專利名稱：圖案形成裝置及圖案形成方法、移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法、曝光裝置及曝光方法 ...的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及圖案形成裝置及圖案形成方法、移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及移 動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法、膝光裝置及曝光方法、以及組件制造方法，更詳細(xì)地 說(shuō)，涉及在制造半導(dǎo)體元件及液晶顯示元件等的電子組件時(shí)非常適合 在光刻工序等中使用的圖案形成裝置及圖案形成方法、能夠非常適合 在制造電子組件時(shí)使用的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法、曝光裝 置及膝光方法、以及使用該曝光裝置、曝光方法或圖案形成方法的組 件制造方法。
背景技術(shù)：
以往，在制造半導(dǎo)體元件(集成電路等)、液晶顯示組件等的電子 組件(微型組件)的光刻工序中，主要是使用步進(jìn)重復(fù)方式的縮小投影 曝光裝置(所謂步進(jìn)器)、步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置(所謂掃描步進(jìn) 器(亦稱掃描儀))。
此種曝光裝置，伴隨著集成電路的微細(xì)化，所使用的曝光用光的
波長(zhǎng)亦逐年變短，且投影光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑亦逐漸增大(大NA化)， 而能謀求分辨率的提升。然而，卻有可能產(chǎn)生因曝光用光的波長(zhǎng)短且 投影光學(xué)系統(tǒng)的大NA化而使焦深過(guò)窄，導(dǎo)致曝光動(dòng)作時(shí)的聚焦裕度 不足。因此，作為可在實(shí)質(zhì)上縮短曝光波長(zhǎng)且使焦深增加至較在空氣 中大(寬)的方法，近來(lái)有一種利用浸液法的曝光裝置越來(lái)越受到矚目 (例如參照專利文獻(xiàn)1)。
另外，隨著集成電路的微細(xì)化而對(duì)重疊精度的要求亦日趨嚴(yán)格， 而開(kāi)始要求提升用以裝栽被曝光物體、例如晶圓或玻璃板等(以下總稱 為"晶圓")的載臺(tái)(晶圓載臺(tái))的位置控制性(包含定位性能)。因此， 在最近的曝光裝置中，使晶圓載臺(tái)小型化為僅較晶圓大些許的程度， 而將裝載有以往裝載于晶圓載臺(tái)的各種測(cè)量器類、例如通過(guò)投影光學(xué) 系統(tǒng)接收照明光的傳感器(例如在投影光學(xué)系統(tǒng)的像面上接收照明光 的照度監(jiān)視器和照度不均傳感器，以及測(cè)量由投影光學(xué)系統(tǒng)所投影的
圖案的空間像(投影像)的光強(qiáng)度的、例如專利文獻(xiàn)2等公開(kāi)的空間 像測(cè)量器等)等的載臺(tái)與晶圓載臺(tái)分別設(shè)置(例如參照專利文獻(xiàn)3)。此 種具備測(cè)量載臺(tái)的曝光裝置，例如可與在晶圓載臺(tái)上更換晶圓的動(dòng)作 同時(shí)使用測(cè)量載臺(tái)來(lái)進(jìn)行各種測(cè)量，其結(jié)果亦能提升產(chǎn)能。另外，此 種膝光裝置，例如使用空間像測(cè)量器來(lái)測(cè)量投影光學(xué)系統(tǒng)的最佳聚焦 位置，并根據(jù)該測(cè)量結(jié)果來(lái)進(jìn)行曝光時(shí)的晶圓載臺(tái)(晶圓)的聚焦調(diào)平 控制。
然而，此情形下，由于用于測(cè)量最佳聚焦位置的載臺(tái)與用于膝光 時(shí)的晶圓的聚焦調(diào)平控制的栽臺(tái)相異，因此可能會(huì)于曝光時(shí)產(chǎn)生聚焦 調(diào)平控制誤差，進(jìn)而又可能產(chǎn)生散焦的曝光不良。
另外，晶圓載臺(tái)的位置測(cè)量， 一般使用高分辨能力的激光干涉儀 來(lái)測(cè)量。然而，隨著半導(dǎo)體元件的高集成化的圖案的微細(xì)化，而越被 要求以更高的精度來(lái)控制載臺(tái)位置，目前，已無(wú)法忽視在激光干涉儀
的光束光路上因環(huán)境的溫度晃動(dòng)而造成的測(cè)量值短期變動(dòng)現(xiàn)象。專利文獻(xiàn)1國(guó)際公開(kāi)第2004/053955號(hào)小冊(cè)子專利文獻(xiàn)2日本特開(kāi)2002 - 14005號(hào)>5^報(bào)專利文獻(xiàn)3國(guó)際公開(kāi)第2005/074014號(hào)小冊(cè)子

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情形而完成的，其第l觀點(diǎn)為一種第1圖案形 成裝置，通過(guò)能量束經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)將圖案形成于物體上，其具備第 1移動(dòng)體，保持該物體而在包含第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的 既定平面內(nèi)移動(dòng)；第2移動(dòng)體，在該平面內(nèi)與該第l移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)； 以及空間像測(cè)量裝置，其一部分設(shè)于該第l移動(dòng)體且剩余的一部分設(shè) 于該第2移動(dòng)體，用以測(cè)量經(jīng)由該光學(xué)系統(tǒng)而形成的標(biāo)記的空間像。
由此，由于在用以保持形成有圖案的物體的第l移動(dòng)體設(shè)有空間 像測(cè)量裝置的一部分，因此可一邊移動(dòng)第1移動(dòng)體， 一邊通過(guò)空間像 測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量空間像、進(jìn)而根據(jù)空間像的測(cè)量結(jié)果測(cè)量光學(xué)系統(tǒng)的 光學(xué)特性(例如最佳聚焦位置等)。因此，當(dāng)通過(guò)能量束經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng) 而在物體上形成圖案時(shí)，根據(jù)此光學(xué)特性的測(cè)量結(jié)果，以高精度調(diào)整 第l移動(dòng)體在光學(xué)系統(tǒng)的光軸方向的位置。另外，由于在第l移動(dòng)體 設(shè)有空間像測(cè)量裝置的一部分，因此可避免該第1移動(dòng)體大型化，而 能良好地確保其位置控制性。
本發(fā)明從第2觀點(diǎn)觀之，為一種第2圖案形成裝置，將圖案形成 于物體上，其具備第1移動(dòng)體，保持該物體而在包含第l軸及與該 第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)；第2移動(dòng)體，在該平面內(nèi)與 該第l移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)；第1測(cè)量系統(tǒng)，用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位 置信息；以及第2測(cè)量系統(tǒng)，用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息，且 測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第1測(cè)量系統(tǒng)優(yōu)異。
由此，通過(guò)第1測(cè)量系統(tǒng)測(cè)量第2移動(dòng)體的位置信息，且以測(cè)量 值的短期穩(wěn)定性較該第1測(cè)量系統(tǒng)優(yōu)異的第2測(cè)量系統(tǒng)，來(lái)測(cè)量保持 物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)的第1移動(dòng)體的位置信息。因此，能穩(wěn)定地 控制用以保持形成有圖案的物體的第l移動(dòng)體的位置。
本發(fā)明從第3觀點(diǎn)觀之，為一種第3圖案形成裝置，照射能量束 以在物體上形成圖案，其具備第l移動(dòng)體，保持該物體而在包含第 1軸及與該第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)，且設(shè)有第1光柵 及第2光柵，該第1光柵具有以與該第1軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻?格子，該第2光柵具有以與該第2軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡樱?第2移動(dòng)體，在該平面內(nèi)與該第1移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)；第1測(cè)量系統(tǒng)， 包含用以測(cè)量該第2移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息的干涉儀；以及第 2測(cè)量系統(tǒng)，包含編碼器系統(tǒng)，該編碼器系統(tǒng)具有分別與該第1、第2 光柵對(duì)向配置的多個(gè)讀頭，用以測(cè)量該第l移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置 信息。
由此，通過(guò)包含干涉儀的笫1測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量第2移動(dòng)體在既定
平面內(nèi)的位置信息，且通過(guò)包含編碼器系統(tǒng)的第2測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量第 1移動(dòng)體在既定平面內(nèi)的位置信息，該編碼器系統(tǒng)具有分別與該第1、 第2光柵對(duì)向配置的多個(gè)讀頭，該第1、第2光柵配置于第1移動(dòng)體 上且具有分別以與該第l軸、第2軸平行的方向?yàn)楦髯缘闹芷诜较虻?格子。因此，能穩(wěn)定地控制第l移動(dòng)體的位置，該第l移動(dòng)體用以保 持通過(guò)能量束的照射而形成圖案的物體。
本發(fā)明從第4觀點(diǎn)觀之，為一種第4圖案形成裝置，將圖案形成 于物體上，其具備移動(dòng)體，裝載有該物體，并保持該物體而在包含 第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)；第l光柵，具 有以與該第1軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，配置于該移?dòng)體上； 第2光柵，具有以與該第2軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，配置?該移動(dòng)體上；第1軸編碼器，具有在平行于該第2軸的方向位置相異 的多個(gè)第l讀頭，通過(guò)與該第l光柵對(duì)向的第l讀頭來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體 在平行于該笫1軸的方向的位置信息；以及第2軸編碼器，具有在平 行于該第1軸的方向位置相異的多個(gè)第2讀頭，通過(guò)與該第2光柵對(duì) 向的第2讀頭來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體在平行于該第2軸的方向的位置信 息；該多個(gè)第l讀頭，在平行于該第2軸的方向以較該第l光柵的寬 度小的間隔配置；該多個(gè)第2讀頭，在平行于該第1軸的方向以較該 第2光柵的寬度小的間隔配置。
由此，在使移動(dòng)體移動(dòng)時(shí)，可一邊依序切換第1軸編碼器的多個(gè) 第l讀頭， 一邊根據(jù)與第l光柵對(duì)向的第l讀頭的測(cè)量值來(lái)測(cè)量移動(dòng) 體在第l軸方向的位置，并與此同時(shí)地， 一邊依序切換第2軸編碼器 的多個(gè)第2讀頭， 一邊根據(jù)與第2光柵對(duì)向的第2讀頭的測(cè)量值來(lái)測(cè) 量移動(dòng)體在第2軸方向的位置。
本發(fā)明從第5觀點(diǎn)觀之，為一種第l曝光裝置，通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)以 能量束使物體曝光，其具備可在既定平面內(nèi)獨(dú)立移動(dòng)的第l及第2 移動(dòng)體；以及在該第1及第2移動(dòng)體分別設(shè)有第1及第2構(gòu)件，通過(guò) 該第1及第2構(gòu)件來(lái)檢測(cè)該能量束的檢測(cè)裝置。
由此，由于在該第l及第2移動(dòng)體上分別設(shè)有第l及第2構(gòu)件，
因此能一邊使第1移動(dòng)體移動(dòng)一邊通過(guò)檢測(cè)裝置檢測(cè)能量束。另外， 由于在第1移動(dòng)體僅設(shè)有檢測(cè)裝置一部分的第1構(gòu)件，因此可避免該 第l移動(dòng)體大型化，而能良好地確保其位置控制性。
本發(fā)明從第6觀點(diǎn)觀之，為一種第2曝光裝置，以能量束使物體 膝光，其具備第1移動(dòng)體，可保持該物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)；第 2移動(dòng)體，可在該平面內(nèi)與該第1移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)；以及測(cè)量系統(tǒng)， 包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息的第1測(cè)量裝置與用以測(cè)量該 第2移動(dòng)體的位置信息的第2測(cè)量裝置，且該第1測(cè)量裝置的測(cè)量值 的短期穩(wěn)定性較該第2測(cè)量裝置優(yōu)異。
由此，以測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第2測(cè)量裝置優(yōu)異的第1測(cè)量 裝置，來(lái)測(cè)量保持物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)的第1移動(dòng)體的位置信息。 因此，能穩(wěn)定地控制用以保持形成有圖案的物體的第l移動(dòng)體的位置。
本發(fā)明從第7觀點(diǎn)觀之，為一種第3曝光裝置，以能量束使物體 曝光，其具備第1移動(dòng)體，可保持該物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)于第 1及第2方向，設(shè)有將格子周期排列于該第1方向的第1格子部、以 及將格子周期排列于該第2方向的第2格子部；第2移動(dòng)體，可在該 平面內(nèi)與該第1移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)；以及測(cè)量系統(tǒng)，具有包含編碼器系 統(tǒng)的第l測(cè)量裝置，該編碼器系統(tǒng)通過(guò)與該第l及第2格子部相異的 兩個(gè)對(duì)向的多個(gè)讀頭來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體的位置信息；以及包含干涉 儀的第2測(cè)量裝置，該干涉儀測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息。
由此，通過(guò)包含干涉儀的第2測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量第2移動(dòng)體的位置 信息，且通過(guò)包含編碼器系統(tǒng)的第1測(cè)量裝置，來(lái)測(cè)量保持物體而在 既定平面內(nèi)移動(dòng)的第l移動(dòng)體的位置信息，該編碼器系統(tǒng)的測(cè)量值的 短期穩(wěn)定性較干涉儀優(yōu)異。因此，能穩(wěn)定地控制用以保持形成有圖案 的物體的第l移動(dòng)體的位置。
本發(fā)明從第8觀點(diǎn)觀之，為一種組件制造方法，其包含以下步驟: 使用本發(fā)明的第1至第3曝光裝置的任一者來(lái)使物體曝光；以及使該 已啄光的物體顯影。
本發(fā)明從第9觀點(diǎn)觀之，為一種笫l圖案形成方法，在物體上形
成圖案，其包含第1工序，將該物體裝載于第1移動(dòng)體上，該第1 移動(dòng)體在包含第l軸及與該第l軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)； 第2工序，使用第l測(cè)量系統(tǒng)，來(lái)測(cè)量在該平面內(nèi)與該第1移動(dòng)體獨(dú) 立移動(dòng)的第2移動(dòng)體的位置信息；以及第3工序，使用測(cè)量值的短期 穩(wěn)定性較該第1測(cè)量系統(tǒng)優(yōu)異的第2測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體之 位置信息。
由此，通過(guò)第1測(cè)量系統(tǒng)測(cè)量第2移動(dòng)體的位置信息，且以測(cè)量 值的短期穩(wěn)定性較第1測(cè)量系統(tǒng)優(yōu)異的第2測(cè)量系統(tǒng)，來(lái)測(cè)量保持物 體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)的第1移動(dòng)體的位置信息。因此，能穩(wěn)定地控 制用以保持形成有圖案的物體的第l移動(dòng)體的位置。
本發(fā)明從第IO觀點(diǎn)觀之，為一種第2圖案形成方法，照射能量束 以于物體上形成圖案，其包含以下工序?qū)⒃撐矬w裝載于第l移動(dòng)體 上的工序，該第1移動(dòng)體在包含第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的 既定平面內(nèi)移動(dòng)；第1測(cè)量工序，使用包含干涉儀的第1測(cè)量系統(tǒng)， 來(lái)測(cè)量在該平面內(nèi)與該第1移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)的第2移動(dòng)體在該平面內(nèi) 的位置信息；第2測(cè)量工序，使用包含編碼器系統(tǒng)的第2測(cè)量系統(tǒng)， 來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息，該編碼器系統(tǒng)具有分別 與該第1、第2光柵對(duì)向配置的多個(gè)讀頭，用以測(cè)量該第1移動(dòng)體在 該平面內(nèi)的位置信息，該第1、第2光柵具有配置于該第1移動(dòng)體上 且以分別平行于該第l軸、笫2軸的方向?yàn)楦髯缘闹芷诜较虻母褡印?br> 由此，通過(guò)包含干涉儀的第1測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量第2移動(dòng)體在既定 平面內(nèi)的位置信息，且通過(guò)包含編碼器系統(tǒng)的第2測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量第 l移動(dòng)體在既定平面內(nèi)的位置信息，該編碼器系統(tǒng)具有分別與該第1、 第2光柵對(duì)向配置的多個(gè)讀頭，該第1、第2光柵具有配置于第1移 動(dòng)體上且分別以與第l軸、第2軸平行的方向?yàn)楦髯缘闹芷诜较虻母?子。因此，能穩(wěn)定地控制第l移動(dòng)體的位置，該第l移動(dòng)體用以保持 通過(guò)能量束的照射而形成圖案的物體。
本發(fā)明從第ll觀點(diǎn)觀之，為一種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，用以驅(qū)動(dòng)在包 含彼此正交的第l軸及第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體，其具備
第l千涉儀，通過(guò)對(duì)設(shè)于該移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光束，來(lái)測(cè)量該 移動(dòng)體在與第l軸平行的方向的位置信息；第2干涉儀，通過(guò)對(duì)設(shè)于
該移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光束，來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在與第2軸平行的
方向的位置信息；第1光柵，具有以平行于該第1軸的方向?yàn)橹芷诜?向的格子，配置于該移動(dòng)體上；構(gòu)成第l編碼器的第l讀頭單元，具 有在平行于該第2軸的方向位置相異的多個(gè)讀頭，通過(guò)與該第1光柵 對(duì)向的讀頭來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在平行于該第l軸的方向的位置信息；第 2光柵，具有以平行于該第2軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，配置于?移動(dòng)體上；構(gòu)成第2編碼器的第2讀頭單元，具有在平行于該第l軸 的方向位置相異的多個(gè)讀頭，通過(guò)與該第2光柵對(duì)向的讀頭來(lái)測(cè)量該 移動(dòng)體在平行于該第2軸的方向的位置信息；運(yùn)算處理裝置，使用下 述兩測(cè)量值來(lái)進(jìn)行既定統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，以求出該第2光柵的格子彎曲的修 正信息，該兩測(cè)量值，即根據(jù)該第l及第2干涉儀的測(cè)量值或該第 2干涉儀及該第l讀頭單元的測(cè)量值，使該移動(dòng)體移動(dòng)于與該第l軸 平行的方向，且伴隨該移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲糜谠摰?光柵的該第2讀 頭單元的多個(gè)該讀頭所得到的測(cè)量值；以及與各測(cè)量值對(duì)應(yīng)的該第1 干涉儀及該第l讀頭單元的至少一方的測(cè)量值；以及控制裝置， 一邊 根據(jù)該第1干涉儀及該第1讀頭單元的至少一方的測(cè)量值與該第2光 柵的格子彎曲的修正信息來(lái)修正該第2讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊 進(jìn)行該移動(dòng)體往與該第2軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。
由此，通過(guò)運(yùn)算處理裝置，求出用以修正構(gòu)成第1標(biāo)尺的各格子 的彎曲的修正信息，并通過(guò)控制裝置， 一邊根據(jù)第l千涉儀及第l讀 頭單元的至少一方的測(cè)量值與第2光柵的格子彎曲的修正信息來(lái)修正 第2讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行移動(dòng)體往與第2軸平行的方向 的驅(qū)動(dòng)。因此，可不受構(gòu)成第1標(biāo)尺的各格子的彎曲的影響，使用由 第2光柵與第2讀頭單元構(gòu)成的編碼器，來(lái)以良好精度進(jìn)行移動(dòng)體往 與第2軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。另外，通過(guò)在第1軸的方向也進(jìn)行與上 述同樣的動(dòng)作，而也能以良好精度進(jìn)行移動(dòng)體往與第l軸平行的方向 的驅(qū)動(dòng)。
本發(fā)明從第12^i見(jiàn)點(diǎn)觀之，為一種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，用以驅(qū)動(dòng)在包 含彼此正交的第1軸及第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體，其包含 第l移動(dòng)工序，根據(jù)第l干涉儀的測(cè)量值與第2干涉儀的測(cè)量值來(lái)使 該移動(dòng)體移動(dòng)于與該第l軸平行的方向，該第l干涉儀通過(guò)對(duì)設(shè)于該 移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光束來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在與第1軸平行的方向 的位置信息，該第2干涉儀通過(guò)對(duì)設(shè)于該移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光 束來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在與第2軸平行的方向的位置信息；第1決定工序， 使用下述兩測(cè)量值來(lái)進(jìn)行既定統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，以決定該第l光柵的格子彎 曲的修正信息，該兩測(cè)量值，即構(gòu)成編碼器的第l讀頭單元所含的 在平行于該第1軸的方向位置相異的多個(gè)讀頭中，伴隨該第1移動(dòng)工 序的該移動(dòng)體的移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲糜谠摰?光柵的多個(gè)該讀頭所得 到的測(cè)量值；以及與各測(cè)量值對(duì)應(yīng)的該第1干涉儀的測(cè)量值，該編碼 器對(duì)具有以平行于該第2軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡忧遗渲糜谠撘苿?dòng) 體上的第1光柵照射檢測(cè)光，以測(cè)量該移動(dòng)體在平行于該第2軸的方 向的位置信息；以及驅(qū)動(dòng)工序， 一邊根據(jù)該第1干涉儀的測(cè)量值與該 第1光柵的格子彎曲的修正信息來(lái)修正該第1讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行該移動(dòng)體往與該第2軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。
由此，通過(guò)第1移動(dòng)工序與第1決定工序的處理，求出用以修正 第1光柵的格子彎曲的修正信息，并通過(guò)驅(qū)動(dòng)步驟的處理， 一邊根據(jù) 第1干涉儀的測(cè)量值與該第1光柵的格子彎曲的修正信息來(lái)修正第1 讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行移動(dòng)體往與第2軸平行的方向的驅(qū) 動(dòng)。因此，可不受第1光柵的格子彎曲的影響，使用第1光柵與第1 讀頭單元(編碼器)，來(lái)以良好精度進(jìn)行移動(dòng)體往與第2軸平行的方向 的移動(dòng)。另外，通過(guò)在第1軸的方向也進(jìn)行與上述同樣的動(dòng)作，而也 能以良好精度進(jìn)行移動(dòng)體往與第1軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。
本發(fā)明從第13觀點(diǎn)觀之，為一種第3圖案形成方法，其包含如下 工序?qū)⑽矬w裝載于可在移動(dòng)面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體上；以及為了在該物 體形成圖案而通過(guò)本發(fā)明的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法來(lái)驅(qū)動(dòng)該移動(dòng)體。
由此，能以良好精度將圖案形成于物體上。
另外，通過(guò)在光刻步驟中，使用本發(fā)明的第1至第3圖案形成方 法的任一者來(lái)將圖案形成于物體上，而能以良好精度將圖案形成于物 體上，并通過(guò)對(duì)該形成有圖案的物體施以處理(顯影、蝕刻等)，而能 以良好成品率制造更高集成度的微型組件。
因此，本發(fā)明從第14觀點(diǎn)觀之，也可說(shuō)是一種使用本發(fā)明的第1 至第3圖案形成方法的任一者的組件制造方法。
本發(fā)明從第15觀點(diǎn)觀之，為一種第l曝光方法，通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)以 能量束來(lái)使物體曝光，其包含如下步驟使用可在既定平面內(nèi)獨(dú)立移 動(dòng)的第1及第2移動(dòng)體上分別設(shè)有第1及第2構(gòu)件的檢測(cè)裝置，通過(guò) 該第l及第2構(gòu)件檢測(cè)出該能量束。
由此，由于在第l及第2移動(dòng)體上分別設(shè)有第l及第2構(gòu)件，因 此能一邊使第l移動(dòng)體移動(dòng)一邊通過(guò)檢測(cè)裝置檢測(cè)能量束。另外，由 于在第1移動(dòng)體僅設(shè)有檢測(cè)裝置一部分的第l構(gòu)件，因此可避免該第 l移動(dòng)體大型化，而能良好地確保其位置控制性。
本發(fā)明從笫16觀點(diǎn)觀之，為一種第2曝光方法，以能量束來(lái)使物 體曝光，其包含使用第l及第2測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量可保持該物體而在 既定平面內(nèi)移動(dòng)的第1移動(dòng)體、以及可在該平面內(nèi)與該第1移動(dòng)體獨(dú) 立移動(dòng)的第2移動(dòng)體的位置信息的工序；該第1測(cè)量裝置的測(cè)量值的 短期穩(wěn)定性較該第2測(cè)量裝置優(yōu)異。
由此，以測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較第2測(cè)量裝置優(yōu)異的第1測(cè)量裝 置，來(lái)測(cè)量保持物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)的第l移動(dòng)體的位置信息。 因此，能穩(wěn)定地控制用以保持形成有圖案的物體的第l移動(dòng)體的位置。
本發(fā)明從第17觀點(diǎn)觀之，為一種第3曝光方法，以能量束使物體 啄光，其包含如下工序通過(guò)第1測(cè)量裝置所具備的編碼器系統(tǒng)的與 該第l及第2格子部相異的兩個(gè)對(duì)向的多個(gè)讀頭，來(lái)測(cè)量第l移動(dòng)體 的位置信息，該第1移動(dòng)體可保持該物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)于第1 及第2方向，且設(shè)有在該笫1方向周期排列有格子的第l格子部、以 及在該第2方向周期排列有格子的第2格子部；以及通過(guò)具備第2測(cè) 量裝置的干涉儀，來(lái)測(cè)量可在該平面內(nèi)與該第l移動(dòng)體獨(dú)立移動(dòng)的第
2移動(dòng)體位置信息。
由此，通過(guò)包含干涉儀的第2測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量第2移動(dòng)體的位置 信息，且通過(guò)包含編碼器系統(tǒng)的第1測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量保持物體而在既 定平面內(nèi)移動(dòng)的第l移動(dòng)體的位置信息，該編碼器系統(tǒng)的測(cè)量值的短 期穩(wěn)定性系較干涉儀優(yōu)異。因此，能穩(wěn)定地控制用以保持形成有圖案 的物體的第l移動(dòng)體的位置。
本發(fā)明從第18觀點(diǎn)觀之，為一種組件制造方法，其包含如下步驟 使用本發(fā)明的第1至第3曝光方法的任一者來(lái)使物體曝光；以及使該 已曝光的物體顯影。


圖1是顯示一實(shí)施方式的膝光裝置的概略構(gòu)成圖。 圖2是顯示圖1的載臺(tái)裝置的俯視圖。
圖3是顯示圖1的瀑光裝置所具備的各種測(cè)量裝置(編碼器、對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)、多點(diǎn)AF系統(tǒng)、Z傳感器等)配置的俯視圖。
圖4(A)是顯示晶圓載臺(tái)的俯視圖，圖4(B)是顯示晶圓載臺(tái)的一 部分截面的概略側(cè)視圖。
圖5(A)是顯示測(cè)量載臺(tái)的俯視圖，圖5(B)是顯示測(cè)量載臺(tái)的一 部分截面的概略側(cè)^L圖。
圖6是顯示X軸固定件80，81在圖2中的+乂側(cè)端部附近的立體圖。
圖7(A) ~圖7(D)是用以說(shuō)明制動(dòng)器機(jī)構(gòu)的作用的圖。
圖8是顯示一實(shí)施方式的膝光裝置的控制系統(tǒng)主要構(gòu)成的方塊圖。
圖9(A)及圖9(B)是用以說(shuō)明分別包含配置成數(shù)組狀的多個(gè)讀頭 的多個(gè)編碼器對(duì)晶圓臺(tái)在XY平面內(nèi)的位置測(cè)量及讀頭間的測(cè)量值的 接續(xù)。
圖10(A)是顯示編碼器構(gòu)成例的圖，圖IO(B)，系顯示使用沿格 子RG的周期方向延伸較長(zhǎng)的截面形狀的激光束LB來(lái)作為檢測(cè)光的 情形。
圖11是用以說(shuō)明以一實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行的標(biāo)尺的格子間 距修正及光柵變形的修正的圖。
圖12(A) 圖12(C)是用以說(shuō)明以一實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行晶 圓對(duì)準(zhǔn)的圖。
