有技術(shù)，如中國(guó)臺(tái)灣專(zhuān)利公報(bào)公告第543113號(hào)的r TFT LCD 用玻璃基板的自動(dòng)蝕刻裝置及蝕刻方法」，其自動(dòng)蝕刻裝置，主要包括一蝕刻槽，其內(nèi)部設(shè)置有一多孔性起泡裝置，于該起泡裝置上側(cè)并設(shè) 有一擊板裝置，該蝕刻槽內(nèi)部注有一處理溶液，用以蝕刻裝載于一蝕刻 卡匣內(nèi)的薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃基板；一第一快速拋洗槽，其內(nèi)部用以容置裝栽蝕刻完成的薄膜晶體管液晶 顯示器用玻璃基板主蝕刻卡匣，其內(nèi)部并設(shè)置有一噴射超純水的噴灑裝 置， 一位于下部、用以噴射氮?dú)獾亩嗫仔云鹋菅b置，以及一上部的擊板， 用以洗凈該玻璃基板；一第二快速拋洗槽，使用與該第 一快速拋洗槽相同的方式反復(fù)洗凈該 第一快速拋洗槽洗凈完成的該玻璃基板，以將該玻璃基板表面徹底洗凈； 以及一干燥槽，其內(nèi)部用以容置裝栽洗凈完成的該玻璃基板主蝕刻卡匣， 并設(shè)有一噴嘴，用以噴射氮?dú)?，以干燥該玻璃基板?而其自動(dòng)蝕刻方法，主要包括以下步驟(A)提供一蝕刻槽，該蝕刻槽內(nèi)部設(shè)置有一多孔性起泡裝置，于該起 泡裝置上側(cè)并設(shè)有一擊板裝置，將一裝栽薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃 基板主蝕刻卡匣置于該蝕刻槽內(nèi)，并注入一處理溶液，以蝕刻該玻璃基板；(B) 將裝載蝕刻完成之薄膜晶體管液晶顯示器用玻璃基板主蝕刻卡匣 置入一第 一快速拋洗槽內(nèi)部，通過(guò)該第 一快速拋洗槽內(nèi)部裝設(shè)的噴射超 純水的噴灑裝置，位于底部、用以噴射氮?dú)獾亩嗫仔云鹋菅b置，以及一位于上部的擊板，用以洗凈該玻璃基板；(C) 將于該第一 快速拋洗槽洗凈完成的該玻璃基板置入一第二快速拋 洗槽，并使用與該第 一快速拋洗槽相同的方式反復(fù)洗凈該第 一快速拋洗 槽洗凈完成的該玻璃基板，以將該玻璃基板表面徹底洗凈；以及(D) 將裝栽洗凈完成的該玻璃基板的該蝕刻卡匣置入一干燥槽內(nèi)，并 使用其內(nèi)部設(shè)置的噴嘴噴射氮?dú)?，以干燥該玻璃基板。采用上述的裝置及方法可使TFT LCD用玻璃基板實(shí)現(xiàn)自動(dòng)蝕刻的效果。.雖然上述現(xiàn)有的r TFT LCD用玻璃基板的自動(dòng)蝕刻裝置及蝕刻方法J 可達(dá)到TFTLCD用玻璃基板的自動(dòng)蝕刻，但是由于其進(jìn)行蝕刻時(shí)， 一次 制程中僅能針對(duì)一個(gè)蝕刻卡匣內(nèi)的TFTLCD玻璃基板進(jìn)行蝕刻、二次清 洗及烘干等步驟，若要進(jìn)行兩個(gè)蝕刻卡匣內(nèi)TFT LCD用玻璃基板的蝕刻， 則必須要于第 一 個(gè)蝕刻卡匣內(nèi)的TFT LCD用玻璃基板于蝕刻槽中蝕刻之 后，以第一及第二快速拋洗槽進(jìn)行二次清洗，且通過(guò)千燥槽予以烘干之 后，再取第二個(gè)蝕刻卡匣內(nèi)的TFT LCD用玻璃基板于蝕刻槽中進(jìn)行蝕刻、 二次清洗及烘干等步驟，而無(wú)法于一次制程中完成二個(gè)蝕刻卡匣內(nèi)TFT LCD用玻璃基板的蝕刻，而造成蝕刻時(shí)間增加以及蝕刻過(guò)程繁復(fù)。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的主要目的在于提供一種可于一次制程中同時(shí)完成二個(gè)承載 匣的多個(gè)TFT LCD玻璃基板的蝕刻的TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置及 其t蟲(chóng)刻方法。