国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      Oled顯示面板制造方法及薄膜晶體管陣列基板制造方法

      文檔序號(hào):10554358閱讀:487來源:國知局
      Oled顯示面板制造方法及薄膜晶體管陣列基板制造方法
      【專利摘要】本發(fā)明公開了一種OLED顯示面板制造方法及薄膜晶體管陣列基板制造方法。薄膜晶體管陣列基板制造方法包括以下步驟:E、在玻璃基板上形成柵極線材料層;F、針對(duì)柵極線材料層實(shí)施光罩制程,以形成柵極線和備用修補(bǔ)線;G、按先后順序在柵極線以及備用修補(bǔ)線的表面上形成半導(dǎo)體層和金屬層;H、在金屬層的上表面上形成透明電極層;I、在透明電極層上形成配向膜層。本發(fā)明能提高OLED顯示面板的制造良率。
      【專利說明】
      OLED顯示面板制造方法及薄膜晶體管陣列基板制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      [0001]本發(fā)明涉及OLED顯示面板制造領(lǐng)域,特別涉及一種OLED顯示面板制造方法及薄膜晶體管陣列基板制造方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002]傳統(tǒng)的薄膜晶體管陣列基板的制造過程中一般都需要在玻璃基板上設(shè)置柵極線,由于各種因素的影響,該柵極線很容易出現(xiàn)斷線缺陷,在這種情況下,薄膜晶體管陣列基板會(huì)出現(xiàn)質(zhì)量問題,從而導(dǎo)致傳統(tǒng)的薄膜晶體管陣列基板的制造過程的良率降低。
      [0003]故,有必要提出一種新的技術(shù)方案,以解決上述技術(shù)問題。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明的目的在于提供一種OLED顯示面板制造方法及薄膜晶體管陣列基板制造方法,其能提尚OLED顯不面板的制造良率。
      [0005]為解決上述問題,本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
      一種OLED顯示面板制造方法,所述方法包括以下步驟:A、形成彩色濾光片基板;B、形成薄膜晶體管陣列基板;C、將所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板疊加組合為一體,以形成液晶盒;D、在所述液晶盒內(nèi)注入液晶分子;其中,所述步驟B包括:bl、在玻璃基板上形成柵極線材料層;b2、針對(duì)所述柵極線材料層實(shí)施光罩制程,以形成柵極線和與所述柵極線對(duì)應(yīng)的備用修補(bǔ)線,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線平行設(shè)置,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線具有預(yù)定間距;b3、按先后順序在所述柵極線以及所述備用修補(bǔ)線的表面上形成半導(dǎo)體層和金屬層;b4、在所述金屬層的上表面上形成透明電極層,所述透明電極層與所述柵極線在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上具有重疊部分;b5、在所述透明電極層上形成配向膜層;其中,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層均設(shè)置于所述柵極線與所述透明電極層之間,并且在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層部分或全部位于所述重疊部分中,所述金屬層在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上位于所述半導(dǎo)體層的上方;所述備用修補(bǔ)線用于在所述柵極線出現(xiàn)斷線缺陷部的情況下,與所述柵極線中被所述斷線缺陷部分隔的兩部分連接,以修補(bǔ)所述柵極線。
      [0006]在上述OLED顯示面板制造方法中,所述柵極線和所述半導(dǎo)體層之間還包括第一絕緣層,所述金屬層和所述透明電極層之間還包括第二絕緣層,所述步驟B還包括:b6、在形成所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線后,在所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線的表面上形成第一絕緣層。
      [0007]在上述OLED顯示面板制造方法中,在所述步驟b6之后,所述步驟B還包括:b7、在所述金屬層的上表面上形成所述第二絕緣層。
      [0008]在上述OLED顯示面板制造方法中,所述步驟b4為:在所述第二絕緣層的上表面上形成所述透明電極層。
      [0009]在上述OLED顯示面板制造方法中,所述半導(dǎo)體層為非晶硅層。