圖13(A) ~圖13(C)是用以說(shuō)明一邊使晶圓臺(tái)WTB(晶圓W)的Z 位置變化、 一邊以多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)同時(shí)檢測(cè)晶圓上的標(biāo)記的圖。
圖14(A)及圖14(B)是用以說(shuō)明第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的基線測(cè)量動(dòng)作的圖。
圖15(A)及圖15(B)是用以說(shuō)明在批量前頭進(jìn)行的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 的基線測(cè)量動(dòng)作的圖。
圖16是用以說(shuō)明每次更換晶圓時(shí)進(jìn)行的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的基線檢 查動(dòng)作的圖。
圖17(A)及圖17(B)是用以說(shuō)明第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的位置調(diào)整動(dòng)作的圖。
圖18(A) 圖18(C)是用以i兌明以一實(shí)施方式的爆光裝置進(jìn)行聚 焦匹配的圖。
圖19(A)及圖19(B)是用以說(shuō)明以一實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行聚 焦校正的圖。
圖20(A)及圖20(B)是用以說(shuō)明以一實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行AF
傳感器間偏置修正的圖。
圖21(A)及圖21(B)是用以說(shuō)明以一實(shí)施方式的曝光裝置進(jìn)行導(dǎo) 線Z移動(dòng)^^正的圖。
圖22是顯示對(duì)晶圓載臺(tái)上的晶圓進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光的狀 態(tài)下晶圓載臺(tái)及測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖23是顯示在晶圓栽臺(tái)WST側(cè)對(duì)晶圓W的曝光已結(jié)束的階段 的晶圓載臺(tái)及測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖24是顯示在膝光結(jié)束之后、從晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)彼此分離的 狀態(tài)移至兩載臺(tái)彼此接觸的狀態(tài)后的兩載臺(tái)的狀態(tài)。
圖25是顯示一邊保持晶圓臺(tái)與測(cè)量臺(tái)在Y軸方向的位置關(guān)系、 一邊使測(cè)量載臺(tái)往-Y方向移動(dòng)且使晶圓載臺(tái)往卸載位置移動(dòng)時(shí)兩載 臺(tái)的狀態(tài)。
圖26是顯示測(cè)量載臺(tái)在到達(dá)將進(jìn)行Sec—BCHK(時(shí)距)的位置時(shí) 晶圓栽臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖27是與進(jìn)行Sec—BCHK(時(shí)距)同時(shí)將晶圓載臺(tái)從卸載位置移 動(dòng)至裝載位置時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖28是顯示測(cè)量栽臺(tái)往最佳急停待機(jī)位置移動(dòng)、晶圃裝載于晶圓 臺(tái)上時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖29是顯示測(cè)量載臺(tái)在最佳急停待機(jī)位置待機(jī)中、晶圃載臺(tái)往進(jìn) 行Pri-BCHK前半處理的位置移動(dòng)時(shí)兩載臺(tái)的狀態(tài)。
圖30是使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1 ， AL22， AL23來(lái)同時(shí)檢測(cè)附設(shè)于三個(gè)第 一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖31是顯示進(jìn)行聚焦校正前半處理時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖32是使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i~ AL24來(lái)同時(shí)檢測(cè)附設(shè)于五個(gè) 第二對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖33是在進(jìn)行Pri - BCHK后半處理及聚焦校正后半處理的至少 一者時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖34是使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24來(lái)同時(shí)檢測(cè)附設(shè)于五個(gè) 第三對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖35是使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL22， AL23來(lái)同時(shí)檢測(cè)附設(shè)于三個(gè)第 四對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記時(shí)晶圓栽臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖36是顯示對(duì)焦匹配結(jié)束時(shí)晶圓栽臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的狀態(tài)。
圖37是用以說(shuō)明組件制造方法的實(shí)施方式的流程圖。
圖38是用以顯示圖37的步驟204的具體例的流程圖。
具體實(shí)施例方式
以下，根據(jù)圖1~圖36說(shuō)明本發(fā)明的一實(shí)施方式。
圖1概略顯示一實(shí)施方式的曝光裝置100的構(gòu)成。此爆光裝置100
是步進(jìn)掃描方式的掃描型啄光裝置、亦即所謂掃描儀。如后述那樣，
在本實(shí)施方式中，設(shè)有投影光學(xué)系統(tǒng)PL，以下，將與此投影光學(xué)系統(tǒng) PL的光軸AX平行的方向設(shè)為Z軸方向、將在與該Z軸方向正交的 面內(nèi)標(biāo)線片與晶圓相對(duì)掃描的方向設(shè)為Y軸方向、將與Z軸及Y軸 正交的方向設(shè)為X軸方向，且將繞X軸、Y軸、及Z軸的旋轉(zhuǎn)(傾斜) 方向分別i殳為0x、 0y、及0z方向。
膝光裝置100，包含照明系統(tǒng)10;標(biāo)線片載臺(tái)RST，保持該照 明系統(tǒng)10的曝光用照明用光(以下稱為"照明光"或"曝光用光")IL 所照明的標(biāo)線片R;投影單元PU，包含用以使從標(biāo)線片R射出的照 明光IL投射于晶圓W上的投影光學(xué)系統(tǒng)PL;載臺(tái)裝置50，具有晶 圓栽臺(tái)WST及測(cè)量載臺(tái)MST;以及上述裝置的控制系統(tǒng)等。在晶圓 載臺(tái)WST上裝載有晶圓W。
照明系統(tǒng)10，例如日本特開(kāi)2001 - 313250號(hào)公號(hào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利 申請(qǐng)公開(kāi)第2003/0025890號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的那樣，其包含光源、 具有包含光學(xué)積分器等的照度均一化光學(xué)系統(tǒng)、標(biāo)線片遮簾等(均未圖 標(biāo))的照明光學(xué)系統(tǒng)。該照明系統(tǒng)IO,通過(guò)照明光(曝光用光)IL，以大 致均一的照度來(lái)照明被標(biāo)線片遮簾(屏蔽系統(tǒng))規(guī)定的標(biāo)線片R上的狹 縫狀照明區(qū)域IAR。此處，作為 一例，使用ArF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng)193nm) 來(lái)作為照明光IL。另外，作為光學(xué)積分器，可使用例如復(fù)眼透鏡、棒 狀積分器(內(nèi)面反射型積分器)或衍射光學(xué)元件等。
在前述標(biāo)線片載臺(tái)RTS上例如通過(guò)真空吸附固定有標(biāo)線片R,該 標(biāo)線片R在其圖案面(圖1的下面)上形成有電路圖案等。標(biāo)線片載臺(tái) RST，能通過(guò)例如包含線性馬達(dá)等的標(biāo)線片載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)ll(在圖1 未圖示、參照?qǐng)D8)而在XY平面內(nèi)微幅驅(qū)動(dòng)，且能以指定的掃描速度 驅(qū)動(dòng)于掃描方向(指圖1的圖面內(nèi)左右方向的Y軸方向)。
標(biāo)線片載臺(tái)RST在移動(dòng)面內(nèi)的位置信息(包含ez方向的旋轉(zhuǎn)信 息)，通過(guò)標(biāo)線片激光干涉儀(以下稱為"標(biāo)線片干涉儀")116，透過(guò)移 動(dòng)鏡15(實(shí)際上，設(shè)有具有與Y軸方向正交的反射面的Y移動(dòng)鏡(或后
向反射器)、以及具有與X軸方向正交的反射面的X移動(dòng)鏡)以例如 0.5 lnm左右的分辨能力隨時(shí)檢測(cè)。標(biāo)線片干涉儀116的測(cè)量值，傳 送至主控制裝置20(于圖1未圖示，參照?qǐng)D8)。主控制裝置20,根據(jù) 標(biāo)線片干涉儀116的測(cè)量值算出標(biāo)線片載臺(tái)RST在X軸方向、Y軸 方向及Gz方向的位置，且通過(guò)根據(jù)該計(jì)算結(jié)果控制標(biāo)線片載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系 統(tǒng)ll，來(lái)控制標(biāo)線片栽臺(tái)RST的位置(及速度)。此外，亦可對(duì)標(biāo)線片 載臺(tái)RST的端面進(jìn)行鏡面加工來(lái)形成反射面(相當(dāng)于移動(dòng)鏡15的反射 面)，以代替移動(dòng)鏡15。另外，激光干涉儀116亦可測(cè)量標(biāo)線片載臺(tái) RST在Z軸、0x及ey方向的至少一個(gè)的位置信息。
投影單元PU，配置于標(biāo)線片載臺(tái)RST的圖1下方。投影單元PU， 包含鏡筒40;以及投影光學(xué)系統(tǒng)PL，其具有由以既定位置關(guān)系保 持于該鏡筒40內(nèi)的多個(gè)光學(xué)元件。作為投影光學(xué)系統(tǒng)PL，例如使用 沿與Z軸方向平行的光軸AX排列的多個(gè)透鏡(透鏡元件)所構(gòu)成的折 射光學(xué)系統(tǒng)。投影光學(xué)系統(tǒng)PL,例如兩側(cè)遠(yuǎn)心且具有既定投影倍率(例 如l/4倍、1/5倍、或l/8倍等)。由此，當(dāng)以來(lái)自照明系統(tǒng)10的 照明光IL來(lái)對(duì)照明區(qū)域IAR進(jìn)行照明時(shí)，利用通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL 的第1面(物體面)與其圖案面大致配置成一致的標(biāo)線片R的照明光 IL,使該照明區(qū)域IAR內(nèi)的標(biāo)線片R的電路圖案縮小像(電路圖案的 一部分縮小像)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL(投影單元PU)而形成于區(qū)域(以 下亦稱為"曝光區(qū)域")IA;該區(qū)域IA與形成于其第2面(像面)側(cè)、 表面涂布有光阻(感光劑)的晶圓W上的前迷照明區(qū)域IAR共軛。此處， 投影單元PU經(jīng)由防振機(jī)構(gòu)搭載于以三個(gè)支柱支撐的鏡筒固定座(未圖 示)，但例如亦可如國(guó)際<&開(kāi)第2006/038952號(hào)小冊(cè)子所公開(kāi)的那樣， 將投影單元PU懸吊支撐于配置在投影單元PU上方的未圖標(biāo)主框架 構(gòu)件、或懸吊支撐于配置標(biāo)線片載臺(tái)RST的底座構(gòu)件等。
此外，本實(shí)施方式的膝光裝置100，由于進(jìn)行適用浸液法的曝光， 因此會(huì)隨著投影光學(xué)系統(tǒng)PL的數(shù)值孔徑NA在實(shí)質(zhì)上增大而使標(biāo)哉 片側(cè)的孔徑亦變大。如此，在僅以透鏡構(gòu)成的折射光學(xué)系統(tǒng)中，難以 滿足珀茲伐條件(Petzval Condition),而使投影光學(xué)系統(tǒng)趨向大型。為
避免此投影光學(xué)系統(tǒng)的大型化，亦可使用包含反射鏡與透鏡的反射折
射系統(tǒng)(catadi optric系統(tǒng))。另外，在晶圓W上可不僅形成感光層， 而亦可形成例如用以保護(hù)晶圓或感光層的保護(hù)膜(頂層涂布膜)等。
另外，本實(shí)施方式的曝光裝置100，由于進(jìn)行適用浸液法的曝光， 以包圍用于保持構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最靠像面?zhèn)?晶圓W側(cè))的光 學(xué)元件、此處為透鏡(以下亦稱"前端透鏡")191的鏡筒40的下端部 周圍的方式，設(shè)有構(gòu)成局部浸液裝置8—部分的噴嘴單元32。在本實(shí) 施方式中，如圖l所示，噴嘴單元32的下端面與前端透鏡191的下端 面設(shè)定成大致同一面高。另外，噴嘴單元32,具備液體Lq的供應(yīng)口 及回收口，與晶圓W對(duì)向配置且i殳有回收口的下面，以及分別與液體 供應(yīng)管31A及液體回收管31B連接的供應(yīng)流路及回收流路。液體供應(yīng) 管31A與液體回收管31B，如圖3所示，在俯碎見(jiàn)時(shí)(從上方XIi看)相對(duì) X軸方向及Y軸方向傾斜45。，相對(duì)通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX
的Y軸方向的直線LV配置成對(duì)稱。
在液體供應(yīng)管31A,連接有其一端連接于液體供應(yīng)裝置5(圖1中 未圖示、參照?qǐng)D8)的未圖示供應(yīng)管的另一端，在液體回收管31B，連 接有其一端連接于液體回收裝置6(圖1中未圖示、參照?qǐng)D8)的未圖示 回收管的另一端。
液體供應(yīng)裝置5,包含液體槽、加壓泵、溫度控制裝置、以及用 以控制對(duì)液體供應(yīng)管31A供應(yīng)及停止液體的閥等。該閥最好使用例如 不僅可進(jìn)行液體的供應(yīng)及停止、亦能調(diào)整流量的流量控制閥。前述溫 度控制裝置，將液體槽內(nèi)的液體溫度調(diào)整至例如與收納有膝光裝置的 處理室(未圖標(biāo))內(nèi)的溫度同樣的程度。此外，供應(yīng)液體的槽、加壓泵、 溫度控制裝置、閥等，曝光裝置100不需全部具備，亦能將其至少一 部分由設(shè)有曝光裝置100的工廠等內(nèi)的設(shè)備來(lái)代替。
液體回收裝置6,包含液體槽及吸引泵、以及透過(guò)液體回收管31B 控制液體的回收及停止的閥等。該閥最好使用與液體供應(yīng)裝置5的閥 相同的流量控制閥。此外，回收液體的槽、吸引泵、閥等，曝光裝置 100不需全部具備，亦能將其至少一部分由設(shè)有曝光裝置100的工廠
等內(nèi)的設(shè)備來(lái)代替。
本實(shí)施方式中，作為上述液體，使用可使ArF準(zhǔn)分子激光(波長(zhǎng) 193nm的光)透射的純水(以下除特別必要情況外，僅記述為"水")。 純水，具有在半導(dǎo)體制造工廠等能容易地大量獲得且對(duì)晶圓上的光阻 及光學(xué)透鏡等無(wú)不良影響的優(yōu)點(diǎn)。
水對(duì)ArF準(zhǔn)分子激光的折射率n為大致1.44。在該水中，照明光 IL的波長(zhǎng)，縮短至193nmxl/n-約134nm。
液體供應(yīng)裝置5及液體回收裝置6分別具備控制器，各控制器通 過(guò)主控制裝置20來(lái)控制(參照?qǐng)D8)。液體供應(yīng)裝置5的控制器，根據(jù) 來(lái)自主控制器20的指令，以既定開(kāi)度開(kāi)啟連接于液體供應(yīng)管31A的 閥，經(jīng)由液體供應(yīng)管31A、供應(yīng)流路、以及供應(yīng)口，將水供應(yīng)至前端 透鏡191與晶圓W之間。另外，此時(shí)，液體回收裝置6的控制器，根 據(jù)來(lái)自主控制器20的指令，以既定開(kāi)度開(kāi)啟連接于液體回收管31B 的閥，經(jīng)由回收口、回收流路、以及液體回收管31B，從前端透鏡191 與晶圓W之間將水回收至液體回收裝置6(液體槽)內(nèi)部。此時(shí)，主控 制裝置20，對(duì)液體供應(yīng)裝置5的控制器、液體回收裝置6的控制器發(fā) 出指令，以使供應(yīng)至前端透鏡191與晶圓W間的水量與回收的水量恒 相等。據(jù)此，使前端透鏡191與晶圓W間的液體(水)Lq(參照?qǐng)Dl)保 持一定量。此時(shí)，保持于前端透鏡191與晶圓W之間的液體(水)Lq 持續(xù)更換。
從上述說(shuō)明可清楚得知，在本實(shí)施方式中，局部浸液裝置8，包 含噴嘴單元32、液體供應(yīng)裝置5、液體回收裝置6、液體供應(yīng)管31A 及液體回收管31B等。此外，局部浸液裝置8的一部分、例如至少噴 嘴單元32,亦可懸吊支撐于用以保持投影單元PU的主框架(包含前述 的鏡筒固定座)，或亦可設(shè)于與主框架不同的框架構(gòu)件。或者，當(dāng)如前 所述將投影單元PU懸吊支撐時(shí)，雖亦可將投影單元PU與噴嘴單元 32—體懸吊支撐，但本實(shí)施方式中，將噴嘴單元32設(shè)于與投影單元 PU獨(dú)立懸吊支撐的測(cè)量框架。此情況下，亦可不懸吊支撐投影單元 PU。
此外，即使測(cè)量載臺(tái)MST位于投影單元PU下方時(shí)，亦能與上述 同樣地將水充滿于后述測(cè)量臺(tái)與前端透鏡191之間。
此外，在上述說(shuō)明中，作為一例，雖分別設(shè)有各一個(gè)液體供應(yīng)管(噴 嘴)與液體回收管(噴嘴)，但并不限于此，只要在考量與周圍構(gòu)件的關(guān) 系下亦能進(jìn)行配置的話，亦可采用例如國(guó)際公開(kāi)第99/49504號(hào)小冊(cè) 子所公開(kāi)的具有多個(gè)噴嘴的構(gòu)成。扼要言之，只要是能將液體供應(yīng)至 構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL最下端的光學(xué)構(gòu)件(前端透鏡)191與晶圓W之 間的構(gòu)成，該構(gòu)成可為任意者。例如，本實(shí)施方式的曝光裝置，亦能 適用公開(kāi)于國(guó)際^Hf第2004/053955號(hào)小冊(cè)子的浸液機(jī)構(gòu)或歐洲專 利申請(qǐng)公開(kāi)第1420298號(hào)公報(bào)的浸液機(jī)構(gòu)等。
回到圖1,載臺(tái)裝置50,具備；配置于底座12上方的晶圓載臺(tái) WST及測(cè)量載臺(tái)MST;干涉儀系統(tǒng)118(參照?qǐng)D8)，其包含測(cè)量這些 載臺(tái)WST、 MST的位置信息的Y軸千涉儀16、 18;后述的編碼器系 統(tǒng)，在膝光時(shí)等用以測(cè)量晶圓載臺(tái)WST的位置信息；以及驅(qū)動(dòng)載臺(tái) WST、 MST的載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)124(參照?qǐng)D8)等。
在晶圓載臺(tái)WST、測(cè)量載臺(tái)MST各自底面的多處，設(shè)有未圖示 的非接觸軸承、例如真空預(yù)壓型空氣靜壓軸承(以下稱為"空氣墊")， 通過(guò)從這些空氣墊往底座12上面噴出的加壓空氣的靜壓，使晶圓載臺(tái) WST、測(cè)量載臺(tái)MST經(jīng)由數(shù)jim程度的間隙以非接觸方式支撐于底 座12的上方。另外，載臺(tái)WST、 MST，可通過(guò)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)124而 獨(dú)立驅(qū)動(dòng)于Y軸方向(圖1的紙面內(nèi)左右方向)及X軸方向(圖l的紙面 正交方向)的二維方向。
進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)，如圖2的俯視圖所示，在地面上，延伸于Y軸 方向的一對(duì)Y軸固定件86， 87隔著底座12分別配置于X軸方向的一 側(cè)與另一側(cè)。Y軸固定件86, 87例如由內(nèi)裝有永久> 茲鐵群的磁極單元 構(gòu)成，該永久磁鐵群由沿Y軸方向以既定間隔且交替配置的多組N極 磁鐵與S極磁鐵構(gòu)成。在Y軸固定件86， 87，各兩個(gè)Y軸可動(dòng)件82， 84 及83，85設(shè)置成分別以非接觸方式卡合的狀態(tài)。亦即，合計(jì)四個(gè)Y軸 可動(dòng)件82， 84， 83， 85呈插入于XZ截面為U字型的Y軸固定件86或
87的內(nèi)部空間的狀態(tài)，分別經(jīng)由未圖示空氣墊例如經(jīng)由數(shù)nm程度的 間隙來(lái)以非接觸方式支撐于所對(duì)應(yīng)的Y軸固定件86或87。各Y軸可 動(dòng)件82， 84， 83， 85，例如由內(nèi)裝有沿Y軸方向相距既定間隔所配置的 電樞線圏的電樞單元所構(gòu)成。即，在本實(shí)施方式中，以電樞單元所構(gòu) 成的Y軸可動(dòng)件82， 84與磁極單元所構(gòu)成的Y軸固定件86，來(lái)分別 構(gòu)成移動(dòng)線圈型的Y軸線性馬達(dá)。同樣地，以Y軸可動(dòng)件83，85與Y 軸固定件87,分別構(gòu)成移動(dòng)線圏型的Y軸線性馬達(dá)。以下，將上述四 個(gè)Y軸線性馬達(dá)分別使用與各可動(dòng)件82， 84, 83， 85相同的符號(hào)來(lái)適當(dāng) 稱為Y軸線性馬達(dá)82、 Y軸線性馬達(dá)84、 Y軸線性馬達(dá)83及Y軸線 性馬達(dá)85。
上述四個(gè)Y軸線性馬達(dá)中，兩個(gè)Y軸線性馬達(dá)82， 83的可動(dòng)件 82， 83，分別固定于沿X軸方向延伸的X軸固定件80長(zhǎng)邊方向的一端 與另一端。另外，剩余的兩個(gè)Y軸線性馬達(dá)84， 85的可動(dòng)件84， 85， 固定于沿X軸方向延伸的X軸固定件81的一端與另一端。據(jù)此，X 軸固定件80， 81，即可通過(guò)各一對(duì)Y軸線性馬達(dá)82， 83， 84， 85分別沿 Y軸纟皮驅(qū)動(dòng)。
各X軸固定件80,81，例如由分別內(nèi)裝有沿X軸方向相距既定間 隔配置的電樞線圏的電樞單元所構(gòu)成。
一X軸固定件81，設(shè)置成插入形成于載臺(tái)本體91(構(gòu)成晶圓載臺(tái) WST—部分，圖2中未圖示，參照?qǐng)Dl)的未圖示開(kāi)口的狀態(tài)。在該載 臺(tái)本體91的上述開(kāi)口內(nèi)部例如設(shè)有具永久磁4失群的磁極單元，該永久 磁鐵群由沿X軸方向以既定間隔且交替配置的多組N極磁鐵與S極磁 鐵構(gòu)成。以該磁極單元與X軸固定件81來(lái)構(gòu)成用以將載臺(tái)本體91驅(qū) 動(dòng)于X軸方向的動(dòng)/P茲型X軸線性馬達(dá)。同樣地，另一X軸固定件80， 設(shè)置成插入形成于載臺(tái)本體92(構(gòu)成測(cè)量載臺(tái)MST)的開(kāi)口的狀態(tài)。在 該載臺(tái)本體92的上述開(kāi)口內(nèi)部設(shè)有與晶圓載臺(tái)WST側(cè)(載臺(tái)本體91 側(cè))同樣的磁極單元。以該磁極單元與X軸固定件80來(lái)構(gòu)成用以將測(cè) 量載臺(tái)MST驅(qū)動(dòng)于X軸方向的動(dòng)磁型X軸線性馬達(dá)。
本實(shí)施方式中，構(gòu)成載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)124的上述各線性馬達(dá)，由圖
8所示的主控制裝置20來(lái)控制。此外，各線性馬達(dá)，并不限定于動(dòng)磁 型或移動(dòng)線圏型的任一方，能視需要來(lái)適當(dāng)選擇。
此外，通過(guò)稍微改變一對(duì)Y軸線性馬達(dá)84， 85分別產(chǎn)生的推力， 而能控制晶圓載臺(tái)WST的偏轉(zhuǎn)(繞ez的方向的旋轉(zhuǎn))。另外，通過(guò)稍 微改變一對(duì)Y軸線性馬達(dá)82， 83分別產(chǎn)生的推力，而能控制測(cè)量載臺(tái) MST的偏轉(zhuǎn)。
晶圓載臺(tái)WST，包含前述載臺(tái)本體91;以及晶圓臺(tái)WTB，經(jīng) 由未圖示Z調(diào)平機(jī)構(gòu)(例如音圏馬達(dá)等)裝載于該載臺(tái)本體91上，可相 對(duì)載臺(tái)本體91微幅驅(qū)動(dòng)于Z軸方向、Gx方向、以及0y方向。此外， 圖8中，將上述各線性馬達(dá)與Z調(diào)平機(jī)構(gòu)一起顯示為載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng) 124。
在晶圓臺(tái)WTB上設(shè)有通過(guò)真空吸附等來(lái)保持晶圓W的晶圓保持 具(未圖示)。晶圓保持具雖可與晶圓臺(tái)WTB形成為一體，但本實(shí)施方 式中晶圓保持具與晶圓臺(tái)WTB分別構(gòu)成，通過(guò)例如真空吸附等將晶 圓保持具固定于晶圓臺(tái)WTB的凹部?jī)?nèi)。另外，在晶圓臺(tái)WTB上面 設(shè)有板件(憎液板)28,該板件具有進(jìn)行過(guò)相對(duì)液體Lq的憎液化處理的 表面(憎液面)，該表面與裝載于晶圓保持具上的晶圓表面大致同一 面高，且該板件的外形(輪廓)為矩形且在其中央部形成有較晶圓保持 具(晶圓的裝栽區(qū)域)大一圈的圓形開(kāi)口。板件28，由低熱膨脹率的材 料、例如玻璃或陶瓷(首德公司的Zerodur(商品名))、八1203或TiC等) 構(gòu)成，在其表面例如由氟樹(shù)脂材料、聚四氟乙烯(特氟龍(注冊(cè)商標(biāo))) 等氟系樹(shù)脂材料、丙烯酸系樹(shù)脂材料或硅系樹(shù)脂材料等來(lái)形成憎液膜。 進(jìn)一步地，如圖4(A)的晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的俯視圖所示， 板件28具有用以包圍圓形開(kāi)口的外形(輪廓)為矩形的第1憎液區(qū)域 28a、以及配置于第l憎液區(qū)域28a周圍的矩形框狀(環(huán)狀)第2憎液區(qū) 域28b。第l憎液區(qū)域28a，例如在進(jìn)行曝光動(dòng)作時(shí)，形成有從晶圓表 面超出的浸液區(qū)域14的至少一部分，第2憎液區(qū)域28b，形成有后述 編碼器系統(tǒng)用的標(biāo)尺。此外，板件28的表面的至少一部分可不與晶圓 表面為同一面高，即也可為相異的高度。另夕卜，板件28雖可為單一板
件，但在本實(shí)施方式中為多個(gè)板件，例如組合分別與第l及第2憎液 區(qū)域28a，28b對(duì)應(yīng)的第l及第2憎液板來(lái)構(gòu)成。本實(shí)施方式中，由于 如前所述使用純水來(lái)作為液體Lq，因此以下將第1及第2憎液區(qū)域 28a，28b亦分別稱為第1及第2憎水板28a，28b。
此情形下，與曝光用光IL會(huì)照射于內(nèi)側(cè)的第1憎水板28a相對(duì)地， 曝光用光IL幾乎不會(huì)照射到外側(cè)的第2憎水板28b?？剂康酱它c(diǎn)，本 實(shí)施方式中，在第1憎水板28a表面形成有第1憎水區(qū)域，其被施以 對(duì)膝光用光IL(此時(shí)為真空紫外區(qū)的光)有充分的耐性的憎水涂布膜， 而在第2憎水板28b表面則形成第2憎水區(qū)域，其被施以對(duì)曝光用光 IL的耐性較第l憎水區(qū)域差的憎水涂布膜。由于一般而言，并不容易
憎水涂布膜:因此若如上述那樣將第1憎水板28a與其周圍的第2憎 水板28b分離成兩個(gè)部分可更具效果。此外也不限于此，亦可對(duì)同一 板件的上面施加對(duì)曝光用光IL的耐性相異的兩種憎水涂布膜，以形成 第1憎水區(qū)域及第2憎水區(qū)域。另外，第l及第2憎水區(qū)域的憎水涂 布膜的種類亦可相同?；蚶缫嗫稍谕话寮H形成一個(gè)憎水區(qū)域。
另外，由圖4(A)可清楚得知，在第1憎水板28a的+ Y側(cè)端部的 X軸方向的中央部形成有長(zhǎng)方形缺口，在此缺口與第2憎水板28b所 包圍的長(zhǎng)方形空間內(nèi)部(缺口內(nèi)部)埋入有測(cè)量板30。在此測(cè)量板30的 長(zhǎng)邊方向中央(晶圓臺(tái)WTB的中心線LL上)形成基準(zhǔn)標(biāo)記FM，并且， 在該基準(zhǔn)標(biāo)記的X軸方向一側(cè)與另一側(cè)，形成有相對(duì)基準(zhǔn)標(biāo)記中心配 置成對(duì)稱的一對(duì)空間像測(cè)量狹縫圖案(狹縫狀測(cè)量用圖案)SL。各空間 像測(cè)量狹縫圖案SL，例如使用具有沿Y軸方向與X軸方向的邊的L 字形狹縫圖案，或分別沿X軸方向及Y軸方向延伸的兩個(gè)直線狀狹縫 圖案等。
另外，如圖4(B)所示，收納有光學(xué)系統(tǒng)(包含物鏡、反射鏡、中繼 透鏡等)的L字形框體36,以從晶圓臺(tái)WTB貫通載臺(tái)本體91內(nèi)部一 部分的狀態(tài)，安裝成一部分埋入于上述各空間像測(cè)量狹縫圖案SL下 方的晶圓載臺(tái)WST內(nèi)部的狀態(tài)。雖省略圖示，但框體36與上述一對(duì)空間像測(cè)量狹縫圖案SL對(duì)應(yīng)地設(shè)置有一對(duì)。
上述框體36內(nèi)部的光學(xué)系統(tǒng)，將透射過(guò)空間像測(cè)量狹縫圖案SL 的照明光IL沿L字形路徑導(dǎo)引，并朝向-Y方向射出。此外，以下 為了方便說(shuō)明，使用與框體36相同的符號(hào)將上述框體36內(nèi)部的光學(xué) 系統(tǒng)記述為送光系統(tǒng)36。
再者，在第2憎水板28b上面，沿其四邊各以既定間距直接形成 有多個(gè)格子線。進(jìn)一步詳細(xì)地說(shuō)，在第2憎水板28b的X軸方向一側(cè) 與另 一側(cè)(圖4(A)中的左右兩側(cè))的區(qū)域分別形成有Y標(biāo)尺39Y^ 39Y2， 此Y標(biāo)尺39Yh 39Y2，例如是以X軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的格子線38以 既定間距沿平行于Y軸的方向(Y軸方向)而形成的、以Y軸方向?yàn)橹?期方向的反射型光柵(例如衍射格子)所構(gòu)成。
同樣地，在第2憎水板28b的Y軸方向一側(cè)與另一側(cè)(圖4(A)中 的上下兩側(cè))的區(qū)域分別形成有X標(biāo)尺39Xn 39X2，此X標(biāo)尺39&， 39X2，例如是以Y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向的格子線37以既定間距沿平行 于X軸的方向(X軸方向)而形成的、以X軸方向?yàn)橹芷诜较虻姆瓷湫?光柵(例如衍射格子)所構(gòu)成。上述各標(biāo)尺，例如以全息攝影等在第2 憎水板28b表面作成反射型衍射格子RG(圖IO(A))。此時(shí)，在各標(biāo)尺 上以既定間隔(間距)而刻出由窄狹縫或槽等構(gòu)成的光柵來(lái)作為標(biāo)度。 并不限定用于各標(biāo)尺的衍射格子的種類，不僅能以機(jī)械方式形成槽等， 例如亦可將干涉紋燒結(jié)于感光性樹(shù)脂來(lái)加以作成。不過(guò)，各標(biāo)尺，例 如以138nm ~ 4jim間的間距(例如lpm間距)將上述衍射格子的標(biāo)度刻 于例如薄板狀玻璃來(lái)作成。這些標(biāo)尺被前述憎液膜(憎水膜)覆蓋。此 外，圖4(A)中為了方便表示，光柵的間距圖示成較實(shí)際間距大許多。 此點(diǎn)在其它的圖中亦相同。
如上所述，本實(shí)施方式由于將第2憎水板28b本身構(gòu)成標(biāo)尺，因 此使用低熱膨脹的玻璃板來(lái)作為第2憎水板28b。然而并不限于此， 亦可將由形成有光柵的低熱膨脹的玻璃板等所構(gòu)成的標(biāo)尺構(gòu)件，通過(guò) 例如板簧(或真空吸附)等固定于晶圓臺(tái)WTB上面，以避免其產(chǎn)生局部 性的伸縮，此時(shí)，亦可將在全面施有同一憎水涂布膜的憎水板代用為
板件28?；蛘?，亦可以低熱膨脹率的材料來(lái)形成晶圓臺(tái)WTB，此情 形下， 一對(duì)Y標(biāo)尺與 一對(duì)X標(biāo)尺亦可直接形成于該晶圓臺(tái)WTB上面。 晶圓臺(tái)WTB的-Y端面，-X端面，分別施以鏡面加工而形成為 圖2所示的反射面17a，反射面17b。干涉儀系統(tǒng)118(參照?qǐng)D8)的Y 軸干涉儀16及X軸干涉儀126(圖1中X軸干涉儀126并未圖示，參 照?qǐng)D2)，分別對(duì)這些反射面17a， 17b投射干涉儀光束(測(cè)距光束)，并 通過(guò)接收各自的反射光，測(cè)量各反射面從基準(zhǔn)位置(一般在投影單元 PU側(cè)面配置固定鏡，再以該處為基準(zhǔn)面)的位移、即晶圓載臺(tái)WST 在XY平面內(nèi)的位置信息，并將該測(cè)量值供應(yīng)至主控制裝置120。本 實(shí)施方式中，作為Y軸干涉儀16及X軸干涉儀126，均使用具有多 個(gè)光軸的多軸千涉儀，主控制裝置120，根據(jù)這些Y軸干涉儀16及X 軸干涉儀126的測(cè)量值，不但能測(cè)量晶圓臺(tái)WTB的X， Y位置，亦能 測(cè)量0x方向的旋轉(zhuǎn)信息(即縱搖)、6y方向的旋轉(zhuǎn)信息(即橫搖)、以及