為實(shí)現(xiàn)上迷目的，本發(fā)明釆用如下技術(shù)方案 一種TFTLCD玻璃基 板的蝕刻裝置及其蝕刻方法，該蝕刻裝置包含至少兩個(gè)可供承栽欲蝕刻 TFT LCD玻璃基板的承載匣；兩個(gè)分別連接液體供應(yīng)單元、 一氣體供應(yīng) 單元及藥劑供應(yīng)單元的蝕刻清洗槽； 一分別與液體供應(yīng)單元及一氣體供 應(yīng)單元連接的清洗槽；以及一分別與一氣體供應(yīng)單元連接的干燥槽所構(gòu) 成；而其蝕刻方法至少包含下列步驟步驟一提供至少第一及第二承載匣與第一及第二蝕刻清洗槽，而該 第一及第二蝕刻清洗槽連接一液體供應(yīng)單元、 一氣體供應(yīng)單元及一藥劑供應(yīng)單元；步驟二先于第一承栽匣中放置多個(gè)TFTLCD玻璃基板，將第一承 載匣移入第 一蝕刻清洗槽中，并使第 一蝕刻清洗槽利用液體供應(yīng)單元、 氣體供應(yīng)單元及藥劑供應(yīng)單元對(duì)第 一承載匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板 進(jìn)行蝕刻并作初步清洗；步驟三將蝕刻及初步清洗后的第 一承載匣移入于連接有液體供應(yīng)單 元及氣體供應(yīng)單元的清洗槽中，進(jìn)行二次清洗，并同時(shí)于第二承載匣中 放置多個(gè)TFTLCD玻璃基板，將第二承載匣移入第二蝕刻清洗槽中，并 使第二蝕刻清洗槽以液體供應(yīng)單元、氣體供應(yīng)單元及藥劑供應(yīng)單元對(duì)第二承載匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃進(jìn)行蝕刻并作初步清洗；步驟四將清洗完成后第 一承栽匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板移入 于分別連接氣體供應(yīng)單元的干燥槽中，進(jìn)行烘干，進(jìn)而完成第一承載匣 中多個(gè)TFTLCD玻璃基板的蝕刻，并同時(shí)將蝕刻及初步清洗后第二承載 匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板移入于上述清洗槽中進(jìn)行二次清洗；以及 步驟五再將清洗完成后第二承載匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板置 入于上述干燥槽中，進(jìn)行烘干，進(jìn)而完成第二承載匣中多個(gè)TFTLCD玻 璃基板的蝕刻。本發(fā)明可以于一次制程中同時(shí)完成兩個(gè)承載匣的多個(gè)TFT LCD玻璃 基板的蝕刻，達(dá)到縮短蝕刻時(shí)間及簡(jiǎn)化蝕刻過(guò)程的效果。


圖1是本發(fā)明的基本架構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明的蝕刻清洗槽示意圖。閨3是本發(fā)明的清洗槽示意圖。圖4是本發(fā)明的干燥槽示意圖。圖5是本發(fā)明蝕刻的使用方法示意圖。主要組件符號(hào)說(shuō)明
第一蝕刻清洗槽1 液體供應(yīng)單元10 第二承載匣101a 藥劑供應(yīng)單元12 泵131、 131a、 20 推出口 133、 133a、 29 進(jìn)水管14、 14a 暫存槽17下噴嘴組19、 19a、 27 進(jìn)水管22 干燥槽3 風(fēng)刀組33第二蝕刻清洗槽la 第一承載匣101 氣體供應(yīng)單元11 沖擊單元13、 13a、 28 吸入口 132、 132a、 30 沖擊板134、 134a、 281 出水管15、 15a 上噴嘴組18、 18a、 26清》:先槽2出水管23 排水管32TFT玻璃基板4、 4a具體實(shí)施方式