      [0010]—種薄膜晶體管陣列基板制造方法,所述方法包括以下步驟:E、在玻璃基板上形成柵極線材料層;F、針對(duì)所述柵極線材料層實(shí)施光罩制程,以形成柵極線和與所述柵極線對(duì)應(yīng)的備用修補(bǔ)線,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線平行設(shè)置,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線具有預(yù)定間距;G、按先后順序在所述柵極線以及所述備用修補(bǔ)線的表面上形成半導(dǎo)體層和金屬層;H、在所述金屬層的上表面上形成透明電極層,所述透明電極層與所述柵極線在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上具有重疊部分;1、在所述透明電極層上形成配向膜層;其中,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層均設(shè)置于所述柵極線與所述透明電極層之間,并且在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層部分或全部位于所述重疊部分中,所述金屬層在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上位于所述半導(dǎo)體層的上方;所述備用修補(bǔ)線用于在所述柵極線出現(xiàn)斷線缺陷部的情況下,與所述柵極線中被所述斷線缺陷部分隔的兩部分連接,以修補(bǔ)所述柵極線。
      [0011]在上述薄膜晶體管陣列基板制造方法中,所述柵極線和所述半導(dǎo)體層之間還包括第一絕緣層,所述金屬層和所述透明電極層之間還包括第二絕緣層,所述方法還包括以下步驟:J、在形成所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線后,在所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線的表面上形成第一絕緣層。
      [0012]在上述薄膜晶體管陣列基板制造方法中,在所述步驟J之后,所述方法還包括以下步驟:K、在所述金屬層的上表面上形成所述第二絕緣層。
      [0013]在上述薄膜晶體管陣列基板制造方法中,所述步驟H為:在所述第二絕緣層的上表面上形成所述透明電極層。
      [0014]在上述薄膜晶體管陣列基板制造方法中,所述半導(dǎo)體層為非晶硅層。
      [0015]相對(duì)現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明能提尚OLED顯不面板的制造良率。
      [0016]為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂,下文特舉優(yōu)選實(shí)施例,并配合所附圖式,作詳細(xì)說明如下。
      【附圖說明】
      [0017]圖1是本發(fā)明的OLED顯示面板制造方法的流程圖。
      [0018]圖2是圖1中形成薄膜晶體管陣列基板的步驟的流程圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0019]參考圖1和圖2,圖1是本發(fā)明的OLED顯不面板制造方法的流程圖。圖2是圖1中形成薄膜晶體管陣列基板的步驟的流程圖。
      [0020]本發(fā)明的OLED顯示面板制造方法包括以下步驟:
      A(步驟101)、形成彩色濾光片基板。
      [0021]B(步驟102)、形成薄膜晶體管陣列基板。
      [0022]C(步驟103)、將所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板疊加組合為一體,以形成液晶盒。
      [0023 ] D (步驟104 )、在所述液晶盒內(nèi)注入液晶分子。
      [0024]其中,所述步驟B(步驟102)包括:
      bl (步驟1021)、在玻璃基板上形成柵極線材料層。
      [0025]b2(步驟1022)、針對(duì)所述柵極線材料層實(shí)施光罩制程,以形成柵極線和與所述柵極線對(duì)應(yīng)的備用修補(bǔ)線,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線平行設(shè)置,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線具有預(yù)定間距。
      [0026]b3(步驟1024)、按先后順序在所述柵極線以及所述備用修補(bǔ)線的表面上形成半導(dǎo)體層和金屬層。
      [0027]b4(步驟1026)、在所述金屬層的上表面上形成透明電極層,所述透明電極層與所述柵極線在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上具有重疊部分。
      [0028]b5(步驟1027)、在所述透明電極層上形成配向膜層。
      [0029]其中,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層均設(shè)置于所述柵極線與所述透明電極層之間,并且在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層部分或全部位于所述重疊部分中,所述金屬層在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上位于所述半導(dǎo)體層的上方。
      [0030]所述備用修補(bǔ)線用于在所述柵極線出現(xiàn)斷線缺陷部的情況下,與所述柵極線中被所述斷線缺陷部分隔的兩部分連接,以修補(bǔ)所述柵極線。
      [0031]在本發(fā)明的OLED顯示面板制造方法中,所述柵極線和所述半導(dǎo)體層之間還包括第一絕緣層,所述金屬層和所述透明電極層之間還包括第二絕緣層,所述步驟B(步驟102)還包括:
      b6(步驟1023)、在形成所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線后,在所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線的表面上形成第一絕緣層。