ez方向的旋轉(zhuǎn)信息(即偏搖)。本實(shí)施方式中，晶圓載臺(tái)wst(晶圓臺(tái)
WTB)在XY平面內(nèi)的位置信息(包含0z方向的旋轉(zhuǎn)信息)，主要通過(guò) 包含上述Y標(biāo)尺、X標(biāo)尺等等的后述編碼器系統(tǒng)來(lái)測(cè)量，干涉儀16， 126 的測(cè)量值輔助性地用于修正(校正)該編碼器系統(tǒng)的長(zhǎng)期性變動(dòng)(例如因 標(biāo)尺隨時(shí)間的變化等所造成)的情況等。另外，Y軸干涉儀16的用途， 是為了更換晶圓，而在后述卸載位置及裝載位置附近測(cè)量晶圓臺(tái)WTB 的Y位置等。另外，例如在裝載動(dòng)作與對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作的期間、及/或曝光 動(dòng)作與卸載動(dòng)作的期間中晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)，亦使用干涉儀系統(tǒng)118 的測(cè)量信息、即在五自由度方向(X軸、Y軸、Gx、 Gy、 ez方向)的位 置信息的阜少一個(gè)。此外，干涉儀系統(tǒng)118的至少一部分(例如光學(xué)系 統(tǒng)等)，雖可設(shè)于用以保持投影單元PU的主框架，或與如前所述懸吊 支撐的投影單元PU設(shè)置成一體，但本實(shí)施方式中設(shè)于前述測(cè)量框架。 此外，本實(shí)施方式中，晶圓栽臺(tái)WST雖包含可在XY平面內(nèi)移 動(dòng)自如的載臺(tái)本體91,以及裝載于該栽臺(tái)本體91上、可相對(duì)載臺(tái)本 體91被z錄幅驅(qū)動(dòng)于Z軸方向、Gx方向、以及ey方向的晶圓臺(tái)WTB， 但并不限于此，亦可采用能在六自由度移動(dòng)的單一載臺(tái)來(lái)作為晶圓載
臺(tái)WST。另外，亦可于晶圓臺(tái)WTB設(shè)置由平面鏡構(gòu)成的移動(dòng)鏡來(lái)代 替反射面17a，反射面17b。再者，雖以設(shè)于投影單元PU的固定鏡的 反射面作為基準(zhǔn)面來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST的位置信息，但配置該基準(zhǔn) 面的位置并不限于投影單元PU，不一定要使用固定鏡來(lái)測(cè)量晶圓載 臺(tái)WST的位置信息。
另外，本實(shí)施方式中，由干涉儀系統(tǒng)118測(cè)量的晶圓載臺(tái)WST 的位置信息，并不用在后述膝光動(dòng)作或?qū)?zhǔn)動(dòng)作等，而主要是用在編 碼器系統(tǒng)的校正動(dòng)作(即測(cè)量值的校正)等，但例如亦可將干涉儀系統(tǒng) 118的測(cè)量信息(即五自由度方向的位置信息的至少一個(gè))用在例如曝 光動(dòng)作及/或?qū)?zhǔn)動(dòng)作等。本實(shí)施方式中，編碼器系統(tǒng)系測(cè)量晶圓載 臺(tái)WST在三自由度方向、亦即X軸、Y軸、以及0z方向的位置信息。 因此，在進(jìn)行曝光動(dòng)作等時(shí)，干涉儀系統(tǒng)118的測(cè)量信息中，可僅使 用與編碼器系統(tǒng)對(duì)晶圓載臺(tái)WST的位置信息的測(cè)量方向(X軸、Y軸、 以及Gz方向)相異的方向、例如在0x方向及/或9y方向的位置信息， 或除了該相異方向的位置信息以外，再加上使用與編碼器系統(tǒng)的測(cè)量
方向相同方向(即x軸、Y軸、以及ez方向的至少一個(gè))的位置信息。
另外，干涉儀系統(tǒng)118亦可測(cè)量晶圓載臺(tái)WST在Z軸方向的位置信 息。此時(shí)，亦可在曝光動(dòng)作等中使用Z軸方向的位置信息。
測(cè)量載臺(tái)MST，包含前述載臺(tái)本體92與裝載于該栽臺(tái)本體92上 的測(cè)量臺(tái)MTB。測(cè)量臺(tái)MTB亦經(jīng)由未圖示的Z調(diào)平機(jī)構(gòu)裝載于載臺(tái) 本體92上。然而并不限于此，亦可采用可將測(cè)量臺(tái)MTB相對(duì)載臺(tái)本 體92微動(dòng)于X軸方向、Y軸方向及ez方向的所謂粗微動(dòng)構(gòu)造的測(cè)量 載臺(tái)MST，或?qū)y(cè)量臺(tái)MSB固定于載臺(tái)本體92并使包含該測(cè)量臺(tái) MTB的載臺(tái)本體92構(gòu)成為可驅(qū)動(dòng)于六自由度方向。
在測(cè)量臺(tái)MTB(及載臺(tái)本體92)設(shè)有各種測(cè)量用構(gòu)件。作為該測(cè)量 用構(gòu)件，例如圖2及圖5(A)所示，采用具有針孔狀受光部來(lái)在投影光 學(xué)系統(tǒng)PL的像面上接收照明光IL的照度不均傳感器94、用以測(cè)量 投影光學(xué)系統(tǒng)PL所投影的圖案空間像(投影像)的空間像測(cè)量器96、 以及例如國(guó)際公開(kāi)第03/065428號(hào)小冊(cè)子等所公開(kāi)的夏克一哈特曼
(Shack - Hartman)方式的波面像差測(cè)量器98等。波面像差傳感器98, 例如能使用國(guó)際公開(kāi)第99 / 60361號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)歐洲專利第 1,079,223號(hào)說(shuō)明書(shū))所公開(kāi)的內(nèi)容。
照度不均傳感器94，例如能使用與日本特開(kāi)昭57- 117238號(hào)公 報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第4，465，368號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的相同的構(gòu)造。另夕卜， 空間像測(cè)量器96,例如能使用與日本特開(kāi)2002- 14005號(hào)公才艮(對(duì)應(yīng) 美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2002/0041377號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的相同的構(gòu) 造。此外，本實(shí)施方式中雖將三個(gè)測(cè)量用構(gòu)件(94， 96, 98)設(shè)于測(cè)量載 臺(tái)MST，但測(cè)量用構(gòu)件的種類、及/或數(shù)量等并不限于此。測(cè)量用構(gòu) 件，例如可使用用以測(cè)量投影光學(xué)系統(tǒng)P L的透射率的透射率測(cè)量器、 及/或能采用用以觀察前述局部浸液裝置8、例如噴嘴單元32(或前端 透鏡191)等的測(cè)量器等。再者，亦可將與測(cè)量用構(gòu)件相異的構(gòu)件、例 如用以清掃噴嘴單元32、前端透鏡191等的清掃構(gòu)件等裝載于測(cè)量載 臺(tái)MST。
在本實(shí)施方式中，參照?qǐng)D5(A)可知，使用頻率高的傳感器類、照 度不均傳感器94及空間像測(cè)量器96等，配置于測(cè)量載臺(tái)MST的中 心線CL(通過(guò)中心的Y軸)上。因此，在本實(shí)施方式中，使用這些傳感 器類的測(cè)量，并非以使測(cè)量載臺(tái)MST移動(dòng)于X軸方向的方式來(lái)進(jìn)行， 而僅以使其移動(dòng)于Y軸方向的方式來(lái)進(jìn)行。
除了上述各傳感器以外，尚能采用例如日本特開(kāi)平11-16816號(hào) 公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2002/0061469號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的 照度監(jiān)測(cè)器(具有在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面上接收照明光IL的既定 面積的受光部)，此照度監(jiān)測(cè)器最好亦配置于中心線。
此外，在本實(shí)施方式中，對(duì)應(yīng)所進(jìn)行的通過(guò)經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL 與液體(水)Lq的曝光用光(照明光)IL來(lái)使晶圓W曝光的浸液曝光， 使用照明光IL的測(cè)量所使用的上述照度不均傳感器94(以及照度監(jiān)測(cè) 器)、空間像測(cè)量器96、以及波面像差傳感器98,經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng) PL及水來(lái)接收照明光IL。另外，各傳感器，例如亦可僅有光學(xué)系統(tǒng) 等的一部分裝載于測(cè)量臺(tái)MTB(及載臺(tái)本體92),或亦可將傳感器整體
配置于測(cè)量臺(tái)MTB(及載臺(tái)本體92)。
如圖5(B)所示，在測(cè)量栽臺(tái)MST的栽臺(tái)本體92的-Y側(cè)端面固 定有框狀安裝構(gòu)件42。另外，在載臺(tái)本體92的-Y側(cè)端面，在安裝 構(gòu)件42開(kāi)口內(nèi)部的X軸方向的中心位置附近，以能與前述一對(duì)送光 系統(tǒng)36對(duì)向的配置固定有一對(duì)受光系統(tǒng)44。各受光系統(tǒng)44,由中繼 透鏡等的光學(xué)系統(tǒng)、受光元件(例如光電倍增管等)、以及收納這些的 框體來(lái)構(gòu)成。由圖4(B)及圖5(B)、以及截至目前為止的說(shuō)明可知，本 實(shí)施方式中，在晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST在Y軸方向接近既定 距離以內(nèi)的狀態(tài)(包含接觸狀態(tài))下，透射過(guò)測(cè)量板30的各空間像測(cè)量 狹縫圖案SL的照明光IL被前述各送光系統(tǒng)36導(dǎo)引，而以各受光系 統(tǒng)44的受光元件接收光。即，通過(guò)測(cè)量板30、送光系統(tǒng)36、以及受 光系統(tǒng)44，來(lái)構(gòu)成與前述日本特開(kāi)2002- 14005號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專 利申請(qǐng)公開(kāi)第2002/0041377號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的相同的空間像測(cè) 量裝置45(參照?qǐng)D8)。
在安裝構(gòu)件42上，延伸設(shè)置有由截面矩形的棒狀構(gòu)件構(gòu)成的作為 基準(zhǔn)構(gòu)件的基準(zhǔn)桿(以下簡(jiǎn)稱為"CD桿")。此CD桿46，通過(guò)全動(dòng)態(tài) 框構(gòu)造以動(dòng)態(tài)方式支撐于測(cè)量載臺(tái)MST上。
由于CD桿46為標(biāo)準(zhǔn)原器(測(cè)量基準(zhǔn))，因此其材料采用低熱膨脹 率的光學(xué)玻璃陶瓷、例如首德公司的Zerodur(商品名)等。此CD桿 46的上面(表面)的平坦度設(shè)定得較高，與所謂基準(zhǔn)平面板相同程度。 另外，在該CD桿46的長(zhǎng)邊方向一側(cè)與另一側(cè)端部附近，如圖5(A) 所示分別形成有以Y軸方向?yàn)橹芷诜较虻幕鶞?zhǔn)格子(例如衍射格 子)52。此一對(duì)基準(zhǔn)格子52的形成方式，是隔著既定距離(為L(zhǎng))在CD 桿46的X軸方向中心、即相對(duì)于前述中心線CL配置成對(duì)稱。
另外，在該CD桿46上面以圖5(A)所示的配置形成有多個(gè)基準(zhǔn) 標(biāo)記M。該多個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記M，以同一間距在Y軸方向形成為三4亍的 排列，各行排列形成為在X軸方向彼此偏移既定距離。各基準(zhǔn)標(biāo)記M， 例如使用可通過(guò)后述第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)檢測(cè)的尺寸的二 維標(biāo)記?；鶞?zhǔn)標(biāo)記M的形狀(構(gòu)成)雖亦可與前述基準(zhǔn)標(biāo)記FM相異，
但在本實(shí)施方式中基準(zhǔn)標(biāo)記M與基準(zhǔn)標(biāo)記FM相同構(gòu)成，且亦與晶圓 W的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相同構(gòu)成。此外，在本實(shí)施方式中，CD桿46的表面及 測(cè)量臺(tái)MTB(亦可包含前述測(cè)量用構(gòu)件)的表面均分別以憎液膜(憎水 膜)覆蓋。
測(cè)量臺(tái)MTB的+ Y端面、-X端面亦形成有與前述晶圓臺(tái)WTB 同樣的的反射面19a， 19b(參照?qǐng)D2及圖5(A))。干涉儀系統(tǒng)118(參照 圖8)的Y軸干涉儀18及X軸干涉儀130(圖1中X軸干涉儀130并未 圖示，參照?qǐng)D2)，如圖2所示分別對(duì)這些反射面19a, 19b投射干涉儀 光束(測(cè)距光束)，并通過(guò)接收各自的反射光，測(cè)量各反射面從基準(zhǔn)位 置的位移、亦即測(cè)量載臺(tái)MST的位置信息(例如至少包含X軸及Y軸 方向的位置信息與ez方向的旋轉(zhuǎn)信息)，并將該測(cè)量值供應(yīng)至主控制 裝置120。
此外，如圖2所示，在X軸固定件81與X軸固定件80設(shè)有制動(dòng) 器機(jī)構(gòu)48A，48B。如以立體圖顯示X軸固定件80,81的十X側(cè)端部附 近的圖6所示，制動(dòng)器機(jī)構(gòu)48A，包含減震器47A,設(shè)于X軸固定 件81，是例如由油阻尼器構(gòu)成的緩沖裝置；以及開(kāi)閉器49A，設(shè)于X 軸固定件80的減震器47A的對(duì)向位置(+ X端部的-Y側(cè)端面)。在X 軸固定件80的與減震器47A對(duì)向的位置形成有開(kāi)口 51A。
開(kāi)閉器49A，如圖6所示，設(shè)于形成在X軸固定件80的開(kāi)口 51A 的-Y側(cè)，可通過(guò)包含氣缸等的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)34A被驅(qū)動(dòng)于箭頭A、 A，方 向(Z軸方向)。據(jù)此，可通過(guò)開(kāi)閉器49A來(lái)4吏開(kāi)口 51A成為開(kāi)啟狀態(tài) 或關(guān)閉狀態(tài)。由該開(kāi)閉器49A控制的開(kāi)口 51A的開(kāi)閉狀態(tài)，通過(guò)設(shè)于 該開(kāi)閉器49A附近的開(kāi)關(guān)傳感器(圖6中未圖示、參照?qǐng)D8)101來(lái)檢測(cè)， 該檢測(cè)結(jié)果送至主控制裝置20。
制動(dòng)器機(jī)構(gòu)48B與制動(dòng)器機(jī)構(gòu)48A為同樣的構(gòu)成。亦即如圖2所 示，制動(dòng)器機(jī)構(gòu)48B，包含設(shè)于X軸固定件81的-X端部附近的減 震器47B、以及設(shè)于X軸固定件80的與前述減震器47B對(duì)向的位置 的開(kāi)閉器49B。另外，在X軸固定件80的開(kāi)閉器49B的+ Y側(cè)部分 形成有開(kāi)口 51B。
此處，根據(jù)圖7(A)~圖7(D)，以制動(dòng)器機(jī)構(gòu)物A為代表說(shuō)明前述 制動(dòng)器機(jī)構(gòu)48A， 48B的作用。
如圖7(A)所示，在開(kāi)閉器49A處于關(guān)閉開(kāi)口 51A的狀態(tài)的情形下， 如圖7(B)所示當(dāng)X軸固定件81與X軸固定件80接近時(shí)，也通過(guò)減震 器47A與開(kāi)閉器49A的接觸(抵接)，使X軸固定件80， 81彼此不能更 加接近。此時(shí)，如圖7(B)所示，當(dāng)固定于減震器47A的活塞104a前 端的讀頭部104d移動(dòng)至最靠—Y側(cè)時(shí)(即，減震器47A的未圖示彈簧 縮為最短，其全長(zhǎng)為最短時(shí))，也為晶圓臺(tái)WTB與測(cè)量臺(tái)MTB彼此 不接觸的構(gòu)成。
另一方面，如圖7(C)所示，當(dāng)經(jīng)由驅(qū)動(dòng)才幾構(gòu)34A來(lái)降下驅(qū)動(dòng)開(kāi)閉 器49A時(shí)，開(kāi)口 51A即成為開(kāi)放狀態(tài)。此時(shí)當(dāng)X軸固定件81， 80彼 此接近時(shí)，即會(huì)如圖7(D)所示，可使減震器74A的活塞104a前端部 的至少一部分進(jìn)入開(kāi)口 51A內(nèi)，而能使X軸固定件80, 81彼此較圖 7(B)所示的狀態(tài)更接近。在此種X軸固定件81，80彼此為最接近的狀 態(tài)下，能使晶圓臺(tái)WTB與測(cè)量臺(tái)MTB(CD桿46)彼此接觸(或使其接 近至相距300nm左右的距離)(參照?qǐng)D14(B)等)。
開(kāi)口 51A的深度，可如圖7(D)所示，設(shè)定成即使在X軸固定件 81， 80彼此為最接近的狀態(tài)下在減震器47A與開(kāi)口 51A的終端部(相當(dāng) 于底部部分)之間形成有間隙，或也可設(shè)定成減震器47A的活塞104a 的讀頭部104d接觸于終端部。另外，在X軸固定件81， 80相對(duì)移動(dòng) 于X軸方向時(shí)，也可根據(jù)相對(duì)移動(dòng)的量來(lái)預(yù)先設(shè)定開(kāi)口部寬度，以使 減震器47A與開(kāi)口 51A的壁部不接觸。
此外，在本實(shí)施方式中，雖在X軸固定件81與X軸固定件80設(shè) 有一對(duì)制動(dòng)器4幾構(gòu)48A， 48B，但也可僅設(shè)置制動(dòng)器機(jī)構(gòu)48A, 48B的一 方，或也可在晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST上設(shè)置與上述同樣的制 動(dòng)器機(jī)構(gòu)。
返回圖2，在X軸固定件80的+ X端部設(shè)有間隔偵測(cè)傳感器43A 與撞擊偵測(cè)傳感器43B，在X軸固定件81的+乂端部，在其+ Y側(cè)突 設(shè)有在Y軸方向細(xì)長(zhǎng)的板狀構(gòu)件41A。另外，如圖2所示，在X軸固
定件80的-X端部設(shè)有間隔偵測(cè)傳感器43C與撞擊偵測(cè)傳感器43D， 于X軸固定件81的-X端部，在其+Y側(cè)突設(shè)有在Y軸方向細(xì)長(zhǎng)的 板狀構(gòu)件41B。
間隔偵測(cè)傳感器43A,例如由透射型光傳感器(例如LED-PTr 的透射型光傳感器)構(gòu)成，如圖6所示，包含U字形固定構(gòu)件142、以 及分別設(shè)于該固定構(gòu)件142的對(duì)向的一對(duì)面上的發(fā)光部144A與受光 部144B。通過(guò)該間隔偵測(cè)傳感器43A，當(dāng)X軸固定件80與X軸固定 件81從圖6的狀態(tài)更為接近時(shí)，板狀構(gòu)件41A即進(jìn)入受光部144B與 發(fā)光部144A之間，使該板狀構(gòu)件41A的下半部遮蔽來(lái)自發(fā)光部144A 的光，以使受光部144B接收的光即徐徐減少，使其輸出電流變小。 因此，主控制裝置20，能通過(guò)檢測(cè)該輸出電流，來(lái)偵測(cè)出X軸固定件 80， 81的間隔已為既定3巨離以下。
撞擊偵測(cè)傳感器43B，如圖6所示包含U字型固定構(gòu)件143以及 分別設(shè)于該固定構(gòu)件143的對(duì)向的一對(duì)面上的發(fā)光部145A與受光部 145B。此時(shí)，發(fā)光部145A,如圖6所示，配置在稍高于前述間隔偵 測(cè)傳感器43A的發(fā)光部144A的位置，與此對(duì)應(yīng)地，受光部145B配 置在稍高于間隔偵測(cè)傳感器43A的受光部144B的位置。
通過(guò)此撞擊偵測(cè)傳感器43B,在X軸固定件81，80彼此更接近、 使晶圓臺(tái)WTB與CD桿46(測(cè)量臺(tái)MTB)接觸的階段時(shí)(或接近至 300nm左右的距離的階段)，由于板狀構(gòu)件41A的上半部定位于發(fā)光 部145A與受光部145B之間，因此來(lái)自發(fā)光部145A的光不會(huì)射入受 光部145B。因此，主控制裝置20，即能檢測(cè)出來(lái)自受光部145B的輸 出電流為零，由此來(lái)偵測(cè)出兩臺(tái)彼此接觸(或接近至300pm左右的距 離)。
此外，設(shè)于X軸固定件80的-X端部附近的間隔偵測(cè)傳感器43C 及撞擊偵測(cè)傳感器43D，與上述的間隔偵測(cè)傳感器43A及撞擊偵測(cè)傳 感器43B為相同的構(gòu)成，板狀構(gòu)件41B與前述板狀構(gòu)件41A也為相同 的構(gòu)成。
本實(shí)施方式的膝光裝置100，雖在圖1中為了避免圖示過(guò)于復(fù)雜
而予以省略，但實(shí)際上如圖3所示，配置有第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1,該第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1在通過(guò)投影單元PU的中心(與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光 軸AX—致，在本實(shí)施方式中也與前述曝光區(qū)域IA的中心一致)且與 Y軸平行的直線LV上，從該光軸往-Y側(cè)相隔既定距離的位置具有 檢測(cè)中心。此第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1，經(jīng)由支撐構(gòu)件54固定于未圖示主 框架的下面。隔著此第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的X軸方向一側(cè)與另一側(cè)， 分別設(shè)有其檢測(cè)中心相對(duì)該直線LV配置成大致對(duì)稱的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2！， AL22與AL23， AL24。即，五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2, ~ AL24的檢 測(cè)中心，在X軸方向配置于相異位置，亦即沿X軸方向配置。
各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n(n = l~4)，如代表顯示的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL24般，固定于能以旋轉(zhuǎn)中心O為中心往圖3中的順時(shí)針及逆時(shí)針 方向旋轉(zhuǎn)既定角度范圍的臂56n(n - 1 ~ 4)前端(旋動(dòng)端)。在本實(shí)施方式 中，各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的一部分(例如至少包含將對(duì)準(zhǔn)光照射于檢 測(cè)區(qū)域、且將檢測(cè)區(qū)域內(nèi)的對(duì)象標(biāo)記所產(chǎn)生的光導(dǎo)至受光元件的光學(xué) 系統(tǒng))固定于臂56n,剩余的一部分則設(shè)于用以保持投影單元PU的主 框架。第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2t， AL22， AL23， AL24能通過(guò)分別以旋轉(zhuǎn)中心 O為中心旋動(dòng)來(lái)調(diào)整X位置。亦即，第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2，， AL22， AL23， AL24的檢測(cè)區(qū)域(或檢測(cè)中心)能獨(dú)立移動(dòng)于X軸方向。因此，第一對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i， AL22， AL23， AL24能調(diào)整其檢測(cè)區(qū) 域在X軸方向的相對(duì)位置。此外，在本實(shí)施方式中，雖通過(guò)臂的旋動(dòng) 來(lái)調(diào)整第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2b AL22， AL23, AL24的X位置，但并不限于 此，亦可設(shè)置將第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i， AL22， AL23， AL24往復(fù)驅(qū)動(dòng)于X 軸方向的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。另外，第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2l5 AL22， AL23， AL24的 至少一個(gè)也可不僅可移動(dòng)于X軸方向而也可移動(dòng)于Y軸方向。此外， 由于各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的一部分通過(guò)臂56n來(lái)移動(dòng)，因此可通過(guò)未 圖示傳感器例如千涉儀或編碼器等來(lái)測(cè)量固定于臂56n的一部分的位 置信息。此傳感器可僅測(cè)量第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n在X軸方向的位置信 息，也能測(cè)量其它方向例如Y軸方向及/或旋轉(zhuǎn)方向(包含ex及ey 方向的至少一方)的位置信息。
在前述各臂56 上面，設(shè)有由差動(dòng)排氣型的空氣軸承構(gòu)成的真空 墊58 (11=1~4)。另外，臂56n,例如通過(guò)包含馬達(dá)等的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 60n(n = l~4，圖3中未圖示，參照?qǐng)D8),可依主控制裝置20的指示 來(lái)旋動(dòng)。主控制裝置20在臂56n的旋轉(zhuǎn)調(diào)整后，使各真空墊58n作動(dòng) 以將各臂56n吸附固定于未圖示主框架。由此，即可維持各臂56n的旋 轉(zhuǎn)角度調(diào)整后的狀態(tài)，即維持第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及4個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2i ~ AL24的所希望的位置關(guān)系。此外，各臂的旋轉(zhuǎn)的具體調(diào)整方法， 即4個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2, AL24相對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的相對(duì)位置 的調(diào)整方法，留待后述。
此外，與主框架的臂56 對(duì)向的部分只要是磁性體，也代替真空 墊58采用電磁鐵。
本實(shí)施方式的第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及4個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2j AL24,可4吏用例如圖4象處理方式的FIA(Field Image Alignment(場(chǎng)像 對(duì)準(zhǔn)))系統(tǒng)，其能將不會(huì)使晶圓上的光阻感光的寬頻檢測(cè)光束照射于 對(duì)象標(biāo)記，并以攝影元件(CCD(電荷耦合裝置)等)拍攝通過(guò)來(lái)自該對(duì)象 標(biāo)記的反射光而成像于受光面的對(duì)象標(biāo)記像、以及未圖示的指針(設(shè)于 各對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)內(nèi)的指針板上的指針圖案)像，并輸出這些拍攝信號(hào)。來(lái)自 第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及4個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2, AL24各自的攝影信號(hào)， 供應(yīng)至圖8的主控制裝置20。
此外，上述各對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)不限于FIA系統(tǒng)，當(dāng)然也能單獨(dú)或適當(dāng)組 合使用能將相干檢測(cè)光照射于對(duì)象標(biāo)記以檢測(cè)從此對(duì)象標(biāo)記產(chǎn)生的散 射光或衍射光的對(duì)準(zhǔn)傳感器，或是干涉從該對(duì)象標(biāo)記產(chǎn)生的兩衍射光 (例如同階數(shù)的衍射光、或衍射于同方向的衍射光)來(lái)加以檢測(cè)的對(duì)準(zhǔn)
傳感器。另外，本實(shí)施方式中雖設(shè)置了五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24，但其數(shù)目并不限于五個(gè)，也可以是兩個(gè)以上且四個(gè)以下，或六 個(gè)以上也可，或也可以不是奇數(shù)而為偶數(shù)。再者，在本實(shí)施方式中， 五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24，雖經(jīng)由支撐構(gòu)件54固定于用以保持 投影單元PU的主框架下面，但并不限于此，也可設(shè)于例如前述測(cè)量 框架。
本實(shí)施方式的膝光裝置100，如圖3所示，以從四方包圍前述噴 嘴單元32周圍的狀態(tài)配置有編碼器系統(tǒng)的四個(gè)讀頭單元62A ~ 62D。 這些讀頭單元62A~62D,雖在圖3等中為了避免圖示過(guò)于復(fù)雜而予 以省略，但實(shí)際上經(jīng)由支撐構(gòu)件以懸吊狀態(tài)固定于用以保持前述投影 單元PU的主框架。此外，讀頭單元62A~62D在例如投影單元PU 為懸吊支撐的情形下，也可與投影PU懸吊支撐成一體，或設(shè)于前述 測(cè)量框架。
讀頭單元62A，62C，在投影單元PU的+X側(cè)、-X側(cè)，分別以 X軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向且相對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX配置成從光 軸AX大致相隔同一距離。另外，讀頭單元62B，62D,在投影單元PU 的+Y側(cè)、-Y側(cè)，分別以Y軸方向?yàn)殚L(zhǎng)邊方向且配置成從投影光學(xué) 系統(tǒng)PL的光軸AX大致相隔同一3巨離。
如圖3所示，讀頭單元62A， 62C，具備多個(gè)(此處為六個(gè))以既定 間隔沿X軸方向配置于通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX且與X軸平 行的直線LH上的Y讀頭64。讀頭單元62A，構(gòu)成^f吏用前述Y標(biāo)尺 39Yi來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST(晶圓臺(tái)WTB)在Y軸方向的位置(Y位置) 的多眼(此處為六眼)的Y線性編碼器(以下適當(dāng)簡(jiǎn)稱為"Y編碼器"或 "編碼器")70A(參照?qǐng)D8)。同樣地，讀頭單元62C,構(gòu)成使用前述Y 標(biāo)尺39Y2來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST(晶圓臺(tái)WTB)的Y位置的多眼(此處 為六眼)的Y編碼器70C(參照?qǐng)D8)。此處，讀頭單元62A，62C所具備 的相鄰Y讀頭64(亦即測(cè)量光束)的間隔，設(shè)定成較前述Y標(biāo)尺39Yh 39￥2在X軸方向的寬度(更正確而言為格子線38的長(zhǎng)度)窄。另外， 讀頭單元62A， 62C各自具備的多個(gè)Y讀頭64中位于最內(nèi)側(cè)的Y讀頭 64，為了盡可能地接近投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸配置，固定于投影光 學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒40下端部(更正確而言為包圍前端透鏡191的噴嘴 單元32的橫方向側(cè))。
如圖3所示，讀頭單元62B，具備多個(gè)(此處為七個(gè))以既定間隔 沿Y軸方向配置于上述直線LV上的X讀頭66。另外，讀頭單元62D, 具備多個(gè)(此處為十一個(gè)(不過(guò)，圖3的十一個(gè)中與第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1