如圖l-4所示本發(fā)明是一種TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置，其由 至少兩個(gè)承載匣101、 101a、兩個(gè)蝕刻清洗槽1、 la、 一清洗槽2、以及 一干燥槽3所構(gòu)成，可于一次制程中同時(shí)完成兩個(gè)承載匣的多個(gè)TFT LCD玻璃基板的蝕刻，達(dá)到縮短蝕刻時(shí)間及簡(jiǎn)化蝕刻過(guò)程的效果。上述的承栽匣101、 101a可供承栽欲蝕刻的TFTLCD玻璃基板，而 各承載匣101、 101a可至少定義為一第一承栽匣101及一第二承載匣 101a。各蝕刻清洗槽1、la可至少定義為一第一蝕刻清洗槽1及一第二蝕刻 清洗槽la，各蝕刻清洗槽l、 la可供容置上述承載TFTLCD玻璃基板的 第一及第二承載麼101、 101a，且該第一及第二蝕刻清洗槽1、 la分別連 接一液體供應(yīng)單元10、 一氣體供應(yīng)單元11及一藥劑供應(yīng)單元12，且該 第一及第二蝕刻清洗槽l、 la的兩側(cè)分別具有連接一泵131、 131a的沖擊 單元13、 13a，各沖擊單元13、 13a分別具有一推出口 133、 133a,并于 推出口 133、 133a處具有一設(shè)置于第一及第二蝕刻清洗槽1、 la兩側(cè)的沖 擊板134、 134a,且該沖擊板B4、 134a上具有多個(gè)孔隙，并于第一及第 二蝕刻清洗槽l、 la的底部?jī)蓚?cè)分別具有一吸入口 132、 132a且亦與該泵 131、 131a相連接；另該第一及第二蝕刻清洗槽1、 la分別連通有一進(jìn)水 管14、 14a、出水管15、 15a，且各進(jìn)水管14、 14a與該藥劑供應(yīng)單元12 連接，另各出水管15、 15a分別與一連接該藥劑供應(yīng)單元12的暫存槽17 連接，并于該第一及第二蝕刻清洗槽內(nèi)部1、 la的一端分別具有一與液體 供應(yīng)單元10連通的上噴嘴組18、 18a,且另一端分別具有一與液體供應(yīng) 單元IO及一氣體供應(yīng)單元11連通的下噴嘴組19、 19a。該清洗槽2分別與上述液體供應(yīng)單元IO及一氣體供應(yīng)單元11連接， 可供容置上述承載TFT LCD玻璃基板的第一及第二承載匣101、 101a, 且該清洗槽2連通有一進(jìn)水管22、出水管23,該進(jìn)水管22連接于液體 供應(yīng)單元10而出水管23供排廢水之用，并于該清洗槽2內(nèi)部的兩側(cè)分 別具有連接一泵20的沖擊單元28,各沖擊單元28分別具有一推出口 29, 并于推出口 29處具有一設(shè)置于清洗槽2兩側(cè)的沖擊板281,且該沖擊板281上具有多個(gè)孔隙，并于清洗槽2的底部具有一吸入口 30且與該泵20 估文連接，并于該清洗槽2內(nèi)部的一端具有一與液體供應(yīng)單元IO連通的上 噴嘴組26,且該清洗槽2的底部具有與氣體供應(yīng)單元11及液體供應(yīng)單元 10連通的下噴嘴組27。該干燥槽3與上述氣體供應(yīng)單元11連接，可供容置上述承載TFT LCD玻璃基板的第一及第二承栽匣101、 101a，而該干燥槽3連通有一排 水管32,且該干燥槽3內(nèi)部的兩側(cè)分別具有與氣體供應(yīng)單元11連通的風(fēng) 刀組33。這樣，采用上述的結(jié)構(gòu)就構(gòu)成一種全新的TFTLCD玻璃基板的 蝕刻裝置。如圖5所示本發(fā)明TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其至少運(yùn)用下 列步驟步驟一提供具有上述第一及第二承栽匣101、 101a、第一及第二蝕 刻清洗槽、1、 la、清洗槽2與干燥槽3構(gòu)造的蝕刻裝置。