      [0032]在本發(fā)明的OLED顯示面板制造方法中,在所述步驟b6(步驟1023)之后,所述步驟B(步驟102)還包括:
      b7(步驟1025)、在所述金屬層的上表面上形成所述第二絕緣層。
      [0033]在本發(fā)明的OLED顯示面板制造方法中,所述步驟b4(步驟1026)為:
      在所述第二絕緣層的上表面上形成所述透明電極層。
      [0034]在本發(fā)明的OLED顯示面板制造方法中,所述半導(dǎo)體層為非晶硅層。
      [0035]所述液晶盒的邊緣部還設(shè)置有框膠。所述框膠用于對(duì)所述液晶盒進(jìn)行密封,以將所述液晶分子限制在所述液晶盒內(nèi),以及防止所述液晶從所述液晶盒中泄漏。
      [0036]所述框膠包括液晶注入接口,所述液晶注入接口為孔洞,所述孔洞貫穿所述框膠。
      [0037]所述步驟C(步驟103)包括:
      Cl、將所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板疊加組合為一體;c2、在所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板之間設(shè)置第一框膠材料;c3、在所述第一框膠材料內(nèi)放置預(yù)定模具,其中,所述預(yù)定模具貫穿所述第一框膠材料,所述預(yù)定模具用于在所述框膠內(nèi)形成所述孔洞;
      c4、對(duì)所述第一框膠材料進(jìn)行固化,以形成所述框膠; c5、從所述框膠中取出所述預(yù)定模具。
      [0038]所述孔洞內(nèi)設(shè)置有第一卡設(shè)部和第二卡設(shè)部,所述第一卡設(shè)部位于所述孔洞靠近所述液晶盒內(nèi)用于容納所述液晶分子的液晶分子容納空間的一側(cè),所述第二卡設(shè)部位于所述孔洞的中部。
      [0039]所述預(yù)定模具具有第一塑造部和第二塑造部,所述第一塑造部與所述第一卡設(shè)部對(duì)應(yīng),所述第二塑造部與所述第二卡設(shè)部對(duì)應(yīng),所述第一塑造部用于在所述第一框膠材料固化的過程中塑造所述第一卡設(shè)部,所述第二塑造部用于在所述第一框膠材料固化的過程中塑造所述第二卡設(shè)部。
      [0040]在所述步驟D之后,所述方法還包括以下步驟:
      在所述孔洞內(nèi)放置擋隔片,所述擋隔片卡設(shè)于所述第一卡設(shè)部,所述擋隔片位于所述孔洞靠近所述液晶分子容納空間的一側(cè)。所述擋隔片用于封堵所述孔洞,以使所述液晶分子容納空間密閉。所述擋隔片包括第一表面和第二表面,所述第一表面朝向所述液晶分子容納空間,所述第二表面背向所述液晶分子容納空間。所述第二表面上設(shè)置有筋條陣列,所述筋條陣列包括至少兩筋條,所述筋條豎立于所述第二表面上。
      [0041]向所述孔洞放置鞏固支架,所述鞏固支架與所述第二卡設(shè)部相卡設(shè)。所述筋條與所述鞏固支架交錯(cuò),即,所述筋條嵌入到所述鞏固支架內(nèi)。
      [0042]向所述孔洞注入第二框膠材料,以使所述第二框膠材料填充所述孔洞,并且所述第二框膠材料與所述鞏固支架、所述筋條混合為一體。
      [0043]對(duì)所述孔洞內(nèi)的所述第二框膠材料進(jìn)行固化,以形成封堵膠,所述封堵膠用于對(duì)所述孔洞進(jìn)行封堵。具體地,向所述孔洞內(nèi)的所述第二框膠材料照射紫外線,以使所述第二框膠材料固化。
      [0044]所述孔洞的內(nèi)壁還設(shè)置有環(huán)狀褶皺,所述環(huán)狀褶皺環(huán)繞所述孔洞所對(duì)應(yīng)的中心軸,所述封堵膠的至少一部分與所述環(huán)狀褶皺相耦合,即所述封堵膠的至少一部分與所述環(huán)狀褶皺相嵌套。所述封堵膠與所述環(huán)狀褶皺用于共同提高所述孔洞的密封性。
      [0045]所述預(yù)定模具還具有第三塑造部,所述第三塑造部,所述第三塑造部與所述環(huán)狀褶皺對(duì)應(yīng),所述第三塑造部用于在所述第一框膠材料固化的過程中塑造所述環(huán)狀褶皺。
      [0046]綜上所述,雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上,但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),均可作各種更動(dòng)與潤(rùn)飾,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。
      【主權(quán)項(xiàng)】