重疊的三個(gè)未圖標(biāo)))以既定間隔配置于上述直線LV上的X讀頭66。 讀頭單元62B，構(gòu)成使用前述X標(biāo)尺39Xi來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST(晶圓 臺(tái)WTB)在X軸方向的位置(X位置)的多眼(此處為七眼)的X線性編 碼器(以下適當(dāng)簡(jiǎn)稱為"X編碼器"或"編碼器")70B(參照?qǐng)D8)。另 外，讀頭單元62D，構(gòu)成使用前述X標(biāo)尺39X2來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST(晶 圓臺(tái)WTB)的X位置的多目艮(此處為十一目艮)的X編碼器70D(參照?qǐng)D8)。 另外，在本實(shí)施方式中，例如在進(jìn)行后述對(duì)準(zhǔn)時(shí)等讀頭單元62D所具 備的十一個(gè)X讀頭66中的兩個(gè)讀頭66，有時(shí)會(huì)同時(shí)對(duì)向于X標(biāo)尺39X, X標(biāo)尺39Xz。此時(shí)，通過(guò)X標(biāo)尺39Xi和與之對(duì)向的X讀頭66來(lái)構(gòu) 成X線性編碼器70B，并通過(guò)X標(biāo)尺39X2和與之對(duì)向的X讀頭66 來(lái)構(gòu)成X線性編碼器70D。
此處，十一個(gè)X讀頭66中的一部分、此處為三個(gè)X讀頭，安裝 于第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的支撐構(gòu)件54下方。另外，讀頭單元62B，62D 各自具備的相鄰X讀頭66(測(cè)量光束)的間隔，設(shè)定成較前述X標(biāo)尺 39Xl5 39X2在Y軸方向的寬度(更正確而言為格子線37的長(zhǎng)度)窄。又， 讀頭單元62B， 62D各自具備的多個(gè)X讀頭66中位于最內(nèi)側(cè)的X讀頭 66，為了盡可能地接近投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸配置，固定于投影光 學(xué)系統(tǒng)PL的鏡筒下端部(更正確而言為包圍前端透鏡191的噴嘴單元 32的纟黃方向側(cè))。
再者，在第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2,的-X側(cè)、第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL24的十 X側(cè)，分別設(shè)有在平行于X軸的直線(通過(guò)第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的檢測(cè) 中心)上且其檢測(cè)點(diǎn)相對(duì)該檢測(cè)中心配置成大致對(duì)稱的Y讀頭64yi， 64y2。 Y讀頭64y^64y2的間隔，設(shè)定成大致與前述距離L相等。Y讀 頭64yi,64y2，在晶圓載臺(tái)WST上的晶圓W中心位于上述直線LV上 的圖3所示的狀態(tài)下，分別與Y標(biāo)尺39Y2，39Y，對(duì)向。在進(jìn)行后述的 對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作時(shí)，Y標(biāo)尺39Y2， 39Y!分別與Y讀頭64yi， 64y2對(duì)向配置， 通過(guò)該Y讀頭64yi， 64y2(即通過(guò)這些Y讀頭64yi， 64y2構(gòu)成的Y編碼 器70C，70A)來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST的Y位置(及ez旋轉(zhuǎn))。
另外，在本實(shí)施方式中，在進(jìn)行第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的后述基線測(cè)量時(shí)
等，CD桿46的一對(duì)基準(zhǔn)格子52與Y讀頭64y,，64y2分別對(duì)向，通過(guò) 與Y讀頭64yi， 64y2對(duì)向的基準(zhǔn)格子52，以各自的基準(zhǔn)格子52的位置 來(lái)測(cè)量CD桿46的Y位置。以下，將通過(guò)與基準(zhǔn)格子52分別對(duì)向的 Y讀頭64yi，64y2所構(gòu)成的編碼器稱為Y軸線性編碼器70E， 70F(參照 圖8)。
上述六個(gè)線性編碼器70A~ 70E的測(cè)量值，供應(yīng)至主控制裝置20， 主控制裝置20根據(jù)線性編碼器70A~70D的測(cè)量值控制晶圓臺(tái)WTB 在XY平面內(nèi)的位置，并根據(jù)線性編碼器70E, 70F的測(cè)量值控制CD 桿46在0z方向的旋轉(zhuǎn)。
如圖3所示，本實(shí)施方式的膝光裝置100，設(shè)有與照射系統(tǒng)卯a(chǎn) 及受光系統(tǒng)90b(參照?qǐng)D8)所構(gòu)成、例如在日本特開(kāi)平6- 283403號(hào)公 報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第5,448,332號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的相同結(jié)構(gòu)的斜入射 方式的多點(diǎn)焦點(diǎn)位置檢測(cè)系統(tǒng)(以下簡(jiǎn)稱為"多點(diǎn)AF系統(tǒng)")。本實(shí)施 方式中，作為其一例，在前述讀頭單元62C的-X端部的-Y側(cè)配置 照射系統(tǒng)90a，并以與其相對(duì)的狀態(tài)在前述讀頭單元62A的+ X端部 的- Y側(cè)配置受光系統(tǒng)90b。
此多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)，在凈皮檢測(cè)面上沿X軸方 向以既定間隔配置。本實(shí)施方式中，例如配置成一行M歹'j(M為檢測(cè) 點(diǎn)的總數(shù))或兩行N列(N為檢測(cè)點(diǎn)總數(shù)的1/2)的行矩陣狀。圖3中并 未個(gè)別圖示檢測(cè)光束分別照射的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)，而顯示在照射系統(tǒng)90a 及受光系統(tǒng)90b之間延伸于X軸方向的細(xì)長(zhǎng)檢測(cè)區(qū)域AF。此檢測(cè)區(qū) 域AF，由于其X軸方向的長(zhǎng)度設(shè)定成與晶圓W的直徑相同，因此通 過(guò)僅沿Y軸方向掃描晶圓W—次，即能測(cè)量晶圓W的大致整個(gè)面的 Z軸方向位置信息(面位置信息)。另外，該檢測(cè)區(qū)域AF，由于在Y軸 方向配置于前述浸液區(qū)域14(曝光區(qū)域IA)與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(AL1， AL2h AL22， AL23， AL2"的檢測(cè)區(qū)域之間，因此能同時(shí)以多點(diǎn)AF系統(tǒng)與對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)進(jìn)行其檢測(cè)動(dòng)作。多點(diǎn)AF系統(tǒng)雖可設(shè)于用以保持投影單元PU 的主框架等，但在本實(shí)施方式中設(shè)于前述測(cè)量框架。
此外，多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)雖以1行M列或2行N列來(lái)配置，但行數(shù)及
/或列數(shù)并不限于此。不過(guò)，當(dāng)行數(shù)為2以上時(shí)，最好在不同的行之 間使檢測(cè)點(diǎn)在X軸方向的位置也相異。再者，雖多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)沿X軸方 向配置，但并不限于此，也可在Y軸方向在不同的位置配置多個(gè)檢測(cè) 點(diǎn)的全部或者一部分。例如也可沿與X軸及Y軸兩方交叉的方向配置 多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)。即，多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)只要至少在X軸方向位置相異即可。另 外，雖在本實(shí)施方式中對(duì)多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)照射檢測(cè)光束，但例如也可對(duì)檢 測(cè)區(qū)域AF的整個(gè)區(qū)域照射檢測(cè)光束。再者，檢測(cè)區(qū)域AF在X軸方 向的長(zhǎng)度也可與晶圓W的直徑不相同。
本實(shí)施方式的膝光裝置100，在多點(diǎn)AF系統(tǒng)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)中位 于兩端的檢測(cè)點(diǎn)附近、即檢測(cè)區(qū)域AF的兩端部附近，以相對(duì)前述直 線LV呈對(duì)稱的配置設(shè)有各一對(duì)Z位置測(cè)量用面位置傳感器(以下簡(jiǎn)稱 為"Z傳感器")72a， 72b及72c， 72d。這些Z傳感器72a ~ 72d固定 于未圖示主框架的下面。Z傳感器72a 72d，使用例如使用在CD驅(qū) 動(dòng)裝置等中的光拾取器那樣構(gòu)成的光學(xué)式位移傳感器(CD拾取方式的 傳感器)，其從上方對(duì)晶圓臺(tái)WTB上方照射光，并接收其反射光來(lái)測(cè) 量該光的照射點(diǎn)中晶圓臺(tái)WTB表面在與XY平面正交的Z軸方向的 位置信息。此外，Z傳感器72a 72d也可設(shè)于前述測(cè)量框架等。
再者，前述讀頭單元62C，具備隔著X軸方向的直線LH(連結(jié)多 個(gè)Y讀頭64)位于一側(cè)與另一側(cè)、分別沿平行于直線LH的兩條直線 上且以既定間隔配置的多個(gè)(此處為各六個(gè)，合計(jì)為十二個(gè))Z傳感器 74j,j(i-l，2， j = l，2, ...，6)。此時(shí)，成對(duì)的Z傳感器74w、 Z傳感器 742，j，相對(duì)上述直線LH配置成對(duì)稱。再者，多對(duì)(此處為六對(duì))的Z傳 感器74,，j、 Z傳感器742，j與多個(gè)Y讀頭64,在X軸方向交替配置。 各Z傳感器74j,j，例如使用與前述Z傳感器72a 72d相同的CD拾 取方式的傳感器。
此處，位于相對(duì)直線LH成對(duì)稱的位置的各對(duì)Z傳感器74,，j， 742,j 的間隔，設(shè)定成與前述Z傳感器74c,74d的間隔相同的間隔。又，一 對(duì)Z傳感器74i，4， 742，4，位于與Z傳感器72a，72b相同的與Y軸方向 平行的直線上。
另外，前述讀頭單元62A，具備相對(duì)前述直線LV與上述多個(gè)Z 傳感器74i,j配置成對(duì)稱的多個(gè)、此處為12個(gè)的Z傳感器76p,q(p = 1, 2 ， q = 1， 2， ...， 6)。各Z傳感器76p,q，例如使用與前述Z傳感器72a ~ 72d 相同的CD拾取方式的傳感器。另外， 一對(duì)Z傳感器76^, 762,3,位于 與Z傳感器72c，72d相同的Y軸方向的直線上。
此外，圖3中省略測(cè)量載臺(tái)MST的圖示，以保持于該測(cè)量載臺(tái) MST與前端透鏡191之間的水Lq而形成的浸液區(qū)域由符號(hào)14表示。 另外，該圖3中，符號(hào)78表示局部空調(diào)系統(tǒng)，其用以將溫度被調(diào)整至 既定溫度的干燥空氣沿圖3中所示的白色箭頭通過(guò)例如降流送至多點(diǎn) AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)，90b)的光束路附近。另夕卜，符號(hào)UP,表示進(jìn)行晶圓在晶 圓臺(tái)WTB上的卸載的卸載位置，符號(hào)LP表示進(jìn)行將晶圓裝載于晶 圓臺(tái)WTB上的裝載位置。本實(shí)施方式中，卸栽位置UP與裝載位置 LP相對(duì)直線LV設(shè)定成對(duì)稱。此外，也能使卸載位置UP與裝載位置 LP為同一位置。
圖8，顯示膝光裝置100的控制系統(tǒng)的主要構(gòu)成。此控制系統(tǒng)， 以由用以統(tǒng)籌控制裝置整體的微電腦(或工作站)所構(gòu)成的主控制裝置 20為中心而構(gòu)成。此外，圖8中，將前述照度不均傳感器94、空間像 測(cè)量器96、以及波面像差傳感器98等設(shè)于測(cè)量載臺(tái)MST的各種傳感 器，合稱為傳感器群99。
以上述方式構(gòu)成的本實(shí)施方式的曝光裝置100，由于采用如前所 述的晶圓臺(tái)WTB上的X標(biāo)尺、Y標(biāo)尺的配置及如前述的X讀頭、Y 讀頭的配置，因此會(huì)如圖9(A)及圖9(B)等的示例所示，晶圓載臺(tái)WST 的有效行程范圍(即本實(shí)施方式中的為了進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)及膝光動(dòng)作而移動(dòng) 的范圍)中，X標(biāo)尺39Xi， 39X2與讀頭單元62B， 62D(X讀頭66)—定分 別對(duì)向，且Y標(biāo)尺39Y，， 39Y2與讀頭單元62A, 62C(Y讀頭64)或Y讀 頭64yi， 64y2—定分別對(duì)向。此外，圖9(A)及圖9(B)中，相對(duì)應(yīng)的與 X標(biāo)尺或Y標(biāo)尺對(duì)向的讀頭以圓圏框住表示。
因此，主控制裝置20可在前述晶圓載臺(tái)WST的有效行程范圍中， 通過(guò)根據(jù)編碼器70A 70D的至少三個(gè)的測(cè)量值控制構(gòu)成載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系
統(tǒng)124的各馬達(dá)，來(lái)以高精度控制晶圓載臺(tái)WST在XY平面內(nèi)的位 置信息(包含6z方向的旋轉(zhuǎn)信息)。編碼器70A~ 70D的測(cè)量值所承受 的空氣晃動(dòng)的影響，由于與干涉儀相較小到幾乎可忽視，因此起因于 空氣晃動(dòng)的測(cè)量值的短期穩(wěn)定性，較干涉儀好上許多。此外，本實(shí)施 方式中，根據(jù)晶圓栽臺(tái)WST的有效行程范圍及標(biāo)尺的尺寸(亦即衍射 格子的形成范圍)等來(lái)設(shè)定讀頭單元62B， 62D， 62A， 62C的尺寸(例如 讀頭數(shù)目及/或間隔等)。因此，在晶圓載臺(tái)WST的有效行程范圍中， 四個(gè)標(biāo)尺39X" 39X2， 39Y,， 39Y2雖均分別與讀頭單元62B， 62D， 62A， 62C對(duì)向，但四個(gè)標(biāo)尺也可不全部與所對(duì)應(yīng)的讀頭單元對(duì)向。例如X 標(biāo)尺39Xl5 39X2的一方、及/或Y標(biāo)尺39Y,， 39Y2的一方也可從讀頭單 元脫離。當(dāng)X標(biāo)尺39Xh39Xz的一方、或Y標(biāo)尺39Y,，39Y2的一方從 讀頭單元脫離時(shí)，由于在晶圓載臺(tái)WST的有效行程范圍中三個(gè)標(biāo)尺 仍與讀頭單元對(duì)向，因此能隨時(shí)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST在X軸、Y軸、 以及ez方向的位置信息。另外，當(dāng)X標(biāo)尺39Xl5 39X2的一方、何Y 標(biāo)尺39Y!， 39Y2的一方從讀頭單元脫離時(shí)，由于在晶圓載臺(tái)WST的 有效行程范圍中兩個(gè)標(biāo)尺與讀頭單元對(duì)向，因此雖無(wú)法隨時(shí)測(cè)量晶圓 載臺(tái)WST在ez方向的位置信息，但卻能隨時(shí)測(cè)量X軸及Y軸方向 的位置信息。此時(shí)，也可并用通過(guò)干涉儀系統(tǒng)118所測(cè)量的晶圓載臺(tái) WST在ez方向的位置信息，來(lái)進(jìn)行晶圓載臺(tái)WST的位置控制。
另外，當(dāng)如圖9(A)中白色箭頭所示將晶圓載臺(tái)WST驅(qū)動(dòng)于X軸 方向時(shí)，用以測(cè)量該晶圓載臺(tái)WST在Y軸方向的位置的Y讀頭64， 如該圖中的箭頭ei， e2所示依序切換至相鄰的Y讀頭64。例如從實(shí)線 圓圏框住的Y讀頭64切換至以虛線圓圏框住的Y讀頭64。如此，測(cè) 量值在此切換的前后被接續(xù)。即在本實(shí)施方式中，為了能順利地進(jìn)行 該Y讀頭64的切換及測(cè)量值的接續(xù)，如前所述般將讀頭單元62A, 62C 所具備的相鄰Y讀頭64的間隔i殳定成較Y標(biāo)尺39Y,， 39Y:在X軸方 向的寬度窄。
另外，在本實(shí)施方式中，由于如前所述將讀頭單元62B，62D所具 備的相鄰X讀頭66的間隔設(shè)定成較前述X標(biāo)尺39Xl5 39X2在Y軸方
向的寬度窄，因此與上述同樣地，當(dāng)如圖9(B)中白色箭頭所示將晶圓 載臺(tái)WST驅(qū)動(dòng)于Y軸方向時(shí)，用以測(cè)量該晶圓載臺(tái)WST在X軸方 向的位置的X讀頭66依序切換至相鄰的X讀頭66(例如從實(shí)線圓圏框 住的X讀頭66切換至以虛線圓圈框住的X讀頭66)，測(cè)量值在此切換 的前后被接續(xù)。
其次，針對(duì)編碼器70A 70F的構(gòu)成等，以放大顯示于圖10(A) 的Y編碼器70A為代表進(jìn)行說(shuō)明。此圖10(A)中，表示用以將檢測(cè)光 (測(cè)量光束)照射于Y標(biāo)尺39Y,的讀頭單元62A的一個(gè)Y讀頭64。
Y讀頭64,大體由照射系統(tǒng)64a、光學(xué)系統(tǒng)64b、以及受光系統(tǒng) 64c這三部分構(gòu)成。
照射系統(tǒng)64a，包含將激光束LB沿相對(duì)Y軸及Z軸成45°的方向 射出的光源、例如半導(dǎo)體激光LD，以及配置在該半導(dǎo)體激光LD所射 出的激光束LB的光路上的透鏡Ll。
光學(xué)系統(tǒng)64b,包含其分離面與XZ平面平行的偏振分光器PBS， 一對(duì)反射鏡Rla， Rlb，透鏡L2a， L2b，四分之一波長(zhǎng)板(以下記述為1/4 板)WPla，WPlb，以及反射鏡R2a，R2b等。
前述受光系統(tǒng)64c包含偏振光件(測(cè)光件)及光檢測(cè)器等。
在該Y編碼器70A中，從半導(dǎo)體激光LD射出的激光束LB經(jīng)由 透鏡Ll射入偏振分光器PBS，使其偏振光被分離成兩個(gè)光束LBh LB2。透射過(guò)偏振分光器PBS的光束LB,，經(jīng)由反射鏡Rla到達(dá)形成 于Y標(biāo)尺39Y,的反射型衍射格子RG，在偏振分光器PBS反射的光 束LB2經(jīng)由反射鏡Rlb到達(dá)反射型衍射格子RG。此外，此處的"偏 振光分離"，是指將入射光束分離成P偏振光成分與S偏振光成分。
通過(guò)光束LBn LB2的照射而從衍射格子RG產(chǎn)生的既定次數(shù)的衍 射光束、例如一次衍射光束，在經(jīng)由透鏡L2b，L2a而被X/4板WPlb， WPla轉(zhuǎn)換成圓偏振光后，在反射鏡R2a, R2b反射而再度通過(guò)X/4板 WPlb， WPla，沿與返路相同光路的相反方向到達(dá)偏振分光器PBS。
到達(dá)偏振分光器PBS的兩個(gè)光束，其各自的偏振光方向相對(duì)原本 的方向被旋轉(zhuǎn)了卯度。因此，先透射過(guò)偏振分光器PBS的光束LBi
的一次衍射光束，在偏振分光器PBS反射而射入受光系統(tǒng)64c，并且， 先在偏振分光器PBS反射的光束LB2的一次衍射光束，透射過(guò)偏振分 光器PBS后與光束LBi的一次衍射光束合成為同軸而射入受光系統(tǒng) 64c。
接著，上述兩個(gè)一次衍射光束，在受光系統(tǒng)64c內(nèi)部被測(cè)光件整 合其偏振光方向，而彼此干涉成為干涉光，該干涉光被光檢測(cè)器檢測(cè)， 并轉(zhuǎn)換成與干涉光強(qiáng)度對(duì)應(yīng)的電氣信號(hào)。
從上述說(shuō)明可知，Y編碼器70A中，由于彼此干涉的兩個(gè)光束的 光路長(zhǎng)極短且大致相等，因此幾乎可忽視空氣晃動(dòng)的影響。另外，當(dāng) Y標(biāo)尺39Y"即晶圓載臺(tái)WST)移動(dòng)于測(cè)量方向(此時(shí)為Y軸方向)時(shí)， 兩個(gè)光束各自的相位變化而使干涉光的強(qiáng)度變化。該干涉光的強(qiáng)度變 化被受光系統(tǒng)64c檢測(cè)出，與該強(qiáng)度變化相對(duì)應(yīng)的位置信息即作為Y 編碼器70A的測(cè)量值輸出。其它的編碼器70B, 70C, 70D等也與編碼 器70A為相同構(gòu)成。各編碼器使用分辨能力為例如O.lnm左右者。此 外，如圖IO(B)所示，本實(shí)施方式的編碼器，可使用在格子RG的周 期方向延長(zhǎng)的截面形狀的激光束LB來(lái)作為檢測(cè)光。圖IO(B)中，與格 子RG相較夸大圖示了光束LB。
此外，編碼器的標(biāo)尺，會(huì)隨著使用時(shí)間的經(jīng)過(guò)因熱膨脹等其它原 因?qū)е卵苌涓褡幼冃?，或衍射格子的間距會(huì)產(chǎn)生部分或整體變化等， 欠缺機(jī)械方面的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。因此，由于其測(cè)量值所含的誤差會(huì)隨著 使用時(shí)間的經(jīng)過(guò)而變大，因此必須對(duì)其進(jìn)行修正。以下，根據(jù)圖11 說(shuō)明以本實(shí)施方式的曝光裝置100進(jìn)行的標(biāo)尺的格子間距修正及格子 變形的修正。
該圖11中，符號(hào)IBY1，IBY2，表示從Y軸干涉儀16照射于晶圓 臺(tái)WTB的反射面17a的多個(gè)光軸中兩光軸的測(cè)距光束，符號(hào)IBX1， IBX2,表示示從X軸干涉儀126照射于晶圓臺(tái)WTB的反射面17b的 多個(gè)光軸中兩光軸的測(cè)距光束。此時(shí)，測(cè)距光束IBY1，IBY2，相對(duì)上 述直線LV(與連結(jié)多個(gè)X讀頭66的中心的直線一致)配置成對(duì)稱，Y 軸干涉儀16的實(shí)質(zhì)測(cè)距軸與上述直線LV —致。因此，只要通過(guò)Y
軸千涉儀16，即能在無(wú)阿貝(Abbe)誤差的狀態(tài)下測(cè)量晶圓臺(tái)WTB的 Y位置。同樣地，測(cè)距光束IBX1， IBX2，相對(duì)通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL 的光軸且與X軸平行的直線LH(與連結(jié)多個(gè)Y讀頭64的中心的直線 一致)配置成對(duì)稱，X軸干涉儀126的實(shí)質(zhì)測(cè)距軸與通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng) PL的光軸且與X軸平行的直線LH—致。因此，只要通過(guò)X軸干涉 儀126，即能在無(wú)阿貝(Abbe)誤差的狀態(tài)下測(cè)量晶圓臺(tái)WTB的X位 置。
首先，說(shuō)明X標(biāo)尺的格子線變形(格子線彎曲)與Y標(biāo)尺的格子線 的間距修正。此處為了使說(shuō)明較為簡(jiǎn)單，假設(shè)反射面17b為一理想平 面。
首先，主控制裝置20根據(jù)Y軸干涉儀16與X軸干涉儀126的測(cè) 量值驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST，以將晶圓載臺(tái)WST定位成如圖11所示，Y 標(biāo)尺39Y,及39Y2配置于各自對(duì)應(yīng)的讀頭單元62A， 62C(至少一個(gè)讀頭) 的正下方，且Y標(biāo)尺39Y,， 39丫2(衍射格子)+Y側(cè)的一端位于與各自 對(duì)應(yīng)的讀頭單元62A， 62C —致的位置。
其次，主控制裝置20，以可忽視Y軸干涉儀16的測(cè)量值的短期 變行程度的低速并將X軸干涉儀126的測(cè)量值固定于既定值，且根據(jù) Y軸干涉儀16及Z傳感器74M， 742，4， 76,，3， 762，3的測(cè)量值， 一邊將縱 搖量、橫搖量、以及偏搖量均維持于零， 一邊將晶圓載臺(tái)WST移動(dòng) 于例如圖11中箭頭F所示的+ Y方向，直到例如Y標(biāo)尺39Yh 39Y2 的另一端(-Y側(cè)的一端)與各自對(duì)應(yīng)的讀頭單元62A, 62C—致為止(在 前述的有效行程范圍內(nèi))。在此移動(dòng)中，主控制裝置20以既定取樣間 隔獲取Y線性編碼器70A， 70C的測(cè)量值及Y軸干涉儀16的測(cè)量值(測(cè) 定光束IBY1， IBY2的測(cè)量值)，并# 據(jù)該獲取的測(cè)量值求出Y線性編 碼器70A，70C的測(cè)量值與Y軸干涉儀16的測(cè)量值的關(guān)系。即，主控 制裝置20，求出隨著晶圓載臺(tái)WST的移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲糜谧x頭單 元62A及62C的Y標(biāo)尺39Yl5 39Y2的格子間距(相鄰的格子線的間隔) 及該格子間距的修正信息?？勺鳛槔绠?dāng)以橫軸為干涉儀的測(cè)量值而 以縱軸為編碼器的測(cè)量值時(shí)、將兩者關(guān)系以曲線顯示的修正圖等而求 出修正信息。此時(shí)Y軸干涉儀16的測(cè)量值由于是以前述極低速掃描 晶圓載臺(tái)WST時(shí)所得的值，因此不但不包含長(zhǎng)期性變動(dòng)誤差，也幾 乎不包含因空氣晃動(dòng)等導(dǎo)致的短期性變動(dòng)誤差，可將其視為可忽視誤 差的正確的值。此外，在上述范圍內(nèi)，也可如圖11中的箭頭F，所示 使晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于-Y方向，以與上述相同的步驟求出Y標(biāo)尺 39Yb 39Y2的格子間距(相鄰的格子線的間隔)及該格子間距的修正信 息。此處，雖沿橫越Y(jié)標(biāo)尺39Yi， 39Y2兩端所對(duì)應(yīng)的讀頭單元62A， 62C 的范圍使晶圓載臺(tái)WST驅(qū)動(dòng)于Y軸方向，但并不限于此，例如也可 在晶圓的膝光動(dòng)作時(shí)、在晶圓載臺(tái)WST所移動(dòng)的Y軸方向的范圍內(nèi) 驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST。
另外，主控制裝置20，在上述晶圓載臺(tái)WST的移動(dòng)中，使用伴 隨該移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲糜赬標(biāo)尺39Xl5 39X2的讀頭單元62B及62D 的多個(gè)X讀頭66所得到的測(cè)量值、以及與各測(cè)量值對(duì)應(yīng)的干涉儀16 的測(cè)量值，來(lái)進(jìn)行既定統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，而一并求出依序?qū)ο蛴谠摱鄠€(gè)X讀 頭66的格子線37的變形(彎曲)的修正信息。此時(shí)，主控制裝置20, 例如算出依序?qū)ο蚺渲糜赬標(biāo)尺39Xi， 39X2的讀頭單元62B及62D 的多個(gè)讀頭的測(cè)量值(或加權(quán)平均值)等，以作為格子彎曲的修正信息。 之所以如此，當(dāng)反射面17b為理想平面時(shí)，由于在將晶圓載臺(tái)WST 運(yùn)送于+ Y方向或-Y方向的過(guò)程中應(yīng)會(huì)反復(fù)出現(xiàn)相同的模糊圖案， 因此只要將以多個(gè)X讀頭66取得的測(cè)量數(shù)據(jù)予以平均化等，即能正 確地求出依序?qū)ο蛴谠摱鄠€(gè)讀頭66的格子線37的變形(彎曲)的修正 信息。
此外，當(dāng)反射面17b并非為理想平面時(shí)，即預(yù)先測(cè)量該反射面的 凹凸(彎曲)以求出該彎曲的修正數(shù)據(jù)。接著，在上述晶圓載臺(tái)WST移 動(dòng)于+ Y方向或-Y方向時(shí)，只要代替將X軸干涉儀126的測(cè)量值固 定于既定值的方式，通過(guò)根據(jù)該修正數(shù)據(jù)來(lái)控制晶圓載臺(tái)WST的X 位置，即可正確地使晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于Y軸方向。如此一來(lái)，即 能與上述同樣地，求得Y標(biāo)尺的格子間距的修正信息及格子線37的 變形(彎曲)的修正信息。此外，以多個(gè)X讀頭66取得的測(cè)量數(shù)據(jù)是反
射面17b在相異部位基準(zhǔn)的多個(gè)數(shù)據(jù)，由于任一讀頭均測(cè)量同一格子 線的變形(彎曲)，因此通過(guò)上述的平均化等動(dòng)作，也有反射面的彎曲 修正剩余誤差經(jīng)平均化而接近真正的值(換言之，通過(guò)將以多個(gè)讀頭取 得的測(cè)量數(shù)據(jù)(格子線的彎曲信息)予以平均化，而能減弱彎曲剩余誤 差的影響)的附帶效果。
其次，說(shuō)明Y標(biāo)尺的格子線變形(格子線彎曲)與X標(biāo)尺的格子線 的間距修正。此處為了使說(shuō)明較為簡(jiǎn)單，假設(shè)反射面17a為理想平面。 此時(shí)，只要在上述修正的情形中將X軸方向與Y軸方向交換來(lái)進(jìn)行處 理即可。
即首先，主控制裝置20驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST，以將晶圓載臺(tái)WST 定位成，X標(biāo)尺39X,及39X2配置于各自對(duì)應(yīng)的讀頭單元62B，62D(至 少一個(gè)讀頭)的正下方，且X標(biāo)尺39X^39X2(;肝射格子)+ X側(cè)(或-X 側(cè))的一端位于與各自對(duì)應(yīng)的讀頭單元62B， 62D—致的位置。其次， 主控制裝置20，以可忽視X軸干涉儀126的測(cè)量值的短期變行程度的 低速并將Y軸干涉儀16的測(cè)量值固定于既定值，且根據(jù)X軸干涉儀 126等的測(cè)量值， 一邊將縱搖量、橫搖量、以及偏搖量均維持于零， 一邊將晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于十X方向(或-X方向)，直到例如X標(biāo)尺 39Xi， 39X2的另 一端(-Y側(cè)(或+ Y側(cè))的一端)與各自對(duì)應(yīng)的讀頭單元 62A， 62C—致為止(在前述的有效行程范圍內(nèi))。在此移動(dòng)中，主控制 裝置20以既定取樣間隔獲取X線性編碼器70B， 70D的測(cè)量值及X軸 干涉儀126的測(cè)量值(測(cè)定光束IBX1， IBX2的測(cè)量值)，并根據(jù)該獲取 的測(cè)量值求出X線性編碼器70B, 70D的測(cè)量值與X軸干涉儀126的 測(cè)量值的關(guān)系。即，主控制裝置20，求出隨著晶圓載臺(tái)WST的移動(dòng) 而依序?qū)ο蚺渲糜谧x頭單元62B及62D的X標(biāo)尺39Xh 39乂2的格子 間距及該格子間距的修正信息。可作為例如當(dāng)以橫軸為干涉儀的測(cè)量 值而以縱軸為編碼器測(cè)量值時(shí)、將兩者關(guān)系以曲線顯示的修正圖等而 求出修正信息。此時(shí)X軸干涉儀126的測(cè)量值由于以前述極低速掃描 晶圓載臺(tái)WST時(shí)所得的值，因此不但不包含長(zhǎng)期性變動(dòng)誤差，也幾 乎不包含因空氣晃動(dòng)等導(dǎo)致的短期性變動(dòng)誤差，可將其視為可忽視誤
差的正確的值。
另外，主控制裝置20，在上述晶圓載臺(tái)WST的移動(dòng)中，使用伴 隨該移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲糜赮標(biāo)尺39Yi， 39Y2的讀頭單元62A及62C 的多個(gè)X讀頭64所得到的測(cè)量值、以及與各測(cè)量值對(duì)應(yīng)的X軸干涉 儀126的測(cè)量值，來(lái)進(jìn)行既定統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，而一并求出依序?qū)ο蛴谠摱?個(gè)Y讀頭64的格子線38的變形(彎曲)的修正信息。此時(shí)，主控制裝 置20，例如算出依序?qū)ο蚺渲糜赮標(biāo)尺39Yh 39Y2的讀頭單元62A 及62C的多個(gè)讀頭的測(cè)量值(或加權(quán)平均值)等，以作為格子彎曲的修 正信息。之所以如此，當(dāng)反射面17a為理想平面時(shí)，由于在將晶圓栽 臺(tái)WST運(yùn)送于+ X方向或-X方向的過(guò)程中應(yīng)會(huì)反復(fù)出現(xiàn)相同的模 糊圖案，因此只要將以多個(gè)Y讀頭64取得的測(cè)量數(shù)據(jù)予以平均化等， 即能正確地求出依序?qū)ο蛴谠摱鄠€(gè)讀頭64的格子線38的變形(彎曲) 的修正信息。
此外，當(dāng)反射面17a非為理想平面時(shí)，預(yù)先測(cè)量該反射面的凹凸 (彎曲)以求出該彎曲的修正數(shù)據(jù)。接著，在上述晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于 + X方向或-X方向時(shí)，只要代替將Y軸干涉儀16的測(cè)量值固定于 既定值的方式，通過(guò)根據(jù)該修正數(shù)據(jù)來(lái)控制晶圓載臺(tái)WST的Y位置， 即可正確地使晶圓栽臺(tái)WST移動(dòng)于X軸方向。如此一來(lái)，即能與上 述同樣地，求得X標(biāo)尺的格子間距的修正信息及格子線38的變形(彎 曲)的修正信息。
主控制裝置20透過(guò)上述方式，在既定的時(shí)刻中、例如依各批量等，
息，以及X標(biāo)尺的格子間距的修正信息及格子線38的變形(彎曲)的修 正信息。
接著，在批量?jī)?nèi)的晶圓的曝光處理中等，主控制裝置20—邊根據(jù) Y標(biāo)尺的格子間距的修正信息及上述格子線38的變形(彎曲)的修正信 息來(lái)修正讀頭單元62A, 62C所得的測(cè)量值(即編碼器70A， 70C的測(cè)量 值)， 一邊控制晶圓栽臺(tái)WST在Y軸方向的位置。由此，可不受Y標(biāo) 尺的格子間距隨時(shí)間的變化及格子線38的彎曲的影響，使用Y線性