步驟二先于第一承載匣101中放置多個(gè)TFT LCD玻璃基板4,并 將該第一承載匣101移入第一蝕刻清洗槽1，由藥劑供應(yīng)單元12配合進(jìn) 水管14做為第一蝕刻清洗槽1中藥劑的供應(yīng)，并啟動(dòng)泵131，使沖擊單 元13利用其吸入口 132及推出口 133及沖擊板134，以一吸一推并且利 用孔隙產(chǎn)生擠壓的方式使藥劑均勻產(chǎn)生撞擊，同時(shí)以氣體供應(yīng)單元11所 連通的下噴嘴組19做為蝕刻時(shí)產(chǎn)生氣泡之用，使該產(chǎn)生的氣泡可由第一 蝕刻清洗槽1下方?jīng)_擊TFTLCD玻璃基板4表面及盲孔中的殘?jiān)?，從?利用第一蝕刻清洗槽1對(duì)TFT LCD玻璃基板4進(jìn)行蝕刻，并使第一蝕刻 清洗槽1的出水管15將蝕刻后的藥劑傳輸至?xí)捍娌?7做為暫存及回收； 之后由液體供應(yīng)單元IO配合上噴嘴組18與下噴嘴組19做為清洗液的供 應(yīng)，且由與氣體供應(yīng)單元11連通的下噴嘴組19做為清洗時(shí)產(chǎn)生氣泡之 用，使該氣泡的產(chǎn)生可由第一蝕刻清洗槽1下方?jīng)_擊TFTLCD玻璃基板4表面及盲孔中的殘?jiān)?dòng)泵131，使沖擊單元13利用其吸入口 132、 推出口 133及沖擊板134，以一吸一推并且利用孔隙產(chǎn)生4齊壓的方式使清 洗液均勻產(chǎn)生撞擊，從而利用第一蝕刻清洗槽1對(duì)TFT LCD玻璃基板4 進(jìn)行作初步清洗。步驟三將蝕刻及初步清洗后第一承載匣101中的TFTLCD玻璃基 板4移入于清洗槽2，使該清洗槽2利用上噴嘴組26與下噴嘴組27配合 液體供應(yīng)單元IO做為清洗液的供應(yīng)，且以該清洗槽2底部的下噴嘴組27 配合氣體供應(yīng)單元11做為清洗液供應(yīng)時(shí)產(chǎn)生氣泡之用，使該產(chǎn)生的氣泡 可由清洗槽2下方?jīng)_擊TFTLCD玻璃基板4表面及盲孔中的殘?jiān)?動(dòng)泵20,使沖擊單元28利用其吸入口 30、推出口 29及沖擊板281,以 一吸一推并且利用孔隙產(chǎn)生擠壓的方式使清洗液均勻產(chǎn)生撞擊，而對(duì)TFT LCD玻璃基板4進(jìn)行二次清洗，而該出水管23做為清洗后排放廢水之用； 并同時(shí)于第二承栽匣101a中再放置多個(gè)TFT LCD玻璃基板4a,利用藥 劑供應(yīng)單元12配合進(jìn)水管14a做為第二蝕刻清洗槽la中藥劑的供應(yīng)，并 啟動(dòng)泵131a，使沖擊單元13a利用其吸入口 132a、推出口 133a及沖擊板 134a,以一吸一推并且利用孔隙產(chǎn)生擠壓的方式使藥劑均勻產(chǎn)生撞擊，且 同時(shí)以氣體供應(yīng)單元11所連通的下噴嘴組19a做為蝕刻時(shí)產(chǎn)生氣泡之用， 使該產(chǎn)生的氣泡可由第二蝕刻清洗槽la下方?jīng)_擊TFT LCD玻璃基板4a 表面，從而利用第二蝕刻清洗槽la對(duì)TFTLCD玻璃基板4a進(jìn)行蝕刻， 并使第二蝕刻清洗槽la的出水管15a將蝕刻后的藥劑傳輸至?xí)捍娌?7 做為暫存及回收；之后由液體供應(yīng)單元IO配合上噴嘴組18a與下噴嘴組 19a做為清洗液的供應(yīng)，且由與氣體供應(yīng)單元11連通的下噴嘴組19a做為清洗時(shí)產(chǎn)生氣泡之用，使該產(chǎn)生的氣泡可由第二蝕刻清洗槽la下方?jīng)_ 擊TFT LCD玻璃基板4a表面及盲孔中的殘?jiān)?