      1.一種OLED顯示面板制造方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟: A、形成彩色濾光片基板; B、形成薄膜晶體管陣列基板; C、將所述彩色濾光片基板和所述薄膜晶體管陣列基板疊加組合為一體,以形成液晶盒; D、在所述液晶盒內(nèi)注入液晶分子; 其中,所述步驟B包括: bl、在玻璃基板上形成柵極線材料層; b2、針對(duì)所述柵極線材料層實(shí)施光罩制程,以形成柵極線和與所述柵極線對(duì)應(yīng)的備用修補(bǔ)線,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線平行設(shè)置,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線具有預(yù)定間距; b3、按先后順序在所述柵極線以及所述備用修補(bǔ)線的表面上形成半導(dǎo)體層和金屬層;b4、在所述金屬層的上表面上形成透明電極層,所述透明電極層與所述柵極線在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上具有重疊部分;b5、在所述透明電極層上形成配向膜層; 其中,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層均設(shè)置于所述柵極線與所述透明電極層之間,并且在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層部分或全部位于所述重疊部分中,所述金屬層在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上位于所述半導(dǎo)體層的上方; 所述備用修補(bǔ)線用于在所述柵極線出現(xiàn)斷線缺陷部的情況下,與所述柵極線中被所述斷線缺陷部分隔的兩部分連接,以修補(bǔ)所述柵極線。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED顯示面板制造方法,其特征在于,所述柵極線和所述半導(dǎo)體層之間還包括第一絕緣層,所述金屬層和所述透明電極層之間還包括第二絕緣層,所述步驟B還包括: b6、在形成所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線后,在所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線的表面上形成第一絕緣層。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的OLED顯示面板制造方法,其特征在于,在所述步驟b6之后,所述步驟B還包括: b7、在所述金屬層的上表面上形成所述第二絕緣層。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的OLED顯示面板制造方法,其特征在于,所述步驟b4為: 在所述第二絕緣層的上表面上形成所述透明電極層。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的OLED顯示面板制造方法,其特征在于,所述半導(dǎo)體層為非晶硅層。6.—種薄膜晶體管陣列基板制造方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟: E、在玻璃基板上形成柵極線材料層; F、針對(duì)所述柵極線材料層實(shí)施光罩制程,以形成柵極線和與所述柵極線對(duì)應(yīng)的備用修補(bǔ)線,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線平行設(shè)置,所述備用修補(bǔ)線與所述柵極線具有預(yù)定間距; G、按先后順序在所述柵極線以及所述備用修補(bǔ)線的表面上形成半導(dǎo)體層和金屬層; H、在所述金屬層的上表面上形成透明電極層,所述透明電極層與所述柵極線在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上具有重疊部分; 1、在所述透明電極層上形成配向膜層; 其中,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層均設(shè)置于所述柵極線與所述透明電極層之間,并且在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上,所述半導(dǎo)體層與所述金屬層部分或全部位于所述重疊部分中,所述金屬層在垂直于所述薄膜晶體管陣列基板所在的平面的方向上位于所述半導(dǎo)體層的上方; 所述備用修補(bǔ)線用于在所述柵極線出現(xiàn)斷線缺陷部的情況下,與所述柵極線中被所述斷線缺陷部分隔的兩部分連接,以修補(bǔ)所述柵極線。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄膜晶體管陣列基板制造方法,其特征在于,所述柵極線和所述半導(dǎo)體層之間還包括第一絕緣層,所述金屬層和所述透明電極層之間還包括第二絕緣層,所述方法還包括以下步驟: J、在形成所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線后,在所述柵極線和所述備用修補(bǔ)線的表面上形成第一絕緣層。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的薄膜晶體管陣列基板制造方法,其特征在于,在所述步驟J之后,所述方法還包括以下步驟: K、在所述金屬層的上表面上形成所述第二絕緣層。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的薄膜晶體管陣列基板制造方法,其特征在于,所述步驟H為: 在所述第二絕緣層的上表面上形成所述透明電極層。10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的薄膜晶體管陣列基板制造方法,其特征在于,所述半導(dǎo)體層為非晶硅層。
      【文檔編號(hào)】H01L27/12GK105914214SQ201610417313
      【公開日】2016年8月31日
      【申請(qǐng)日】2016年6月15日
      【發(fā)明人】袁蕾, 崔亞軍
      【申請(qǐng)人】深圳愛易瑞科技有限公司
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
      1