編碼器70A， 70C以良好精度控制晶圓載臺(tái)WST在Y軸方向的位置。
另外，在批量?jī)?nèi)的晶圓的膝光處理中等，主控制裝置20—邊根據(jù) X標(biāo)尺的格子間距的修正信息及格子線38的變形(彎曲)的修正信息來(lái) 修正讀頭單元62B， 62D所得的測(cè)量值(即編碼器70B, 70D的測(cè)量值)， 一邊控制晶圓載臺(tái)WST在X軸方向的位置。由此，可不受X標(biāo)尺的 格子間距隨時(shí)間的變化及格子線37的彎曲的影響，使用X線性編碼 器70B, 70D以良好精度控制晶圓載臺(tái)WST在X軸方向的位置。
此外，上述說(shuō)明中，雖對(duì)Y標(biāo)尺39Y!，39Y2及X標(biāo)尺39X，，39X2 均進(jìn)行格子間距、以及格子線彎曲的修正信息的取得，但并不限于此， 亦可僅對(duì)Y標(biāo)尺39Yl5 39Y2及X標(biāo)尺39Xl5 39X2的任一者進(jìn)行格子間 距及格子線彎曲的修正信息的取得，或也可對(duì)Y標(biāo)尺44A， 44c及X 標(biāo)尺44B， 44D兩者進(jìn)行格子間距、格子線彎曲中任一者的修正信息的 取得。當(dāng)例如僅進(jìn)行格子線彎曲的修正信息的取得時(shí)，也可不使用Y 軸干涉儀16，而僅根據(jù)Y線性編碼器70A， 70C的測(cè)量值來(lái)使晶圓載 臺(tái)WST移動(dòng)于Y軸方向，或也可不使用X軸干涉儀126，而僅根據(jù) X線性編碼器70B， 70D的測(cè)量值來(lái)使晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于X軸方向。
其次，使用圖12(A) ~圖12(C),簡(jiǎn)單地說(shuō)明以本實(shí)施方式的曝光 裝置IOO進(jìn)行的晶圓對(duì)準(zhǔn)。此外，其詳細(xì)情形留待后述。
此處，說(shuō)明將依圖12(C)所示的配置(照射圖)而形成有多個(gè)照射區(qū) 域的晶圓W上被著色的十六個(gè)照射區(qū)域AS作為對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域時(shí)的動(dòng) 作。此外，圖12(A),圖12(B)中省略測(cè)量載臺(tái)MST的圖示。
其前提為，第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i AL24已配合對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS 的配置而事前調(diào)整了其X軸方向的位置。此外，該第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2,~ AL24的具體位置調(diào)整的方法，留待后述。
首先，主控制裝置20將晶圓W中心已定位于裝載位置LP的晶 圓載臺(tái)WST朝向圖12(A)中的左斜上方移動(dòng)，并將其定位于晶圓W 中心位于直線LV上的既定位置(后述的對(duì)準(zhǔn)開(kāi)始位置)。此時(shí)的晶圓栽 臺(tái)WST的移動(dòng)，系由主控制裝置20根據(jù)X編碼器70D的測(cè)量值及Y 軸干涉4義16的測(cè)量值來(lái)驅(qū)動(dòng)載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)124的各馬達(dá)，由此來(lái)進(jìn)行。
在定位于對(duì)準(zhǔn)開(kāi)始位置的狀態(tài)下，裝載有晶圓W的晶圓臺(tái)WTB在 XY平面內(nèi)的位置(包含ez旋轉(zhuǎn))控制，根據(jù)分別對(duì)向于X標(biāo)尺39&， 39X2的讀頭單元62D所具備的兩個(gè)讀頭X66的測(cè)量值、以及分別對(duì) 向于Y標(biāo)尺39Yl5 39Y2的Y讀頭64y2， 64y"四個(gè)編碼器)的測(cè)量值來(lái)進(jìn) 行。
其次，主控制裝置20根據(jù)上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值使晶圓載臺(tái) WST^i +Y方向移動(dòng)既定距離而定位于圖12(A)所示的位置，使用第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1，第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL22， AL23大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附 設(shè)于三個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(參照?qǐng)D12(A)中的星標(biāo) 記)，再將上述三個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL22， AL23的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢 測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的 內(nèi)存。此外，此時(shí)未檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的兩端的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2l5 AL24， 也可不對(duì)晶圓臺(tái)WTB(或晶圓)照射檢測(cè)光或也可照射。另外，在本實(shí) 施方式的晶圓對(duì)準(zhǔn)中，設(shè)定晶圓載臺(tái)WST在X軸方向的位置，以使 第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1配置于晶圓臺(tái)WTB的中心線上，此第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL1檢測(cè)位于晶圓的子午線上的對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。此外，雖 也可將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成于晶圓W上的各照射區(qū)域內(nèi)部，但本實(shí)施方式中 將對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成于各照射區(qū)域外部、即區(qū)劃出晶圓W的多個(gè)照射區(qū)域 的區(qū)塊界線(劃線)上。
其次，主控制裝置20根據(jù)上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值使晶圓載臺(tái) WST往+ Y方向移動(dòng)既定距離，使其定位于能使用五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2！ ~ AL24大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于晶圓W上的五個(gè)第二對(duì)準(zhǔn) 照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置，使用五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2！ ~ AL24 大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出五個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，再將上述五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值 以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的內(nèi)存。
其次，主控制裝置20根據(jù)上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值使晶圓載臺(tái) WST往+ Y方向移動(dòng)既定距離，使其定位于能使用五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1 ， AL2, AL24大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于晶圓W上的五個(gè)第三對(duì)準(zhǔn)
照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置，再使用五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2廣 AL24，大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出五個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(參照?qǐng)D12(B)中的星標(biāo) 記)，并將上述五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)4亍該檢 測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的 內(nèi)存。
其次，主控制裝置20根據(jù)上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值使晶圓載臺(tái) WST往+ Y方向移動(dòng)既定距離，使其定位于能使用第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， 第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL22， AL23大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于晶圓W上的 三個(gè)第四對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置，再使用上述三個(gè)對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)AL1， AL22， AL23大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出三個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，并將上 述三個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl, AL22， AL23的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)的上述 四個(gè)編碼器的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的內(nèi)存。
接著，主控制裝置20使用以上述方式獲得的合計(jì)十六個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 的檢測(cè)結(jié)果與所對(duì)應(yīng)的上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值、以及第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) A12n的基線，利用例如日本特開(kāi)昭61 - 44429號(hào)公凈艮(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第 4,780,617號(hào)說(shuō)明書(shū))等所公開(kāi)的EGA方式進(jìn)行統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，算出上述四 個(gè)編碼器(四個(gè)讀頭單元)的測(cè)量軸所規(guī)定的坐標(biāo)系統(tǒng)(例如以投影光學(xué) 系統(tǒng)P L的光軸為原點(diǎn)的X Y坐標(biāo)系統(tǒng))上晶圓W上的所有照射區(qū)域的 排列。
如此，本實(shí)施方式中，通過(guò)^f吏晶圓載臺(tái)WST往+Y方向移動(dòng)， 且將晶圓載臺(tái)WST定位在該移動(dòng)路徑上的四處，與以單一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 依序檢測(cè)十六處的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的情況等相較，能以更短時(shí)間獲得對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記在合計(jì)十六處的對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的位置信息。在此情形下，尤其 例如就對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL22， AL23來(lái)看可輕易得知，這些對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl AL22， AL23與上述晶圓載臺(tái)WST的移動(dòng)動(dòng)作連動(dòng)，而分別檢測(cè)出依 序配置于檢測(cè)區(qū)域(例如相當(dāng)于檢測(cè)光的照射區(qū)域)內(nèi)的沿Y軸方向排 列的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。因此，在進(jìn)行上述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的測(cè)量時(shí)，無(wú)需使晶 圓載臺(tái)WST移動(dòng)于X軸方向。
另外，此時(shí)，會(huì)因晶圓載臺(tái)WST在XY平面內(nèi)的位置(特別是Y
位置(即晶圓w進(jìn)入多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的比例))不同，使多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)所大
致同時(shí)檢測(cè)的晶圓w上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)點(diǎn)數(shù)(測(cè)量點(diǎn)數(shù))相異。因此，
在使晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于與多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的排列方向(X軸方向)正交 的Y軸方向時(shí)，可視晶圓載臺(tái)WST的位置、換言之即視晶圓W上的 照射排列，使用所需數(shù)目的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)同時(shí)檢測(cè)晶圓W上的互異位置 的標(biāo)記。
此外，通常晶圓W的表面不會(huì)是理想平面，而會(huì)多少有些凹凸。 因此，僅在晶圓臺(tái)WTB在Z軸方向(與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸AX 平行的方向)的某位置、以上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)同時(shí)進(jìn)行測(cè)量時(shí)，至少一 個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)在散焦的狀態(tài)下進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)的可能性很高。因此， 本實(shí)施方式中，以下述方式來(lái)抑制因以散焦?fàn)顟B(tài)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè) 所導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記位置的測(cè)量誤差。
即，主控制裝置20，依上述各對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域中用以檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 的晶圓載臺(tái)WST的各定位位置， 一邊通過(guò)構(gòu)成載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)124 — 部分的未圖標(biāo)Z調(diào)平機(jī)構(gòu)，改變多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2!~ AL24與晶 圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)所裝載的晶圓W之間、在垂直于XY平面 的Z軸方向(聚焦方向)中的相對(duì)位置關(guān)系， 一邊控制載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng) 124(Z調(diào)平機(jī)構(gòu))與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24,以能通過(guò)與各對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記對(duì)應(yīng)的各對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)大致同時(shí)檢測(cè)形成于晶圓W上的互異位置的 各對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
圖13(A)~圖13(C)，表示在前述第三對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記檢 測(cè)位置，在晶圓載臺(tái)WST已定位的圖12(B)所示的狀態(tài)中五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)AL1， AL2廣AL24檢測(cè)晶圓W上的標(biāo)記的情形。這些圖13(A) ~圖 13(C)，使晶圓臺(tái)WTB(晶圓W)位于分別不同的Z位置并使用對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)AL1， AL2廣AL24來(lái)大致同時(shí)檢測(cè)不同對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的情形。圖13(A) 的狀態(tài)下，兩端的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i, AL24為聚焦?fàn)顟B(tài)而剩余的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 則為散焦?fàn)顟B(tài)。圖13(B)的狀態(tài)下，對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL22及AL23為聚焦?fàn)?態(tài)而剩余的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)則為散焦?fàn)顟B(tài)。圖13(C)的狀態(tài)下，僅有中央的 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1為聚焦?fàn)顟B(tài)而剩余的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)則為散焦?fàn)顟B(tài)。
如此， 一邊通過(guò)使晶圓臺(tái)WTB(晶圓W)的Z位置變化，來(lái)改變 多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2廣AL24與晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)所裝 載的晶圓W之間、在Z軸方向(聚焦方向)中的相對(duì)位置關(guān)系， 一邊以 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1 ， AL2！ ~ AL24檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，由此任一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)均能以 大致最佳聚焦?fàn)顟B(tài)測(cè)量對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。因此，主控制裝置20通過(guò)在各對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)中，例如優(yōu)先使用在最良好的聚焦?fàn)顟B(tài)下的標(biāo)記檢測(cè)結(jié)果等，可 幾乎不受晶圓W表面的凹凸及多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的最佳聚焦差異的影響， 以良好精度檢測(cè)出形成于晶圓W上的彼此不同位置的標(biāo)記。
此外，上述說(shuō)明中，雖在各對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)中例如優(yōu)先使用在最良好的 聚焦?fàn)顟B(tài)下的標(biāo)記檢測(cè)結(jié)果，但并不限于此，主控制裝置20也可使用 在散焦?fàn)顟B(tài)下的標(biāo)記檢測(cè)結(jié)果來(lái)求出對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息。此情形下， 亦能乘上與散焦?fàn)顟B(tài)對(duì)應(yīng)的權(quán)重來(lái)使用在散焦?fàn)顟B(tài)下的標(biāo)記檢測(cè)結(jié) 果。另外，有時(shí)會(huì)隨著例如形成于晶圓的層的材料等不同，使散焦?fàn)?態(tài)下的標(biāo)記檢測(cè)結(jié)果較最佳聚焦?fàn)顟B(tài)下的標(biāo)記檢測(cè)結(jié)果良好。此時(shí)， 也可依各對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)以得到最良好結(jié)果的聚焦?fàn)顟B(tài)、即以散焦?fàn)顟B(tài)來(lái)進(jìn) 行標(biāo)記檢測(cè)，并使用其檢測(cè)結(jié)果來(lái)求出標(biāo)記的位置信息。
另外，由圖13(A) ~圖13(C)亦可知，有時(shí)所有對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的光軸并 不一定會(huì)均與相同理想方向(Z軸方向)正確一致，也會(huì)因相對(duì)該Z軸 的光軸的傾斜(平行性)的影響而使對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測(cè)結(jié)果含有誤 差。因此，最好預(yù)先測(cè)量所有對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的光軸相對(duì)Z軸的傾斜，并根
據(jù)該測(cè)量結(jié)果來(lái)修正對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置檢測(cè)結(jié)果。
其次，說(shuō)明第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線測(cè)量(基線檢查)。此處，第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線，指投影光學(xué)系統(tǒng)PL的圖案(例如標(biāo)線片R 的圖案)投影位置與第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的檢測(cè)中心的位置關(guān)系(或距 離)。
a.在該第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線測(cè)量開(kāi)始的時(shí)刻，如圖14(A) 所示，通過(guò)噴嘴單元32來(lái)在投影光學(xué)系統(tǒng)PL與測(cè)量臺(tái)MTB及CD 桿46的至少一方之間形成浸液區(qū)域14。即，晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載 臺(tái)MST為分離狀態(tài)。
當(dāng)進(jìn)行第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線測(cè)量時(shí)，首先主控制裝置20， 如圖14(A)所示以第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1檢測(cè)(觀察)位于前述測(cè)量板30中 央的基準(zhǔn)標(biāo)記FM(參照?qǐng)D14(A)中的星符號(hào))。接著，主控制裝置20 將該第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的檢測(cè)結(jié)果與該檢測(cè)時(shí)編碼器70A ~ 70D的測(cè) 量值彼此賦予對(duì)應(yīng)關(guān)系后儲(chǔ)存于內(nèi)存。以下為了方便說(shuō)明，將此處理 稱為Pri-BCHK的前半處理。在進(jìn)行此Pri-BCHK的前半處理時(shí)，晶 圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置，根據(jù)對(duì)向于X標(biāo)尺39X^ 39X2的圖 14(A)中以圓圏框住顯示的兩個(gè)X讀頭66(編碼器70B, 70D)、以及對(duì) 向于Y標(biāo)尺39Yl5 39Y2的圖14(A)中以圓圏框住顯示的兩個(gè)Y讀頭 64y2， 64y,(編碼器70A， 70C)來(lái)控制。
b. 其次，主控制裝置20開(kāi)始使晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向移動(dòng)， 以使測(cè)量板30如圖14(B)所示位于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的正下方位置。 在該晶圃載臺(tái)WST往+ Y方向的移動(dòng)開(kāi)始后，主控制裝置20根據(jù)間 隔偵測(cè)傳感器43A， 43C的輸出而偵測(cè)晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST 的接近，而在此前后、即晶圓載臺(tái)WST往+Y方向移動(dòng)時(shí)，經(jīng)由前 述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)34A，34B開(kāi)始開(kāi)啟開(kāi)閉器49A， 49B,通過(guò)開(kāi)啟該開(kāi)閉器以 容許晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST更加接近。另外，主控制裝置 20根據(jù)開(kāi)閉傳感器101的檢測(cè)結(jié)果來(lái)確認(rèn)開(kāi)閉器49A， 49B的開(kāi)啟。
c. 其次，當(dāng)主控制裝置20根據(jù)撞擊偵測(cè)傳感器43B，43C的輸出 而偵測(cè)到晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST彼此接觸(或接近至300jim 左右的距離)時(shí)，即立刻使晶圓載臺(tái)WST暫時(shí)停止。其后，主控制裝 置20在保持晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST彼此接觸的狀態(tài)下(或保 持300jim左右的距離的狀態(tài)下)，進(jìn)一步地一體地往+Y方向移動(dòng)。 接著，在此移動(dòng)的途中將浸液區(qū)域14從CD桿46交付至晶圓臺(tái)WTB。
d. 接著，當(dāng)晶圓載臺(tái)WST到達(dá)圖14(B)所示的位置時(shí)，主控制 裝置20即停止兩栽臺(tái)WST， MST,并使用包含測(cè)量板30的前述空間 像測(cè)量裝置45來(lái)測(cè)量投影光學(xué)系統(tǒng)PL所投影的標(biāo)線片R上的一對(duì) 測(cè)量標(biāo)記投影像(空間像)。例如可使用與前述日本特開(kāi)2002 - 14005 號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利申請(qǐng)乂>開(kāi)第2002/0041377號(hào)說(shuō)明書(shū))等公開(kāi)的
方法同樣的方法，通過(guò)使用一對(duì)空間像測(cè)量狹縫圖案SL的狹縫掃描 方式的空間像測(cè)量動(dòng)作，分別測(cè)量一對(duì)測(cè)量標(biāo)記的空間像，并將該測(cè) 量結(jié)果(與晶圓臺(tái)WTB的XY位置對(duì)應(yīng)的空間像強(qiáng)度)儲(chǔ)存于內(nèi)存。以 下為了方便說(shuō)明，將此標(biāo)線片R上的一對(duì)測(cè)量標(biāo)記的空間像測(cè)量處理 稱為Pri-BCHK的后半處理。在進(jìn)行此Pri-BCHK的后半處理時(shí)，晶 圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置，根據(jù)對(duì)向于X標(biāo)尺39Xi， 39乂2的圖 14(B)中以圃圏框住顯示的兩個(gè)X讀頭66(編碼器70B， 70D)、以及對(duì) 向于Y標(biāo)尺39Y，， 39Yz的圖14(B)中以圓圏框住顯示的兩個(gè)Y讀頭 64(編碼器70A， 70C)來(lái)控制。
接著，主控制裝置20根據(jù)前述Pri-BCHK的前半處理結(jié)果與 Pri-BCHK的后半處理結(jié)果算出第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線。
此外，如上所述，在此第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線測(cè)量結(jié)束的時(shí)刻 (即Pri-BCHK的后半處理結(jié)束的時(shí)刻)，測(cè)量載臺(tái)MST與晶圓載臺(tái) WST為接觸狀態(tài)(或分離300fim左右的距離的狀態(tài))。
其次，主要說(shuō)明在開(kāi)始對(duì)批量的晶圓的處理前(批量前頭)所進(jìn)行 的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n(n-l 4)的基線測(cè)量動(dòng)作。此處的第二對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)AL2n的基線，是指以第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1(的檢測(cè)中心)為基準(zhǔn)的各第 二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n(的檢測(cè)中心)的相對(duì)位置。此外，第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2n(n = 1 ~ 4)，例如是依照批量?jī)?nèi)晶圓的照射圖數(shù)據(jù)被前述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng) 機(jī)構(gòu)60n驅(qū)動(dòng)而設(shè)定出其X軸方向位置。
e.在進(jìn)行于批量前頭所進(jìn)行的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的基線測(cè)量(以下也 適當(dāng)稱為Sec-BCHK)時(shí)，主控制裝置20首先如圖15(A)所示，以第一 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1檢測(cè)批量前頭的晶圓W(處理晶圓)上的特定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 (參照?qǐng)D15(A)中的星標(biāo)記)，并將其檢測(cè)結(jié)果與該檢測(cè)時(shí)編碼器70A~ 70D的測(cè)量值彼此賦予對(duì)應(yīng)關(guān)系后儲(chǔ)存于內(nèi)存。在此圖15(A)的狀態(tài) 下，晶圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置，根據(jù)對(duì)向于X標(biāo)尺39Xh39X2 的兩個(gè)X讀頭66(編碼器70B， 70D)、以及對(duì)向于Y標(biāo)尺39Y,， 39Y2 的兩個(gè)Y讀頭64y2， 64y"編碼器70A， 70C)，通過(guò)主控制裝置20來(lái)控 制。