，并啟?dòng)沖泵131a，使沖 擊單元13a利用其吸入口 132a、推出口 133a及沖擊板134a，以一吸一推并且利用孔隙產(chǎn)生擠壓的方式使清洗液均勻產(chǎn)生撞擊，通過(guò)利用第二蝕刻清洗槽la對(duì)TFT LCD玻璃基板4a進(jìn)行作初步清洗。步驟四將清洗完成后第一承載匣101中的TFT LCD玻璃基板4置 入于干燥槽3中，利用該干燥槽3內(nèi)部?jī)蓚?cè)的風(fēng)刀組33配合氣體供應(yīng)單 元11產(chǎn)生風(fēng)力做為進(jìn)行烘干使用，并使烘干時(shí)所滴落的廢水由該干燥槽 3的排水管32排放出去，從而完成TFTLCD玻璃基板4的蝕刻；并同時(shí) 將第二承載匣ioia中蝕刻及初步清洗后的TFT LCD玻璃基板4a移入于 上述清洗槽2中，使該清洗槽2利用上噴嘴組26與下噴嘴組27配合液 體供應(yīng)單元10做為清洗液的供應(yīng)，且以該清洗槽2底部的下噴嘴組27 配合氣體供應(yīng)單元ll做為清洗液供應(yīng)時(shí)產(chǎn)生氣泡之用，使該產(chǎn)生的氣泡 可由清洗槽2下方?jīng)_擊TFT LCD玻璃基板4a表面及盲孔中的殘?jiān)?，并?動(dòng)泵20,使沖擊單元28利用其吸入口 30、推出口 29及沖擊板281,以 一吸一推并且利用孔隙產(chǎn)生擠壓的方式使清洗液均勻產(chǎn)生撞擊，而對(duì)TFT LCD玻璃基板4a進(jìn)行二次清洗，而該出水管23做為清洗后廢水排放之 用。步驟五再將清洗完成后第二承載匣101a中的TFT LCD玻璃基板 4a移入于上述干燥槽3中，利用該干燥槽3內(nèi)部?jī)蓚?cè)的風(fēng)刀組33配合氣 體供應(yīng)單元11產(chǎn)生風(fēng)力做為進(jìn)行烘千使用，并使烘干時(shí)所滴落的廢水由 該干燥槽3的排水管32排放出去，從而完成TFT LCD玻璃基板4a的蝕刻。綜上所述，本發(fā)明TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法可有 效改進(jìn)現(xiàn)有技術(shù)的種種缺點(diǎn)，可于一次制程中同時(shí)完成兩個(gè)承載度的多 個(gè)TFT LCD玻璃基板的蝕刻，達(dá)到縮短蝕刻時(shí)間及簡(jiǎn)化蝕刻過(guò)程的效果。
權(quán)利要求
1. 一種TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在于，其包括有至少兩個(gè)承載匣，各承載系可供承載欲蝕刻的TFT LCD玻璃基板；至少兩個(gè)蝕刻清洗槽，各蝕刻清洗槽可供容置上述承載TFT LCD玻璃基板的承載匣，且各蝕刻清洗槽分別連接一液體供應(yīng)單元、一氣體供應(yīng)單元及一藥劑供應(yīng)單元；一清洗槽，該清洗槽可供容置上述承載TFT LCD玻璃基板的承載匣，且該清洗槽分別與上述液體供應(yīng)單元及氣體供應(yīng)單元連接；以及一干燥槽，該干燥槽可供容置上述承載TFT LCD玻璃基板的承載匣，該干燥槽與上述氣體供應(yīng)單元連接。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，該各蝕刻清洗槽可至少定義為 一第 一蝕刻清洗槽及一第二蝕刻清洗 槽。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，各蝕刻清洗槽分別連通有一進(jìn)水管、出水管，且各進(jìn)水管與該藥劑 供應(yīng)單元連接，另各出水管分別與 一連接該藥劑供應(yīng)單元的暫存槽連接。