f. 其次，主控制裝置20使晶圓載臺(tái)WST往-X方向移動(dòng)既定距 離，而如圖15(B)所示，以第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2t檢測(cè)上述特定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 (參照?qǐng)D15(B)中的星標(biāo)記)，并將其檢測(cè)結(jié)果與該檢測(cè)時(shí)編碼器70A~ 70D的測(cè)量值彼此賦予對(duì)應(yīng)關(guān)系后儲(chǔ)存于內(nèi)存。在此圖15(B)的狀態(tài) 下，晶圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置，根據(jù)對(duì)向于X標(biāo)尺39Xh39X2 的兩個(gè)X讀頭66(編碼器70B， 70D)、以及對(duì)向于Y標(biāo)尺39Y，， 39Y2 的兩個(gè)Y讀頭64(編碼器70A， 70C)來(lái)控制。
g. 同樣地，主控制裝置2(H吏晶圓載臺(tái)WST依序往+ X方向移動(dòng)， 以剩下的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL22， AL23， AL24依序檢測(cè)上述特定對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記，并將其檢測(cè)結(jié)果與該檢測(cè)時(shí)編碼器70A~70D的測(cè)量值彼此依序 賦予對(duì)應(yīng)關(guān)系后儲(chǔ)存于內(nèi)存。
h. 接著，主控制裝置20根據(jù)上述e.的處理結(jié)果與上述f.或g.的 處理結(jié)果，分別算出各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線。
承上所述，由于可使用批量前頭的晶圓W(處理晶圓)，通過(guò)以笫 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1與各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n檢測(cè)出該晶圓W上的同一對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記來(lái)求出各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線，因此其結(jié)果，也可通過(guò) 該處理修正因進(jìn)行處理所導(dǎo)致的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)間的檢測(cè)偏置差。此外，也 可取代晶圓的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記而使用晶圓載臺(tái)WST或測(cè)量載臺(tái)MST上的基 準(zhǔn)標(biāo)記，來(lái)進(jìn)行第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線測(cè)量。此時(shí)，也可兼用笫 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線測(cè)量所使用的測(cè)量板30的基準(zhǔn)標(biāo)記FM，即 能以第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n來(lái)分別檢測(cè)基準(zhǔn)標(biāo)記FM?；蛘撸部梢耘c第 二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n相同的位置關(guān)系將n個(gè)基準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)于晶圓栽臺(tái)WST 或測(cè)量載臺(tái)MST，再以第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n大致同時(shí)執(zhí)行基準(zhǔn)標(biāo)記的 檢測(cè)。此基準(zhǔn)標(biāo)記，例如可使用CD桿46的基準(zhǔn)標(biāo)記M。再者，能 以第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1相對(duì)基線測(cè)量用基準(zhǔn)標(biāo)記FM的既定位置關(guān)系， 將第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線測(cè)量用基準(zhǔn)標(biāo)記設(shè)于晶圓載臺(tái)WST，來(lái) 與第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1對(duì)基準(zhǔn)標(biāo)記FM的檢測(cè)大致同時(shí)地執(zhí)行第二對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)AL2n對(duì)基準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)。此時(shí)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線測(cè)量用 基準(zhǔn)標(biāo)記可以是一個(gè)，也可以是多個(gè)，例如與第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n設(shè)
置成相同數(shù)目。另外，本實(shí)施方式中，由于第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及第二 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n能分別檢測(cè)出二維標(biāo)記(X， Y標(biāo)記)，因此通過(guò)在第二對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線測(cè)量時(shí)使用二維標(biāo)記，即能同時(shí)求出第二對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)AL2n的X軸及Y軸方向的基線。本實(shí)施方式中，基準(zhǔn)標(biāo)記FM，M 及晶圓的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，包含例如多條線標(biāo)記分別周期性排列于X軸及Y 軸方向的 一 維X標(biāo)《己及Y標(biāo)記。
其次，說(shuō)明在批量?jī)?nèi)的晶圓處理中，以既定時(shí)刻、例如晶圓的曝 光結(jié)束至下一晶圓裝載至晶圓臺(tái)WTB上的裝載結(jié)束的期間，即晶圓 更換中所進(jìn)行的Sec-BCHK動(dòng)作。此時(shí)的Sec-BCHK，由于以每次更 換晶圓的時(shí)距來(lái)進(jìn)行，因此以下亦稱為Sec-BCHK(時(shí)距)。
在進(jìn)行此Sec-BCHK(時(shí)距)時(shí)，主控制裝置20如圖16所示移動(dòng) 測(cè)量載臺(tái)MST，以使配置有第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的檢測(cè)中心的上述直 線LV與中心線CL大致一致，且CD桿46與第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及第 二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n對(duì)向。接著，根據(jù)CD桿46上的一對(duì)基準(zhǔn)格子52 和與之分別對(duì)向的圖16中以圓圏框住顯示的Y讀頭64y^64y2(Y軸線 性編碼器70E，70F)的測(cè)量值來(lái)調(diào)整CD桿46的0z旋轉(zhuǎn)，且根據(jù)用以 檢測(cè)位于測(cè)量臺(tái)MTB的中心線CL上或其附近的基準(zhǔn)標(biāo)記M、在圖 16中以圓圏框住顯示的第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的測(cè)量值，并^f吏用例如干 涉儀的測(cè)量值調(diào)整CD桿46的XY位置。
接著，在此狀態(tài)下，主控制裝置20通過(guò)使用四個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2i AL24同時(shí)測(cè)量位于各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)視野內(nèi)的CD桿46上的基 準(zhǔn)標(biāo)記M，來(lái)分別求出四個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i AL24的基線。接著， 通過(guò)在進(jìn)行其后的處理時(shí)使用新測(cè)量出的基線，來(lái)修正四個(gè)第二對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)AI^ ~ AL24的基線的漂移。
此外，上述Sec-BCHK(時(shí)距)雖通過(guò)多個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)同時(shí)測(cè) 量相異的基準(zhǔn)標(biāo)記，但并不限于此，也能通過(guò)多個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)依序 (非同時(shí))測(cè)量CD桿46上的同一基準(zhǔn)標(biāo)記M,來(lái)分別求出四個(gè)第二對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)AL2廣AL24的基線。
其次，根據(jù)圖17(A)及圖17(B)簡(jiǎn)單說(shuō)明第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的位 置調(diào)整動(dòng)作。
在進(jìn)行調(diào)整前，第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1與四個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2i AL24的位置關(guān)系為圖17(A)的位置關(guān)系。
主控制裝置20如圖17(B)所示移動(dòng)測(cè)量載臺(tái)MST，使第一對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)AL1與四個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2廣AL24位于CD桿46上方。其次， 與進(jìn)行上述Sec-BCHK(時(shí)距)時(shí)同樣地，根據(jù)Y軸線性編碼器70E， 70F (Y讀頭64yi， 64y》的測(cè)量值調(diào)整CD桿46的0z旋轉(zhuǎn)，且根據(jù)用以檢 測(cè)位于測(cè)量臺(tái)MTB的中心線CL上或其附近的基準(zhǔn)標(biāo)記M的第一對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的測(cè)量值來(lái)調(diào)整CD桿46的XY位置。與此同時(shí)，主控 制裝置20根據(jù)包含下一曝光對(duì)象的晶圓上對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的尺寸及配 置(即晶圓上對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的配置)信息的照射圖信息，驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 6(h 604，以使設(shè)于各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n前端的臂56分別以各自的 旋轉(zhuǎn)中心為中心如圖17(B)中箭頭所示般旋轉(zhuǎn)。此時(shí)，主控制裝置20 一邊監(jiān)測(cè)各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的檢測(cè)結(jié)果， 一邊在CD桿46上的所 希望的基準(zhǔn)標(biāo)記M進(jìn)入各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的視野(檢測(cè)區(qū)域)的位 置停止各臂56的旋轉(zhuǎn)。由此，配合附于待檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記的配置，來(lái)調(diào)整(改變)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線。即，改變第二對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的檢測(cè)區(qū)域在X軸方向的位置。由此，僅須使晶圓W移 動(dòng)于Y軸方向，能通過(guò)各第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n來(lái)依序檢測(cè)出在晶圓W 上其X軸方向位置大致相同且Y軸方向位置相異的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。本 實(shí)施方式中，晶圓對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作、即第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1及第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2n對(duì)晶圓的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作，雖如后述般使晶圓W僅往Y軸 方向進(jìn)行一維移動(dòng)，但也可在該動(dòng)作的途中使至少一個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) AL2n的檢測(cè)區(qū)域與晶圓W相對(duì)移動(dòng)于與Y軸方向相異的方向(例如X 軸方向)。此時(shí)，雖可通過(guò)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的移動(dòng)來(lái)調(diào)整檢測(cè)區(qū)域 的位置，但也可在考量調(diào)整時(shí)間或基線變化等后僅使晶圓W移動(dòng)。
接著，在以上述方式調(diào)整第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線后，主控制 裝置20使各真空墊58n作動(dòng)以將各臂56n吸附固定于未圖示的主框架。 由此來(lái)維持各臂56 n的旋轉(zhuǎn)角度調(diào)整后的狀態(tài)。
此外，上述說(shuō)明中，雖以五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl，AL2t AL24來(lái)同時(shí) 且個(gè)別檢測(cè)出形成于CD桿46上相異位置的基準(zhǔn)標(biāo)記M，但并不限 于此，例如也能以五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24來(lái)同時(shí)且個(gè)別檢測(cè) 出形成于晶圓W(處理晶圓)上相異位置的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，并調(diào)整各臂56n 的旋轉(zhuǎn)，由此來(lái)調(diào)整第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的基線。另外，在本實(shí)施方 式中，雖使用CD桿46的基準(zhǔn)標(biāo)記M等來(lái)調(diào)整第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n 的基線(檢測(cè)區(qū)域的位置)，但調(diào)整動(dòng)作并不限于此，例如也可以前述 傳感器一邊測(cè)量第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的位置一邊使其移動(dòng)至目標(biāo)位置。 此時(shí)，可采用根據(jù)該傳感器所測(cè)量的第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2n的位置或移 動(dòng)量來(lái)修正移動(dòng)前測(cè)量的基線的程序，在移動(dòng)后再度執(zhí)行基線測(cè)量的 程序，或在移動(dòng)后至少進(jìn)行第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2 n的基線測(cè)量的程序。
其次，說(shuō)明以本實(shí)施方式的曝光裝置100進(jìn)行的晶圓W表面在Z 軸方向的位置信息(面位置信息)的檢測(cè)(以下稱為聚焦映射)。
在進(jìn)行此聚焦映像時(shí)，主控制裝置20如圖18(A)所示，根據(jù)對(duì)向 于X標(biāo)尺39乂2的X讀頭66(X線性編碼器70D)、以及分別對(duì)向于Y 標(biāo)尺39Yl5 39Y2的兩個(gè)Y讀頭64y2， 64y!(Y線性編碼器70A, 70C)來(lái)管 理晶圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置。在此圖18(A)的狀態(tài)下，與通過(guò) 晶圓臺(tái)WTB中心(與晶圓W的中心大致一致)的Y軸平行的直線(中心 線)，與前述直線LV—致。
接著，在此狀態(tài)下，主控制裝置20開(kāi)始晶圓載臺(tái)WST往+ Y方 向的掃描(SCAN)，在此掃描開(kāi)始后，在晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向移 動(dòng)直到多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a, 90b)的檢測(cè)光束開(kāi)始照射于晶圓W上為止的 期間，使Z傳感器72a ~ 72d與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)—起作動(dòng)(使其 導(dǎo)通)。
接著，在此Z傳感器72a~72d與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)同時(shí)作 動(dòng)的狀態(tài)下，如圖18(B)所示，在晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向行進(jìn)的期 間，以既定取樣間隔獲取Z傳感器72a ~ 72d所測(cè)量的晶圓臺(tái)WTB表 面(板件28表面)在Z軸方向的位置信息(面位置信息)、以及以多點(diǎn)AF 系統(tǒng)(90a, 90b)檢測(cè)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)中晶圓W表面在Z軸方向的位置信息(面位置信息)，并將該獲取的各面位置信息與各取樣時(shí)Y線性編碼 器70A， 70C的測(cè)量值這三者彼此賦予對(duì)應(yīng)關(guān)系后依序儲(chǔ)存于未圖示 的內(nèi)存。
接著，當(dāng)多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的檢測(cè)光束不照射至晶圓W時(shí)， 主控制裝置20即結(jié)束上述取樣動(dòng)作，將多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的各檢 測(cè)點(diǎn)的面位置信息換算成以同時(shí)獲取的Z傳感器72a~72d的面位置 信息為基準(zhǔn)的數(shù)據(jù)。
更進(jìn)一步詳言之，根據(jù)Z傳感器72a，72b的測(cè)量值平均值來(lái)求出 板件28的-X側(cè)端部附近區(qū)域(形成有Y標(biāo)尺39Y2的區(qū)域)上既定點(diǎn) (例如Z傳感器72a， 72b各自的測(cè)量點(diǎn)的中點(diǎn)、即相當(dāng)于與多點(diǎn)AF系 統(tǒng)(90a， 90b)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的排列大致相同的X軸上的點(diǎn)，以下將此點(diǎn) 稱為左測(cè)量點(diǎn))的面位置信息。另夕卜，根據(jù)Z傳感器72c，72d的測(cè)量值 平均值來(lái)求出板件28的+ X側(cè)端部附近區(qū)域(形成有Y標(biāo)尺39Yi的區(qū) 域)上既定點(diǎn)(例如Z傳感器72c, 72d各自的測(cè)量點(diǎn)的中點(diǎn)、即相當(dāng)于 與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的排列大致相同的X軸上的 點(diǎn)，以下將此點(diǎn)稱為右測(cè)量點(diǎn))的面位置信息。接著，主控制裝置20如 圖18(C)所示，將多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，卯b)的各檢測(cè)點(diǎn)的面位置信息， 換算成以連結(jié)左測(cè)量點(diǎn)Pl的面位置與右測(cè)量點(diǎn)P2的面位置的直線為 基準(zhǔn)的面位置數(shù)據(jù)zl zk。主控制裝置20對(duì)所有取樣時(shí)所獲取的信 息進(jìn)行上述換算。
如上所述，通過(guò)預(yù)先取得上述的換算數(shù)據(jù)，例如在進(jìn)行啄光時(shí)等， 以前述Z傳感器74i，j、 742,j及76i，q、 762，q測(cè)量晶圓臺(tái)WTB表面(形成 有Y標(biāo)尺39Y2的區(qū)域上的點(diǎn)、以及形成有Y標(biāo)尺39Yi的區(qū)域上的點(diǎn))， 以算出晶圓臺(tái)WTB的Z位置與相對(duì)XY平面的傾斜(主要為0y旋轉(zhuǎn))。 通過(guò)使用該算出的晶圓臺(tái)WTB的Z位置、相對(duì)XY平面的傾斜、以 及前述面位置數(shù)據(jù)zl ~ zk，即可在不實(shí)際取得晶圓表面的面位置信息 的情況下控制晶圓W上面的面位置。因此，由于即使將多點(diǎn)AF系統(tǒng) 配置于離開(kāi)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的位置也不會(huì)產(chǎn)生任何問(wèn)題，因此即使 是作業(yè)距離較窄的曝光裝置等，也能非常合適地適用于本實(shí)施方式的
聚焦映射。
此外，上述說(shuō)明中，雖分別根據(jù)Z傳感器72a，72b的測(cè)量值的平 均值、Z傳感器72c， 72d的測(cè)量值的平均值來(lái)算出左測(cè)量點(diǎn)Pl的面位 置與右測(cè)量點(diǎn)P2的面位置，但并不限于此，也可將多點(diǎn)AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)各檢測(cè)點(diǎn)的面位置信息，換算成例如以連結(jié)Z傳感器72a， 72c所 測(cè)量的面位置的直線為基準(zhǔn)的面位置數(shù)據(jù)。此時(shí)，分別預(yù)先求出在各 取樣時(shí)刻取得的Z傳感器72a的測(cè)量值與Z傳感器72b的測(cè)量值的差、 以及Z傳感器72c的測(cè)量值與Z傳感器72d的測(cè)量值的差。接著，在 曝光時(shí)等進(jìn)行面位置控制時(shí)，以Z傳感器74w、 742，j及76^、 762，q測(cè) 量晶圓臺(tái)WTB表面，以算出晶圓臺(tái)WTB的Z位置與相對(duì)XY平面 的傾斜(不僅包含0y旋轉(zhuǎn)、也包含ex旋轉(zhuǎn))，并通過(guò)使用該算出的晶 圓臺(tái)WTB的Z位置、相對(duì)XY平面的傾斜、以及前述面位置數(shù)據(jù)zl~ zk及前述的差，即可在不實(shí)際取得晶圓表面的面位置信息的情況下控 制晶圓W的面位置。
以上，是以在晶圓臺(tái)WTB表面不存在凹凸為前提下的說(shuō)明。然 而，實(shí)際上如圖18(C)所示，會(huì)在晶圓臺(tái)WTB表面、即形成有Y標(biāo) 尺39Y2的第1部分區(qū)域28b!的表面及形成有Y標(biāo)尺39Y,的第2部分 區(qū)域28b2的表面等上有凹凸。然而，即使如上所述在晶圓臺(tái)WTB表 面存在有凹凸時(shí)，在晶圓W的子午線(與通過(guò)晶圓中心的Y軸平行的 直線)上的點(diǎn)仍能以極高精度進(jìn)行面位置控制。
以下，針對(duì)此點(diǎn)進(jìn)行說(shuō)明。
在進(jìn)行聚焦映射時(shí)，作為匹配時(shí)的基準(zhǔn)的Z傳感器72a 72d檢 測(cè)晶圓臺(tái)WTB表面上的某位置(XY坐標(biāo)位置)的面位置信息。接著， 由上述說(shuō)明可清楚得知，聚焦映射，先固定晶圓載臺(tái)WST的X位置， 一邊使晶圓載臺(tái)WST往+Y方向直線移動(dòng)一邊進(jìn)行。即，在進(jìn)行聚 焦映射時(shí)Z傳感器72a 72d檢測(cè)該面位置信息的線(第2憎水板28b 的表面上)也成為與Y軸平行的直線。
在進(jìn)行該聚焦映射時(shí)(晶圓載臺(tái)\￥81往+Y方向移動(dòng)時(shí))，位于晶 圓的子午線上的照射區(qū)域，在不使晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)于X軸方向的
情況下配置于曝光位置(投影光學(xué)系統(tǒng)PL下方)。在子午線上的照射區(qū) 域到達(dá)啄光位置時(shí)，位于平行于與Z傳感器72a，72b相同的Y軸的直 線上、且位于平行于與一對(duì)Z傳感器74u、 742,4、 Z傳感器72c，72d 相同的Y軸的直線上的一對(duì)Z傳感器76i，3、 762，3,檢測(cè)在聚焦映射 時(shí)Z傳感器72a， 72b及Z傳感器72c， 72d分別檢測(cè)面位置信息的晶圓 臺(tái)WTB上的點(diǎn)的相同點(diǎn)的面位置信息。即，作為多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b) 的面位置信息檢測(cè)基準(zhǔn)的Z傳感器所測(cè)量的基準(zhǔn)面，在聚焦映射時(shí)與 曝光時(shí)為相同。因此，即使在晶圓臺(tái)WTB表面產(chǎn)生凹凸或起伏等， 在對(duì)子午線上的照射區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)可不用考量該凹凸和起伏等，可 將聚焦映像時(shí)所得到的Z位置直接作為Z位置使用，而能在曝光時(shí)進(jìn) 行晶圓的聚焦控制，因此能進(jìn)行高精度的聚焦控制。
在對(duì)子午線上以外的照射區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)，當(dāng)在晶圓臺(tái)WTB表 面無(wú)凹凸及起伏等的情況下，雖可確保與上述子午線上的照射區(qū)域相 同程度的聚焦控制精度，但當(dāng)在晶圓臺(tái)WTB表面有凹凸或起伏等的 情況下，聚焦控制精度則取決于后述的導(dǎo)線Z移動(dòng)修正的精度。另外， 主控制裝置20當(dāng)為了對(duì)子午線上以外的照射區(qū)域進(jìn)行曝光而使晶圓 載臺(tái)WST移動(dòng)于例如X軸方向時(shí)等，隨著該晶圓栽臺(tái)WST的移動(dòng) 而在多個(gè)Z傳感器間接續(xù)測(cè)量值。
其次說(shuō)明聚焦校正。聚焦校正，是指進(jìn)行下述兩個(gè)處理聚焦校 正的前半處理，求出某基準(zhǔn)狀態(tài)中晶圓臺(tái)WTB在X軸方向的一側(cè)與 另一側(cè)端部的面位置信息、以及多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)對(duì)測(cè)量板30 表面的代表檢測(cè)點(diǎn)的檢測(cè)結(jié)果(面位置信息)的關(guān)系；以及聚焦校正的 后半處理，系在與上述基準(zhǔn)狀態(tài)相同的狀態(tài)下，求出與使用空間像測(cè) 量裝置45所檢測(cè)出的投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置對(duì)應(yīng)的、晶圓 臺(tái)WTB在X軸方向的一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息；并根據(jù)上述 兩處理的處理結(jié)果，求出多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的代表檢測(cè)點(diǎn)的偏置、 即投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置與多點(diǎn)AF系統(tǒng)的檢測(cè)原點(diǎn)的偏 差等。
在進(jìn)行此聚焦校正時(shí)，主控制裝置20如圖19(A)所示，根據(jù)分別
對(duì)向于X標(biāo)尺39X,， 39X2的兩個(gè)X讀頭66(X線性編碼器70B， 70D)、 以及分別對(duì)向于Y標(biāo)尺39Y^ 39Y2的兩個(gè)Y讀頭64y2， 64yi(Y線性編 碼器70A，70C)來(lái)管理晶圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置。在此圖19(A) 的狀態(tài)下，是晶圓臺(tái)WTB的中心線與前述直線LV—致的狀態(tài)。另 外，在此圖19(A)的狀態(tài)下，晶圓臺(tái)WTB位于Y軸方向來(lái)自多點(diǎn)AF 系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)的檢測(cè)光束會(huì)照射于前述測(cè)量板30的位置。另外，此 處雖省略圖示，但在晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的+Y側(cè)有測(cè)量載 臺(tái)MST，前述CD桿46及晶圓臺(tái)WTB與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端透 鏡191的間保持有水(參照?qǐng)D31)。
(a) 在此狀態(tài)下，主控制裝置20進(jìn)行下述的聚焦校正的前半處理。 即，主控制裝置20 —邊檢測(cè)前述Z傳感器72a， 72b， 72c， 72d(在位于 多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的檢測(cè)區(qū)域兩端部的檢測(cè)點(diǎn)各自的附近)所檢 測(cè)的晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息， 一邊 以該面位置信息為基準(zhǔn)，使用多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，卯b)檢測(cè)前述測(cè)量板 30(參照?qǐng)D3)表面的面位置信息。由此，求出在晶圓臺(tái)WTB的中心線 與前述直線LV—致的狀態(tài)下Z傳感器72a， 72b， 72c， 72d的測(cè)量值(晶 圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息)、以及多點(diǎn) AF系統(tǒng)(90a， 90b)對(duì)測(cè)量板30表面的檢測(cè)點(diǎn)(多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)中位于中央 或其附近的檢測(cè)點(diǎn))的檢測(cè)結(jié)果(面位置信息)的關(guān)系。
(b) 其次，主控制裝置20使晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向移動(dòng)既定 距離，并在測(cè)量板30配置于投影光學(xué)系統(tǒng)PL正下方的位置時(shí)停止晶 圓載臺(tái)WST。接著，主控制裝置20進(jìn)行下述的聚焦校正的后半處理。 即，主控制裝置20如圖19(B)所示， 一邊以各一對(duì)的Z傳感器741;4、 742，4、 Z傳感器76w、 762,3(用以測(cè)量晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與 另 一側(cè)端部的面位置信息)所測(cè)量的面位置信息為基準(zhǔn)，控制測(cè)量板 30(晶圓臺(tái)WTB)在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸方向的位置(Z位置)，一 邊使用空間像測(cè)量裝置45以狹縫掃描方式測(cè)量形成于標(biāo)線片R或形 成于標(biāo)線片載臺(tái)RST上的未圖示的標(biāo)記板的測(cè)量標(biāo)記的空間像，再根 據(jù)其測(cè)量結(jié)果測(cè)定投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置。此時(shí)，如圖19 (B)
所示，由于浸液區(qū)域14形成于投影光學(xué)系統(tǒng)PL與測(cè)量板30(晶圓臺(tái) WTB)之間，因此上述空間像的測(cè)量經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)PL及水來(lái)進(jìn) 行。另外，在圖19(B)中雖省略圖示，但由于空間像測(cè)量裝置45的 測(cè)量板30等裝載于晶圓載臺(tái)WST(晶圓臺(tái)WTB)上、受光元件等裝載 于測(cè)量載臺(tái)MST上，因此上述空間像的測(cè)量在保持晶圓載臺(tái)WST與 測(cè)量載臺(tái)MST彼此接觸的狀態(tài)(或接觸狀態(tài))下進(jìn)行(參照?qǐng)D33)。通過(guò) 上述測(cè)定，求出在晶圓臺(tái)WTB的中心線與前述直線LV—致的狀態(tài) 下Z侍感器74m、 742，4、 Z傳感器76w、 762,3的測(cè)量值(亦即，晶圓臺(tái) WTB在X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息)。此測(cè)量值，與投 影光學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置對(duì)應(yīng)。
(c)由此，主控制裝置20能根據(jù)在上述(a)的聚焦校正前半處理所 求出的Z傳感器72a, 72b， 72c， 72d的測(cè)量值(晶圓臺(tái)WTB在X軸方 向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息)、與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)對(duì)測(cè)量 板30表面的檢測(cè)結(jié)果(面位置信息)的關(guān)系、以及在上述(b)的聚焦校正 后半處理所求出的與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置對(duì)應(yīng)的Z傳感 器74m、 742，4、 Z傳感器76w、 762，3(即，晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一 側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息)，求出多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的代表檢 測(cè)點(diǎn)的偏置、即投影光學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置與多點(diǎn)AF系統(tǒng)的 檢測(cè)原點(diǎn)的偏差。本實(shí)施方式中，該代表檢測(cè)點(diǎn)雖例如是多個(gè)檢測(cè)點(diǎn) 的中央或其附近的檢測(cè)點(diǎn)，但其數(shù)目及/或位置等可為任意。此時(shí)， 主控制裝置20進(jìn)行多點(diǎn)AF系統(tǒng)的檢測(cè)原點(diǎn)的調(diào)整，以使該代表檢測(cè) 點(diǎn)的偏置為零。此調(diào)整例如可通過(guò)調(diào)整受光系統(tǒng)90b內(nèi)部的未圖示平 行平面板的角度來(lái)以光學(xué)方式進(jìn)行，或亦可以電氣方式調(diào)整檢測(cè)偏置。 另外，不進(jìn)行檢測(cè)原點(diǎn)的調(diào)整，而事先儲(chǔ)存該偏置亦可。此處，通過(guò) 上述光學(xué)方法來(lái)進(jìn)行該檢測(cè)原點(diǎn)的調(diào)整。由此，多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b) 的聚焦校正即結(jié)束。此外，光學(xué)方式的檢測(cè)原點(diǎn)的調(diào)整，由于并不易 使代表檢測(cè)點(diǎn)以外的剩佘檢測(cè)點(diǎn)的偏置均為零，因此剩佘的檢測(cè)點(diǎn)最 好事先儲(chǔ)存進(jìn)行光學(xué)調(diào)整后的偏置。
其次，說(shuō)明與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)個(gè)別對(duì)應(yīng)的多
個(gè)受光元件(傳感器)間的檢測(cè)值的偏置修正(以下稱為AF傳感器間偏 置修正)。
在進(jìn)行該多點(diǎn)傳感器間偏置修正時(shí)，主控制裝置20如圖20(A)所 示，從多點(diǎn)AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)的照射系統(tǒng)90a將檢測(cè)光束照射于具 備既定基準(zhǔn)平面的前述CD桿46，并在多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的受光 系統(tǒng)90b接收來(lái)自CD桿46表面(基準(zhǔn)平面)的反射光后，獲取來(lái)自受 光系統(tǒng)90b的輸出信號(hào)。
此時(shí)，只要CD桿46表面設(shè)定成與XY平面平行，主控制裝置 20即可根據(jù)以上述方式獲取的輸出信號(hào)，求出與多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)個(gè)別對(duì)應(yīng) 的多個(gè)傳感器的檢測(cè)值(測(cè)量值)的關(guān)系，并將該關(guān)系儲(chǔ)存于內(nèi)存，或 者以電氣方式調(diào)整各傳感器的檢測(cè)偏置，以使所有傳感器的檢測(cè)值例 如與進(jìn)行前述聚焦校正時(shí)對(duì)應(yīng)于代表檢測(cè)點(diǎn)的傳感器的檢測(cè)值成為同 一值，由此能進(jìn)行AF傳感器間偏置修正。
然而，本實(shí)施方式中，在獲取來(lái)自多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的受光 系統(tǒng)90b的輸出信號(hào)時(shí)，由于主控制裝置20會(huì)如圖20(A)所示使用Z 傳感器72a， 72b， 72c， 72d來(lái)檢測(cè)出CD桿46表面的傾斜，因此不一定 要將CD桿46表面設(shè)定成與XY平面平行。即只要如圖20(B)的示意 圖所示那樣使各檢測(cè)點(diǎn)的檢測(cè)值分別成為該圖中箭頭所示的值即可， 即若連結(jié)檢測(cè)值上端的線有如該圖中虛線所示的凹凸時(shí)，將各檢測(cè)值 調(diào)整成連結(jié)檢測(cè)值上端的線成為該圖中所示的實(shí)線即可。
其次，說(shuō)明用以求出修正信息的導(dǎo)線Z移動(dòng)修正，該修正信息用 以修正晶圓臺(tái)WTB表面、更正確而言為第2憎水板28b表面在X軸 方向的凹凸的影響。此處，導(dǎo)線Z移動(dòng)修正如下進(jìn)行， 一邊使晶圓臺(tái) WTB移動(dòng)于X軸方向， 一邊以既定取樣間隔，同時(shí)獲取Z傳感器(用 以檢測(cè)晶圓臺(tái)WTB的第2憎水板28b表面左右區(qū)域的面位置信息)的 測(cè)量值、以及多點(diǎn)AF系統(tǒng)對(duì)晶圓的面位置信息的檢測(cè)值。
在進(jìn)行此導(dǎo)線Z移動(dòng)修正時(shí)，主控制裝置20與前述的聚焦映射 同樣地，如圖21(A)所示，根據(jù)分別對(duì)向于X標(biāo)尺39X,， 39Xz的兩個(gè) X讀頭66(X線性編碼器70B， 70D)、以及分別對(duì)向于Y標(biāo)尺39Yl5 39Y2
的兩個(gè)Y讀頭64y2， 64yi(Y線性編碼器70A, 70C)來(lái)管理晶圓臺(tái)WTB 在XY平面內(nèi)的位置。在此圖21(A)的狀態(tài)下，晶圓臺(tái)WTB的中心線 位于前述直線LV的+ Y側(cè)，主控制裝置20使用Z傳感器72a， 72b 及Z傳感器72c， 72d測(cè)量晶圓臺(tái)WTB的第2憎水板28b表面左右區(qū) 域的-X側(cè)端部附近的點(diǎn)的面位置信息，同時(shí)使用多點(diǎn)AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)來(lái)檢測(cè)晶圓的面位置信息。
其次，主控制裝置20如圖21(A)中白色箭頭所示，使晶圓載臺(tái) WST以既定速度移動(dòng)于-X方向。在此移動(dòng)中，主控制裝置20以既 定取樣間隔，反復(fù)執(zhí)行同時(shí)獲取上述Z傳感器72a， 72b及Z傳感器 72c，72d的測(cè)量值與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的檢測(cè)值。接著如圖21(B) 所示，在Z傳感器72a，72b及Z傳感器72c，72d與晶圓臺(tái)WTB的第 2憎水板28b表面左右區(qū)域的+X側(cè)端部附近的點(diǎn)對(duì)向的狀態(tài)下，結(jié) 束上述同時(shí)獲取動(dòng)作的時(shí)刻時(shí)即結(jié)束作業(yè)。
接著，主控制裝置20求出多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)在各檢測(cè)點(diǎn)的面 位置信息與同時(shí)獲取的Z傳感器72a~72d的面位置信息的關(guān)系。接 著，從進(jìn)行不同取樣時(shí)所求出的多個(gè)關(guān)系中算出第2憎水板28b表面 在X軸方向的凹凸。即，由于此時(shí)多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a,90b)調(diào)整了傳感 器間偏置，因此只要是第2憎水板28b表面的相同點(diǎn)，與任一檢測(cè)點(diǎn) 對(duì)應(yīng)的傳感器的檢測(cè)值也應(yīng)為相同值。因此，以與不同檢測(cè)點(diǎn)對(duì)應(yīng)的 傳感器檢測(cè)第2憎水板28b表面的相同點(diǎn)時(shí)的檢測(cè)值的差，會(huì)直接反 應(yīng)出第2憎水板28b表面的凹凸及其移動(dòng)時(shí)的晶圓臺(tái)在Z軸方向的位 置變動(dòng)。因此，通過(guò)利用此關(guān)系，以從進(jìn)行不同取樣時(shí)所求出的多個(gè) 關(guān)系中求出第2憎水板28b表面在X軸方向的凹凸。
如上所述，主控制裝置20， 一邊使晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST) 移動(dòng)于X軸方向， 一邊才艮據(jù)^f吏用多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，卯b)依序檢測(cè)出的 結(jié)果，求出在晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)移動(dòng)于X軸方向(位于不同 的X位置)時(shí)產(chǎn)生的晶圓臺(tái)WTB表面在Z軸方向的位置變動(dòng)相關(guān)的信 息。主控制裝置20在進(jìn)行曝光時(shí)加入此信息來(lái)作為修正量，同時(shí)進(jìn)行 晶圓W的聚焦控制。
其次，根據(jù)圖22 ~圖36說(shuō)明本實(shí)施方式的曝光裝置100中使用 晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST的并行處理動(dòng)作。此外，以下動(dòng)作中， 利用主控制裝置20，以前述方式進(jìn)行局部浸液裝置8的液體供應(yīng)裝置 5及液體回收裝置6的各閥的開(kāi)關(guān)控制，以隨時(shí)將水充滿于投影光學(xué) 系統(tǒng)PL的前端透鏡191的射出面?zhèn)取Ｒ韵聻榱耸拐f(shuō)明易于理解，省 略與液體供應(yīng)裝置5及液體回收裝置6的控制相關(guān)的說(shuō)明。另外，之 后的動(dòng)作說(shuō)明雖會(huì)利用到多個(gè)圖，但在各圖中有時(shí)會(huì)對(duì)同一構(gòu)件賦予 符號(hào)，有時(shí)則不會(huì)賦予。即各圖所記載的符號(hào)雖相異，但不論該等圖 中有無(wú)符號(hào)，均為同一構(gòu)成。此點(diǎn)與截至目前為止的說(shuō)明中所使用的 各圖相同。
圖22表示對(duì)晶圓載臺(tái)WST上的晶圓W(此處例舉某批量(一批量 為25片或50片)中間的晶圓)進(jìn)行步進(jìn)掃描方式的曝光的狀態(tài)。此時(shí)， 測(cè)量載臺(tái)MST與晶圓栽臺(tái)WST保持既定距離追隨移動(dòng)。因此，在曝 光結(jié)束后，在移行至與晶圓載臺(tái)WST為前述接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài)) 時(shí)的測(cè)量載臺(tái)MST的移動(dòng)距離，只要與上述既定距離為相同距離即 足夠。
在此曝光中，通過(guò)主控制裝置20，根據(jù)分別對(duì)向于X標(biāo)尺3QX^ 39X2的圖22中以圓圏框住顯示的兩個(gè)X讀頭66(X編碼器70B，70D)、 以及分別對(duì)向于Y標(biāo)尺39Yh 39Y2的圖22中以圓圏框住顯示的兩個(gè)Y 讀頭64(Y編碼器70A， 70C)的測(cè)量值，來(lái)控制晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái) WST)在XY平面內(nèi)的位置(包含ez旋轉(zhuǎn))。另外，通過(guò)主控制裝置20， 根據(jù)分別對(duì)向于晶圓臺(tái)WTB表面的X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的各 一對(duì)Z傳感器7^，j， 742，j, 76i，q， 762，q的測(cè)量值，來(lái)控制晶圓臺(tái)WTB 在Z軸方向的位置與0y旋轉(zhuǎn)(橫搖)及Gx旋轉(zhuǎn)(縱搖)。此外，晶圓臺(tái) WTB在Z軸方向的位置與Gy旋轉(zhuǎn)(橫搖)根據(jù)Z傳感器7A，j, 742，j， 76乙 q， 762， q的測(cè)量值來(lái)控制，0x旋轉(zhuǎn)(縱搖)也可根據(jù)Y軸干涉儀16的測(cè) 量值來(lái)控制。無(wú)論如何，在該曝光中晶圓臺(tái)WTB在Z軸方向的位置、 ey旋轉(zhuǎn)及9x旋轉(zhuǎn)的控制(晶圓W的聚焦調(diào)平控制)，根據(jù)事前進(jìn)行的 前述聚焦映射的結(jié)果來(lái)進(jìn)行。
另外，為了防止在該曝光中晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST較既 定距離接近，設(shè)定成開(kāi)閉器49A，49B為關(guān)閉開(kāi)口 51A，51B的狀態(tài)。
通過(guò)主控制裝置20,根據(jù)事前進(jìn)行的前述晶圓對(duì)準(zhǔn)(EGA)的結(jié)果 及對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1，AL2廣AL22的最新基線等，反復(fù)進(jìn)行照射間移動(dòng)動(dòng) 作(使晶圓載臺(tái)WST往用以使晶圓W上的各照射區(qū)域曝光的掃描開(kāi)始 位置(加速開(kāi)始位置)移動(dòng))與掃描膝光動(dòng)作(以掃描膝光方式對(duì)各照射 區(qū)域轉(zhuǎn)印形成于標(biāo)線片R的圖案)，由此來(lái)進(jìn)行上述曝光動(dòng)作。此外， 上述膝光動(dòng)作，在將水保持在前端透鏡191與晶圓W間的狀態(tài)下進(jìn)行。 另外，依位于圖22的-Y側(cè)的照射區(qū)域至位于+ Y側(cè)的照射區(qū)域的順 序來(lái)進(jìn)行。
另外，主控制裝置20，也可在進(jìn)行啄光中，儲(chǔ)存編碼器70A 70D 的測(cè)量值與干涉儀16， 126的測(cè)量值，并視需要來(lái)更新前述修正圖。
接著，當(dāng)如圖23所示對(duì)晶圓W的曝光結(jié)束前、例如依序?qū)A W上的不同照射區(qū)域依序曝光時(shí)，在對(duì)最終照射區(qū)域進(jìn)行曝光前，主 控制裝置20開(kāi)始經(jīng)由驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)34A， 34B來(lái)下降驅(qū)動(dòng)開(kāi)閉器49A， 49B, 以將開(kāi)口 51A, 51B設(shè)定成開(kāi)啟狀態(tài)。主控制裝置20，在通過(guò)開(kāi)閉傳 感器101確認(rèn)開(kāi)閉器49A， 49B為完全開(kāi)啟的狀態(tài)后，即一邊將X軸 干涉儀130的測(cè)量值維持于一定值， 一邊根據(jù)Y軸干涉儀18的測(cè)量 值控制載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)124，使測(cè)量載臺(tái)MST(測(cè)量臺(tái)MTB)移動(dòng)至圖24 所示的位置。此時(shí)，CD桿46(測(cè)量臺(tái)MTB)的-Y側(cè)面與晶圓臺(tái)WTB 的+Y側(cè)端面接觸。此外，也可監(jiān)控例如用以測(cè)量各臺(tái)在Y軸方向的 位置的干涉儀或編碼器的測(cè)量值，使測(cè)量臺(tái)MTB與晶圓臺(tái)WTB在Y 軸方向分離300nm左右，保持非接觸的狀態(tài)(接近狀態(tài))。
其次，如圖25所示，主控制裝置20 —邊保持晶圓臺(tái)WTB與測(cè) 量臺(tái)MTB在Y軸方向的位置關(guān)系， 一邊開(kāi)始將測(cè)量載臺(tái)MST驅(qū)動(dòng) 于-Y方向、將晶圓載臺(tái)WST驅(qū)動(dòng)向卸載位置UP的動(dòng)作。當(dāng)此動(dòng)作 開(kāi)始時(shí)，在本實(shí)施方式中測(cè)量載臺(tái)MST僅移動(dòng)于-Y方向，晶圓栽 臺(tái)WST則移動(dòng)于-Y方向及-X方向。
如此，當(dāng)通過(guò)主控制裝置20同時(shí)驅(qū)動(dòng)晶圓載臺(tái)WST、測(cè)量載臺(tái)
MST時(shí)，保持于投影單元PU的前端透鏡191與晶圓W之間的水(浸 液區(qū)域14的水)，隨著晶圓載臺(tái)WST及測(cè)量載臺(tái)MST往-Y側(cè)的移 動(dòng)，而依照晶圓W —板件28 —CD桿46 —測(cè)量臺(tái)MTB的順序移動(dòng)。 此外，在上述移動(dòng)當(dāng)中，晶圓臺(tái)WTB、測(cè)量臺(tái)MTB保持前述接觸狀 態(tài)(或接近狀態(tài))。此外，圖25顯示浸液區(qū)域14的水即將從板件28 移至CD桿46的狀態(tài)。
當(dāng)從圖25的狀態(tài)更進(jìn)一步地將晶圓載臺(tái)WST、測(cè)量載臺(tái)MST 往-Y方向同時(shí)驅(qū)動(dòng)些微距離時(shí)，由于Y編碼器70A, 70C無(wú)法測(cè)量 晶圓載臺(tái)WST(晶圓臺(tái)WTB)的位置，因此在此之前，主控制裝置20 將晶圓載臺(tái)WST(晶圓臺(tái)WTB)的Y位置及ez旋轉(zhuǎn)的控制，從基于Y 編碼器70A， 70C的測(cè)量值的控制切換成基于Y軸干涉儀16的測(cè)量值 的控制。接著在既定時(shí)間后，由于測(cè)量載臺(tái)MST如圖26所示到達(dá)前 述進(jìn)行Sec-BCHK(時(shí)距)的位置，因此主控制裝置120使測(cè)量載臺(tái)MST 停止在該位置，且通過(guò)與X標(biāo)尺39X,對(duì)向的圖26中以圓圏框住顯示 的X讀頭66(X線性編碼器70B)來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST的X位置，以 Y軸干涉儀16測(cè)量Y位置及0z旋轉(zhuǎn)等，同時(shí)使晶圓載臺(tái)WST進(jìn)一 步往卸栽位置UP驅(qū)動(dòng)并使其在卸載位置UP停止。此外，在圖26的 狀態(tài)下，在測(cè)量臺(tái)MTB與前端透鏡191之間保持有水。
其次，主控制裝置20如圖26及圖27所示，使用測(cè)量載臺(tái)MST 的CD桿46,進(jìn)行以前述步驟測(cè)量四個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)相對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)AL1的相對(duì)位置的Sec-BCHK(時(shí)距)。主控制裝置20，以與此 Sec-BCHK(時(shí)距)同時(shí)進(jìn)行的方式，對(duì)未圖示的卸載臂的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)下達(dá) 指令以卸載停在卸載位置UP的晶圓載臺(tái)WST上的晶圓W，且在卸 載時(shí)使上升驅(qū)動(dòng)的上下動(dòng)銷CT(圖26中未圖示，參照?qǐng)D27)上升既定 量，并將晶圓栽臺(tái)WST往+ X方向驅(qū)動(dòng)使其移動(dòng)至裝載位置LP。此 處，晶圓的卸載動(dòng)作的進(jìn)行方式，是以上下動(dòng)銷CT從下方支撐頂起 晶圓W，卸載臂從該晶圓W下方進(jìn)入，再使上下動(dòng)銷CT稍往下移 動(dòng)或卸載臂稍往上升等，來(lái)從上下動(dòng)銷CT將晶圓承交至卸載臂。
其次，主控制裝置20如圖28所示將測(cè)量載臺(tái)MST移動(dòng)至最佳
待機(jī)位置(以下稱為"最佳急停待機(jī)位置")，該待機(jī)位置是將測(cè)量載
臺(tái)MST從離開(kāi)晶圓載臺(tái)WST的狀態(tài)移行至與晶圓載臺(tái)WST的前述 接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))的位置，再以前述步驟關(guān)閉開(kāi)閉器49A, 49B。 主控制裝置20以與上述動(dòng)作同時(shí)進(jìn)行的方式，對(duì)未圖示的裝載臂的驅(qū) 動(dòng)系統(tǒng)下達(dá)指令以將新的晶圓W裝載于晶圓臺(tái)WTB上。此晶圓W 的裝載動(dòng)作進(jìn)行的步驟如下，將保持于裝載臂的晶圓W從裝載臂移交 至維持上升既定量狀態(tài)的上下動(dòng)銷CT，在裝載臂退離后，通過(guò)使上 下動(dòng)銷CT下降以將晶圓W裝載于晶圓保持具上，再以未圖示真空夾 具予以吸附。此時(shí)，由于維持上下動(dòng)銷CT上升既定量的狀態(tài)，因此 與將上下動(dòng)銷CT下降驅(qū)動(dòng)后收納于晶圓保持具內(nèi)部的情形相較，能 以更短時(shí)間來(lái)進(jìn)行晶圓裝載動(dòng)作。此外，圖28顯示晶圓W裝載于晶 圓臺(tái)WTB的狀態(tài)。
在本實(shí)施方式中，上述測(cè)量載臺(tái)MST的最佳急停待機(jī)位置，根 據(jù)附設(shè)于晶圓上的對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的Y坐標(biāo)來(lái)適當(dāng)?shù)卦O(shè)定。 由此，當(dāng)移行至上述接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))時(shí)，由于不需進(jìn)行使測(cè)量 載臺(tái)MST移動(dòng)至該最佳急停待機(jī)位置的動(dòng)作，因此與使測(cè)量載臺(tái) MST在離開(kāi)最佳急停待機(jī)位置的位置待機(jī)的情形相較，能削減一次測(cè) 量載臺(tái)MST的移動(dòng)次數(shù)。另外，在本實(shí)施方式中，將上述最佳急停 待機(jī)位置設(shè)定成能使晶圓栽臺(tái)WST停止于進(jìn)行前述晶圓對(duì)準(zhǔn)的位置， 且能移行至上述接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))的位置。
其次，主控制裝置20，如圖29所示使晶圓載臺(tái)WST從裝載位置 LP移動(dòng)至測(cè)量板30上的基準(zhǔn)標(biāo)記FM定位在第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的視 野(檢測(cè)區(qū)域)內(nèi)的位置(即進(jìn)行前述Pri-BCHK的前半處理的位置)。在 此移動(dòng)的途中，主控制裝置20將晶圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置的 控制，從基于編碼器70B(X軸方向)的測(cè)量值的控制、及基于Y軸干 涉儀16(Y軸方向及ez旋轉(zhuǎn))的測(cè)量值的控制，切換成基于對(duì)向于X 標(biāo)尺39Xi， 39乂2的圖29中以圓圏框住顯示的兩個(gè)X讀頭66(編碼器 70B， 70D)、以及對(duì)向于Y標(biāo)尺39Y^ 39Y2的圖29中以圓圏框住顯示 的兩個(gè)Y讀頭64y2， 64y"編碼器70A, 70C)的測(cè)量值的控制。
接著，主控制裝置20，進(jìn)行使用第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1來(lái)檢測(cè)基準(zhǔn) 標(biāo)記FM的前述Pri-BCHK的前半處理。此時(shí)，測(cè)量載臺(tái)MST在前 述最佳急停待機(jī)位置待機(jī)中。
其次，主控制裝置20 —邊根據(jù)上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值來(lái)管理晶 圓載臺(tái)WST的位置， 一邊開(kāi)始使晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向移動(dòng)向用 以檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(附設(shè)于前述三個(gè)第一照射區(qū)域AS(參照?qǐng)D12(C))的位 置。在此晶圓載臺(tái)WSlMi +Y方向的移動(dòng)開(kāi)始后，主控制裝置20以 前述步驟開(kāi)啟開(kāi)閉器49A, 49B，以允許晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái) MST能更加接近。另外，主控制裝置20根據(jù)開(kāi)閉傳感器101的檢測(cè) 結(jié)果來(lái)確認(rèn)開(kāi)閉器49A， 49B已開(kāi)啟。
接著，當(dāng)晶圓載臺(tái)WST到達(dá)圖30所示的位置時(shí)，主控制裝置20 根據(jù)撞擊偵測(cè)傳感器43B， 43C的輸出來(lái)偵測(cè)晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載 臺(tái)MST的彼此接觸(或接近至300nm左右的距離)，并立刻使晶圓載 臺(tái)WST停止。在此之前，主控制裝置20在Z傳感器72a 72d的全 部或一部分與晶圓臺(tái)WTB對(duì)向的時(shí)刻或在此之前的時(shí)刻4吏這些Z傳 感器72a~72d作動(dòng)(導(dǎo)通)，以開(kāi)始晶圓臺(tái)WTB的Z位置及傾斜(9y 旋轉(zhuǎn)及ex旋轉(zhuǎn))的測(cè)量。
在晶圓載臺(tái)WST停止后，主控制裝置20使用第 一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， 第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL22， AL23大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于三個(gè)第一對(duì) 準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(參照?qǐng)D30中的星標(biāo)記)，再將上述三個(gè)對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)ALll5 AL22， AL23的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼 器的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的內(nèi)存。此外，此時(shí)的 附設(shè)于三個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的同時(shí)檢測(cè)動(dòng)作，如前 所述，通過(guò)改變晶圓臺(tái)WTB的Z位置，來(lái)一邊改變多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl， AL2i ~ AL24與晶圓臺(tái)WTB所裝載的晶圓W之間、在Z軸方向(聚焦 方向)的相對(duì)位置關(guān)系， 一邊進(jìn)行。
如上所述，在本實(shí)施方式中，在檢測(cè)第一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì) 準(zhǔn)標(biāo)記的位置，結(jié)束移行至測(cè)量載臺(tái)MST和晶圓載臺(tái)WST成為接觸 狀態(tài)(或接近狀態(tài))的動(dòng)作，并通過(guò)主控制裝置20，開(kāi)始在該接觸狀態(tài)
(或接近狀態(tài))下的兩載臺(tái)WST， MST從上述位置往+ Y方向的移動(dòng)(步 進(jìn)移動(dòng)向前述用以檢測(cè)附設(shè)于五個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 的位置)。在該兩載臺(tái)WST， MST往+ Y方向的移動(dòng)開(kāi)始之前，主控 制裝置20如圖30所示，開(kāi)始多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的檢測(cè)光束對(duì)晶 圓臺(tái)WTB的照射。由此，在晶圓臺(tái)WTB上形成多點(diǎn)AF系統(tǒng)的檢測(cè) 區(qū)域。
接著，在上述兩載臺(tái)\￥81\]\181往+Y方向的移動(dòng)中，當(dāng)兩載臺(tái) WST，MST到達(dá)圖31所示的位置時(shí)，主控制裝置20進(jìn)行前述聚焦校 正的前半處理，求出在晶圓臺(tái)WTB的中心線與前述直線LV—致的 狀態(tài)下Z傳感器72a， 72b， 72c， 72d的測(cè)量值(晶圓臺(tái)WTB在X軸方 向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息)、以及多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，卯b)對(duì)測(cè) 量板30表面的檢測(cè)結(jié)果(面位置信息)的關(guān)系。此時(shí)，浸液區(qū)域14形 成于CD桿46與晶圓臺(tái)WTB的邊界附近。即，浸液區(qū)域14的水即 將從CD桿46移交至晶圓臺(tái)WTB的狀態(tài)。
接著，使兩載臺(tái)WST，MST在保持接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))的狀態(tài) 下往+Y方向更進(jìn)一步移動(dòng)，而到達(dá)圖32所示的位置時(shí)，使用五個(gè)對(duì) 準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2, ~ AL24大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于五個(gè)第二對(duì)準(zhǔn) 照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(參照?qǐng)D32中的星標(biāo)記)，再將上述五個(gè)對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼器 的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的內(nèi)存。此外，此時(shí)的附 設(shè)于五個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的同時(shí)檢測(cè)動(dòng)作，也如前 所述一邊改變晶圓臺(tái)WTB的Z位置， 一邊進(jìn)行。
另外，此時(shí)由于不存在與X標(biāo)尺39Xi對(duì)向且位于上述直線LV上 的X讀頭，因此主控制裝置20根據(jù)與X標(biāo)尺39X2對(duì)向的X讀頭66(X 線性編碼器70D)及Y線性編碼器70A， 70C的測(cè)量值來(lái)控制晶圓臺(tái) WTB在XY平面內(nèi)的位置。