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所迷的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，各蝕刻清洗槽的兩側(cè)分別具有連接一泵的沖擊單元，各沖擊單元分 別具有一推出口 ，且推出口處具有一設(shè)置于蝕刻清洗槽兩側(cè)的沖擊板， 且該沖擊板上具有多個(gè)孔隙，并于各蝕刻清洗槽的底部?jī)蓚?cè)分別具有一 吸入口且也與該泵相連"l妄。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，各蝕刻清洗槽內(nèi)部的一端分別具有一與液體供應(yīng)單元連通的上噴嘴組， 且另一端分別具有一與液體供應(yīng)單元及氣體供應(yīng)單元連通的下噴嘴組。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，該清洗槽連通有一進(jìn)水管、出水管，且該出水管排放清洗后廢水。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，該清洗槽內(nèi)部的一端分別具有一與液體供應(yīng)單元連通的上噴嘴組， 且另一端分別具有一與液體供應(yīng)單元及氣體供應(yīng)單元連通的下噴嘴組。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，該干燥槽連通有一排水管。
9、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻裝置，其特征在 于，該干燥槽內(nèi)部的兩側(cè)分別具有與氣體供應(yīng)單元連通的風(fēng)刀組。
10、 一種TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于，其至少包括 有下列步驟步驟一提供至少第一及第二蝕承載匣與第一及第二蝕刻清洗槽，而 該第一及第二蝕刻清洗槽連接一液體供應(yīng)單元、 一氣體供應(yīng)單元及一藥 劑供應(yīng)單元；步驟二先于第一承栽匣中放置多個(gè)TFTLCD玻璃基板，將第一承 載匣移入第 一蝕刻清洗槽中，并使第 一蝕刻清洗槽利用液體供應(yīng)單元、 氣體供應(yīng)單元及藥劑供應(yīng)單元對(duì)第 一承栽匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板 進(jìn)行蝕刻并作初步清洗；步驟三將蝕刻及初步清洗后的第 一承載匣移入于連接有液體供應(yīng)單 元及氣體供應(yīng)單元的清洗槽中，進(jìn)行二次清洗，并同時(shí)于第二承栽匣中 放置多個(gè)TFTLCD玻璃基板，將第二承載匣移入第二蝕刻清洗槽中，并 使第二蝕刻清洗槽以液體供應(yīng)單元、氣體供應(yīng)單元及藥劑供應(yīng)單元對(duì)第 二承載匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板進(jìn)行蝕刻并作初步清洗；步驟四將清洗完成后第一承載匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板移入 于連接氣體供應(yīng)單元的干燥槽中，進(jìn)行烘干，從而完成第一承栽匣中多 個(gè)TFTLCD玻璃基板的蝕刻，并同時(shí)將蝕刻及初步清洗后第二承栽匣中 的多個(gè)TFTLCD玻璃基板移入于上述清洗槽中進(jìn)行二次清洗；以及步驟五再將清洗完成后第二承栽匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板置 入于上述干燥槽中，進(jìn)行烘干，從而完成第二承栽匣中多個(gè)TFTLCD玻 璃基板的蝕刻。
11、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該第一及第二蝕刻清洗槽分別連通有一進(jìn)水管、出水管，各進(jìn)水 管與該藥劑供應(yīng)單元連接，做為藥劑供應(yīng)，另各出水管分別與一連接該 藥劑供應(yīng)單元的暫存槽連接，做為藥劑的暫存及回收。
12、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該第 一及第二蝕刻清洗槽的兩側(cè)分別具有連接一泵的沖擊單元， 各沖擊單元具有一推出口 ，且推出口處具有一設(shè)置于蝕刻清洗槽兩側(cè)的 沖擊板，且該沖擊板上具有多個(gè)孔隙，并于各蝕刻清洗槽的底部?jī)蓚?cè)分 別具有一吸入口且亦與該泵相連接，可利用一吸一推的方式使藥劑均勻 產(chǎn)生撞擊。
13、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該第 一及第二蝕刻清洗槽內(nèi)部的一端分別具有一與液體供應(yīng)單元 連通的上噴嘴組，做為做為清洗液的供應(yīng)，且另一端分別具有一與液體 供應(yīng)單元及氣體供應(yīng)單元連通的下噴嘴組，做為清洗液供應(yīng)時(shí)產(chǎn)生氣泡 之用。
14、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該清洗槽連通有一進(jìn)水管、出水管，且該出水管排放清洗后的廢水。
15、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該清洗槽內(nèi)部的一端分別具有一與液體供應(yīng)單元連通的上噴嘴組， 且另一端分別具有一與液體供應(yīng)單元及氣體供應(yīng)單元連通的下噴嘴組， 做為清洗液供應(yīng)時(shí)產(chǎn)生氣泡之用。
16、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該干燥槽連通有一排水管，用于排放烘干時(shí)所滴落的廢水。
17、 根據(jù)權(quán)利要求IO所述的TFTLCD玻璃基板的蝕刻方法，其特征 在于，該干燥槽內(nèi)部的兩側(cè)分別具有與氣體供應(yīng)單元連通的風(fēng)刀組，用 以產(chǎn)生風(fēng)刀做為烘干使用。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種TFT LCD玻璃基板的蝕刻裝置及其蝕刻方法，該裝置包含兩個(gè)承載匣、兩個(gè)蝕刻清洗槽、清洗槽及干燥槽；其方法于一承載匣中放置多個(gè)TFT LCD玻璃基板于蝕刻清洗槽進(jìn)行蝕刻及初步清洗；之后將承載匣移入清洗槽中進(jìn)行二次清洗，并同時(shí)于另一承載匣中放置多個(gè)TFT LCD玻璃基板放置于另一蝕刻清洗槽進(jìn)行蝕刻及初步清洗；將清洗后承載匣中的TFT LCD玻璃基板放置于干燥槽中進(jìn)行烘干，并同時(shí)使另一承載匣移入清洗槽中進(jìn)行多個(gè)TFT LCD玻璃基板的二次清洗；再將清洗后另一承載匣中的多個(gè)TFT LCD玻璃基板于干燥槽中進(jìn)行烘干；這樣就可以于一次制程中同時(shí)完成兩個(gè)承載匣的多個(gè)TFT LCD玻璃基板的蝕刻，達(dá)到縮短蝕刻時(shí)間及簡(jiǎn)化蝕刻過(guò)程的效果。
文檔編號(hào)H01L21/02GK101255012SQ20071008031
公開(kāi)日2008年9月3日 申請(qǐng)日期2007年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年2月27日
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