如上所述，在本實(shí)施方式中，在第二對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記的檢測(cè)結(jié)束的時(shí)刻，可檢測(cè)出合計(jì)八個(gè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置信息(二維 位置信息)。因此在此階段時(shí)，主控制裝置20也可使用這些位置信息 來(lái)進(jìn)行例如前述EGA方式的統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，求出晶圓W的標(biāo)尺(照射倍 率)，并根據(jù)該算出的照射倍率來(lái)調(diào)整投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性、 例如投影倍率。在本實(shí)施方式中，通過(guò)驅(qū)動(dòng)構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的 特定可動(dòng)透鏡、或改變構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的特定透鏡間所形成的 氣密室內(nèi)部的氣體壓力等，來(lái)控制用以調(diào)整投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué) 特性的調(diào)整裝置68(參照?qǐng)D8)，以調(diào)整投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性。 即，主控制裝置20也可在對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24檢測(cè)完晶圓W 上的既定數(shù)目(此處為八個(gè))標(biāo)記的階段，根據(jù)這些檢測(cè)結(jié)果控制調(diào)整 裝置68，以調(diào)整投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性。此外，標(biāo)記的數(shù)目不 限于八個(gè)或檢測(cè)對(duì)象的標(biāo)記的總數(shù)的一半等，只要例如在計(jì)算晶圓的 標(biāo)尺等所需的數(shù)目以上即可。
另外，主控制裝置20，在結(jié)束上述附設(shè)于五個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域 AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的同時(shí)檢測(cè)動(dòng)作后，再度開(kāi)始在接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài)) 下的兩載臺(tái)WST， MSl^i +Y方向的移動(dòng)，同時(shí)如圖32所示，開(kāi)始 使用Z傳感器72a ~ 72d與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的前述的聚焦映射。
接著，當(dāng)兩載臺(tái)WST，MST到達(dá)圖33所示的測(cè)量板30配置于投 影光學(xué)系統(tǒng)PL正下方的位置時(shí)，主控制裝置20進(jìn)行前述Pri-BCHK 的后半處理及前述聚焦校正的后半處理。
接著，主控制裝置20根據(jù)前述Pri-BCHK的前半處理的結(jié)果與 Pri-BCHK的后半處理的結(jié)果算出第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線。同時(shí)， 主控制裝置20根據(jù)前述聚焦校正前半處理所求得的Z傳感器72a, 72b， 72c，72d的測(cè)量值(晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位 置信息)與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)對(duì)測(cè)量板30表面的檢測(cè)結(jié)果(面位置 信息)的關(guān)系、以及在前述聚焦校正后半處理所求得的與投影光學(xué)系統(tǒng) PL的最佳聚焦位置對(duì)應(yīng)的Z傳感器7A,4、 742，4、 Z傳感器76u、 762， 3的測(cè)量值(即，晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置 信息)，求出多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的代表檢測(cè)點(diǎn)的偏置，并通過(guò)前述 光學(xué)方法將多點(diǎn)AF系統(tǒng)的檢測(cè)原點(diǎn)調(diào)整到該偏置成為零。
在此情形下，從產(chǎn)量的觀點(diǎn)來(lái)看，也可僅進(jìn)行上述Pri-BCHK的
后半處理及聚焦校正的后半處理的其中一方，也可不進(jìn)行兩處理而移
行至次一處理。當(dāng)然，在不進(jìn)行Pri-BCHK的后半處理時(shí)，也就沒(méi)有 進(jìn)行前述Pri-BCHK的前半處理的必要，此時(shí)，主控制裝置20只要 使晶圓載臺(tái)WST移動(dòng)至可從前述裝載位置LP檢測(cè)出附設(shè)于第一對(duì)準(zhǔn) 照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的位置即可。
此外，在該圖33的狀態(tài)下持續(xù)進(jìn)行前述聚焦映射。 通過(guò)使在上述接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))下的兩載臺(tái)\￥81\]\1811往+ Y方向移動(dòng)，而使晶圓載臺(tái)WST到達(dá)圖34所示的位置時(shí)，主控制裝 置20使晶圓載臺(tái)WST停止在該位置，且使測(cè)量載臺(tái)MST持續(xù)往+ Y 方向移動(dòng)。接著，主控制裝置20使用五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl，AL2i AL24 大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于五個(gè)第三對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 (參照?qǐng)D34中的星標(biāo)記)，并將上述五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24 的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼器的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián) 的方式儲(chǔ)存于未圖示的內(nèi)存。此外，此時(shí)的附設(shè)于五個(gè)第三對(duì)準(zhǔn)照射 區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的同時(shí)檢測(cè)動(dòng)作，亦如前所述一邊改變晶圓臺(tái) WTB的Z位置， 一邊進(jìn)行。另外，在此時(shí)刻也持續(xù)進(jìn)行聚焦映射。
另一方面，從上述晶圓載臺(tái)WST的停止起經(jīng)過(guò)既定時(shí)間后，前 述減震器47A， 47B從形成于X軸固定件80的開(kāi)口 51A, 51B脫離，測(cè) 量載臺(tái)MST與晶圓載臺(tái)WST從接觸(或接近狀態(tài))移行至分離狀態(tài)。 在移行至此分離狀態(tài)后，主控制裝置20通過(guò)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)34A， 34B上升 驅(qū)動(dòng)開(kāi)閉器49A，49B，以i殳定成關(guān)閉開(kāi)口 51A,51B的狀態(tài)，且當(dāng)測(cè)量 載臺(tái)MST到達(dá)膝光開(kāi)始待機(jī)位置(在該處待機(jī)至曝光開(kāi)始為止)時(shí)即 寸亭在該4立置。
其次，主控制裝置20使晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向移動(dòng)向附設(shè)于 前述三個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)位置。此時(shí)仍持續(xù) 進(jìn)行聚焦映射。另一方面，測(cè)量載臺(tái)MST在上述曝光開(kāi)始待機(jī)位置 待機(jī)中。
接著，當(dāng)晶圓載臺(tái)WST到達(dá)圖35所示的位置時(shí)，主控制裝置20 立即使晶圓載臺(tái)WST停止，且使用第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1、第二對(duì)準(zhǔn)系
統(tǒng)AL22， AL23大致同時(shí)且個(gè)別檢測(cè)出附設(shè)于晶圓W上三個(gè)第四對(duì)準(zhǔn) 照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(參照?qǐng)D35中的星標(biāo)記)，并將上述三個(gè)對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)AL1， AL22， AL23的檢測(cè)結(jié)果與進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)的上述四個(gè)編碼器 的測(cè)量值以彼此相關(guān)聯(lián)的方式儲(chǔ)存于未圖示的內(nèi)存。此外，此時(shí)的附 設(shè)于三個(gè)第四對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的同時(shí)檢測(cè)動(dòng)作，亦如前 所述一邊改變晶圓臺(tái)WTB的Z位置， 一邊進(jìn)行。另外，在此時(shí)刻也 持續(xù)進(jìn)行聚焦映射，測(cè)量載臺(tái)MST則持續(xù)在上述膝光開(kāi)始待機(jī)位置 待機(jī)。接著，主控制裝置20使用以上述方式獲得的合計(jì)十六個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo) 記的檢測(cè)結(jié)果與所對(duì)應(yīng)的四個(gè)編碼器的測(cè)量值，以例如前述EGA方 式進(jìn)行統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，算出上述四個(gè)編碼器的測(cè)量軸所規(guī)定的XY坐標(biāo)系 上晶圓W上的所有照射區(qū)域的排列信息(坐標(biāo)值)。
其次，主控制裝置20 —邊再度使晶圓載臺(tái)WST往+ Y方向移動(dòng)， 一邊持續(xù)進(jìn)行聚焦映射。接著，當(dāng)來(lái)自多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a,90b)的檢測(cè) 光束自晶圓W表面偏離時(shí)，即如圖36所示結(jié)束聚焦映射。其后，主 控制裝置20根據(jù)前述晶圓對(duì)準(zhǔn)(EGA)的結(jié)果及五個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2t ~ AL22的最新的基線測(cè)量結(jié)果等，通過(guò)浸液曝光進(jìn)行步進(jìn)掃描方 式的膝光，以將標(biāo)線片圖案依序轉(zhuǎn)印至晶圓W上的多個(gè)照射區(qū)域。其 后，對(duì)批量?jī)?nèi)的剩余晶圓也反復(fù)進(jìn)行同樣的動(dòng)作。
如上所述，根據(jù)本實(shí)施方式，空間像測(cè)量裝置45的一部分設(shè)于晶 圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)且剩余的一部分則設(shè)于測(cè)量載臺(tái)MST，并 測(cè)量通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL所形成的測(cè)量標(biāo)記的空間像。因此，當(dāng)例 如進(jìn)行前述聚焦校正時(shí)，可通過(guò)該空間像測(cè)量裝置45,在測(cè)量投影光 學(xué)系統(tǒng)PL的最佳聚焦位置時(shí)，將設(shè)有空間像測(cè)量裝置45 —部分的晶 圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)在與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸平行的方向的 位置作為該最佳聚焦位置的基準(zhǔn)來(lái)進(jìn)行測(cè)量。因此，在以照明光IL 對(duì)晶圓進(jìn)行膝光時(shí)，可根據(jù)該最佳聚焦位置的測(cè)量結(jié)果來(lái)以高精度調(diào) 整晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)在與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光軸平行的方 向的位置。另外，由于在晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)僅設(shè)有空間像 測(cè)量裝置45的一部分，因此不會(huì)使該晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)大
型化，能良好地確保該位置控制性。此外，也可不將空間像測(cè)量裝置
45剩余的一部分全部設(shè)于測(cè)量載臺(tái)MST，而將其分別設(shè)于測(cè)量載臺(tái) MST及其外部。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，通過(guò)Y軸干涉儀18及X軸干涉儀130 來(lái)測(cè)量測(cè)量載臺(tái)MST的位置信息，并通過(guò)四個(gè)線性編碼器70A~70D 測(cè)量晶圓臺(tái)WTB(晶圓栽臺(tái)WST)的位置信息。此處的線性編碼器 70A~70D系反射型編碼器，其包含具有配置于晶圓臺(tái)WTB上且以分 別平行于Y軸、X軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡拥亩鄠€(gè)光柵(即Y標(biāo)尺 39Y,， 39Y2或X標(biāo)尺39Xh 39X2)、以及與標(biāo)尺39Y,， 39Y2， 39X!， 39X2 對(duì)向配置的讀頭(Y讀頭64或X讀頭66)。因此，線性編碼器70A 70D， 從各讀頭照射于所對(duì)向標(biāo)尺(光柵)的光束的光路長(zhǎng)度較Y軸干涉儀18 及X軸干涉儀130短許多，因此不易受到空氣搖晃的影響，其測(cè)量值 的短期穩(wěn)定性優(yōu)于Y軸干涉儀18及X軸干涉儀130。因此，能穩(wěn)定 地控制用以保持晶圓的晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的位置。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，以Y軸方向?yàn)闇y(cè)量方向的多個(gè)Y讀頭 64在X軸方向的間隔，設(shè)定成較Y標(biāo)尺39Yi, 39Y2在X軸方向的寬 度窄，以X軸方向?yàn)闇y(cè)量方向的多個(gè)X讀頭66在Y軸方向的間隔， 設(shè)定成較X標(biāo)尺39X^39X2在Y軸方向的寬度窄。由此，在使晶圓臺(tái) WTB(晶圓載臺(tái)WST)移動(dòng)時(shí)，可一邊依序切換多個(gè)Y讀頭64, —邊 根據(jù)用以將檢測(cè)光(光束)照射于Y標(biāo)尺39Y!或39Y2的Y線性編碼器 70A或70C的測(cè)量值，來(lái)測(cè)量晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的Y位置， 且可同時(shí)地一邊依序切換多個(gè)X讀頭66， 一邊根據(jù)用以將檢測(cè)光(光 束)照射于X標(biāo)尺39Xi或39乂2的X線性編碼器70B或70D的測(cè)量值， 來(lái)測(cè)量晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的X位置。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，在為了取得前述標(biāo)尺的格子間距的修正 信息而使晶圓臺(tái)(晶圓載臺(tái)WST)往Y軸方向移動(dòng)時(shí)，通過(guò)主控制裝置 20以前述步驟求出用以修正各格子線37(構(gòu)成X標(biāo)尺39X!， 39X》的彎 曲的修正信息(光柵彎曲的修正信息)。接著，通過(guò)主控制裝置20， 一 邊根據(jù)晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的Y位置信息及X標(biāo)尺39X!， 39X2
的光柵彎曲的修正信息(以及格子間距的修正信息)來(lái)修正從讀頭單元
62B， 62D得到的測(cè)量值， 一邊使用X標(biāo)尺39X!， 39X2與讀頭單元62B， 62D來(lái)將晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)驅(qū)動(dòng)于X軸方向。因此，可不 受構(gòu)成X標(biāo)尺39Xl5 39X2的各格子彎曲的影響，使用利用X標(biāo)尺39Xl5 39X2的讀頭單元62B， 62D(編碼器70B， 70D)來(lái)以良好精度進(jìn)行晶圓臺(tái) WTB(晶圓載臺(tái)WST)在X軸方向的驅(qū)動(dòng)。另外，通過(guò)在Y軸方向也 進(jìn)行與上述相同的動(dòng)作，而也能以良好精度進(jìn)行晶圓臺(tái)WTB(晶圓載 臺(tái)WST)在Y軸方向的驅(qū)動(dòng)。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，在晶圓載臺(tái)WST在Y軸方向直線移動(dòng) 的期間，通過(guò)在X軸方向相距既定間隔設(shè)定有多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的多點(diǎn)AF 系統(tǒng)(90a， 90b)來(lái)檢測(cè)晶圓W表面的面位置信息，且通過(guò)沿X軸方向 將檢測(cè)區(qū)域排列成一列的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24來(lái)檢測(cè)在晶 圓W上位置彼此不同的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。即，由于晶圓載臺(tái)WST(晶圓W) 僅呈直線地通過(guò)多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的多個(gè)檢測(cè)點(diǎn)(檢測(cè)區(qū)域AF) 與多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2廣AL24的檢測(cè)區(qū)域，即結(jié)束晶圓W大致 全面的面位置信息的檢測(cè)、以及在晶圓W上待檢測(cè)的所有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 (例如EGA的對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)的檢測(cè)，因此，與毫無(wú)關(guān)聯(lián)地 (分別獨(dú)立地)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作與面位置信息(聚焦信息)的檢
測(cè)動(dòng)作的情形相較，能更加提升產(chǎn)能。
在本實(shí)施方式中，如從前述使用晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST 的并行處理動(dòng)作的說(shuō)明可知，主控制裝置20，在晶圓載臺(tái)WST從裝 載位置向曝光位置(曝光區(qū)域IA)的移動(dòng)的途中(即晶圓載臺(tái)WST往Y 軸方向的移動(dòng)中)，以多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)ALl， AL2i ~ AL24同時(shí)檢測(cè)在晶圓 W上X軸方向的位置不同的多個(gè)標(biāo)記(對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)，且 以多點(diǎn)AF系統(tǒng)(卯a(chǎn)， 90b)檢測(cè)伴隨著晶圓載臺(tái)WST往Y軸方向的移 動(dòng)而通過(guò)多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的檢測(cè)區(qū)域的晶圓W的面位置信息。因此，與 毫無(wú)關(guān)聯(lián)地進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作與面位置信息(聚焦信息)的檢測(cè) 動(dòng)作的情形相較，能更加提升產(chǎn)能。此外，本實(shí)施方式中裝載位置與 啄光位置雖在X軸方向相異，但在X軸方向的位置為大致相同也可。
此時(shí)，能使晶圓載臺(tái)WST大致成一直線地從裝載位置移動(dòng)至對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)(及多點(diǎn)AF系統(tǒng))的檢測(cè)區(qū)域。另外，也可使裝載位置與卸載位置為 同一位置。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，能一邊根據(jù)分別對(duì)向于一對(duì)Y標(biāo)尺39Yl5 39Y2的一對(duì)Y讀頭64y2， 64y,(—對(duì)Y軸線性編碼器70A, 70C)的測(cè)量 值，來(lái)測(cè)量晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)在Y軸方向的位置與9z旋轉(zhuǎn) (偏搖)， 一邊使晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)移動(dòng)于Y軸方向。另外， 在此情況下，由于能在已配合形成于晶圓W上的照射區(qū)域排列(尺寸 等)調(diào)整了第二對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL2廣AL24相對(duì)第一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1在X軸 方向的相對(duì)位置的狀態(tài)下，實(shí)現(xiàn)晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)往Y軸 方向的移動(dòng)，因此能以多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2, ~ AL24同時(shí)測(cè)量晶圓 W上在Y軸方向的位置相同且在X軸方向的位置相異的多個(gè)照射區(qū) 域(例如對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，可通過(guò)主控制裝置20， 一邊根據(jù)編碼器 系統(tǒng)(Y線性編碼器70A， 70C、 X線性編碼器70B， 70D)的測(cè)量值來(lái)控 制晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的位置， 一邊使用對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2廣AL24來(lái)檢測(cè)晶圓W上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。即，能一邊根據(jù)分別對(duì)向 于Y標(biāo)尺39Yh 39Y2的Y讀頭64(Y線性編碼器70A， 70C)、以及分別 對(duì)向于X標(biāo)尺39X,， 39X2的X讀頭66(X線性編碼器70B， 70D)的測(cè)量 值，來(lái)以高精度控制晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)的位置， 一邊使用 對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2！ ~ AL24來(lái)檢測(cè)晶圓W上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，由于隨著晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST) 在XY平面內(nèi)的位置不同，使對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2廣AL24所同時(shí)檢測(cè) 的晶圓W上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)點(diǎn)數(shù)(測(cè)量點(diǎn)數(shù))不同，因此例如在進(jìn)行 前述晶圓對(duì)準(zhǔn)時(shí)等，在使晶圓臺(tái)WTB(晶圓載臺(tái)WST)往與X軸交叉 的方向移動(dòng)、例如往Y軸方向移動(dòng)時(shí)，可根據(jù)晶圓臺(tái)WTB(晶圓栽臺(tái) WST)在Y軸方向的位置、換言之根據(jù)晶圓W上的照射區(qū)域的配置 (LAYOUT),來(lái)使用所需數(shù)目的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)同時(shí)檢測(cè)晶圓W上位置彼此 不同的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，有時(shí)通過(guò)主控制裝置20,在待以對(duì)準(zhǔn)系 統(tǒng)檢測(cè)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記仍殘存于晶圓W上的階段下(例如已結(jié)束附設(shè)于前 述第二對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)的時(shí)刻)，根據(jù)截至目前為 止對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)所檢測(cè)出的晶圓W上的多個(gè)(例如八個(gè))對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)結(jié) 果，來(lái)控制調(diào)整裝置68以調(diào)整投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性。此種情 形下，在此投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光學(xué)特性的調(diào)整后，在例如要進(jìn)行投 影光學(xué)系統(tǒng)PL的既定測(cè)量標(biāo)記(或圖案)的像的檢測(cè)等時(shí)，即使測(cè)量標(biāo) 記的像已隨著上述調(diào)整而移位，但由于也會(huì)測(cè)量該移位后的測(cè)量標(biāo)記 的像，因此其結(jié)果，測(cè)量標(biāo)記的像隨著調(diào)整投影光學(xué)系統(tǒng)PL光學(xué)特 性所導(dǎo)致的移位并不會(huì)成為測(cè)量誤差的要因。另外，由于在檢測(cè)完所 有待檢測(cè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記之前，根據(jù)截止目前為止所檢測(cè)出的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢 測(cè)結(jié)果來(lái)開(kāi)始上述調(diào)整，因此能將上述調(diào)整與剩余的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè) 動(dòng)作同時(shí)進(jìn)行，即，在本實(shí)施方式中，能使上述調(diào)整所需的時(shí)間，重 疊于自開(kāi)始第三對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)起至第四對(duì)準(zhǔn)照 射區(qū)域AS的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)結(jié)束為止的時(shí)間。由此，與檢測(cè)完所有 標(biāo)記后才開(kāi)始上述調(diào)整的現(xiàn)有技術(shù)相較，能更提升產(chǎn)能。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，通過(guò)主控制裝置20，在測(cè)量投影光學(xué)系 統(tǒng)PL的圖案(例如標(biāo)線片R的圖案)像投影位置與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1檢測(cè) 中心的位置關(guān)系(對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線)的動(dòng)作(例如前述Pri-BCHK的 前半處理)開(kāi)始后、直到該動(dòng)作結(jié)束的期間(例如到前述Pri-BCHK的 后半處理結(jié)束為止的期間)，進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2! AL24對(duì)晶圓 W上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記(例如前述三個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域及五個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)照 射區(qū)域的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記)的檢測(cè)動(dòng)作。即，能將對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作 的至少一部分與上述位置關(guān)系的測(cè)量動(dòng)作同時(shí)進(jìn)行。因此，能在上述 位置關(guān)系的測(cè)量動(dòng)作結(jié)束的時(shí)刻，結(jié)束對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)晶圓W上待檢測(cè)的 多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作的至少一部分。由此，與在上述位置關(guān)系的 測(cè)量動(dòng)作前或其后進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)上述多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作的情 形相較，能更提升產(chǎn)能。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，通過(guò)主控制裝置20，在對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1，
AL2i ~ AL24對(duì)晶圓W上待檢測(cè)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作(例如前述 晶圓對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作，即第一對(duì)準(zhǔn)照射區(qū)域AS至分別附設(shè)于第四對(duì)準(zhǔn)照射 區(qū)域AS的合計(jì)十六個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作)開(kāi)始后、直到該動(dòng)作結(jié)束 的期間，進(jìn)行以投影光學(xué)系統(tǒng)PL投影標(biāo)線片R的圖案像的投影位置 與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1檢測(cè)中心的位置關(guān)系(對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1的基線)的測(cè)量動(dòng) 作。即，能與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作的一部分同時(shí)進(jìn)行上述位置 關(guān)系的測(cè)量動(dòng)作。因此，能在進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1,AL2！ AL24對(duì)晶圓 W上待檢測(cè)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作的期間，結(jié)束上述位置關(guān)系的 測(cè)量動(dòng)作。由此，與在以對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)晶圓W上待檢測(cè)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記 的檢測(cè)動(dòng)作前或其后進(jìn)行上述位置關(guān)系的測(cè)量動(dòng)作的情形相較，能更 提升產(chǎn)能。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，通過(guò)主控制裝置20，在開(kāi)始晶圓W上 待檢測(cè)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作(例如前迷晶圓對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作，亦即十六 個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作)后直到該檢測(cè)動(dòng)作結(jié)束前，進(jìn)行晶圓臺(tái)WTB 與測(cè)量臺(tái)MTB的接觸動(dòng)作(或接近至例如300nm以下的接近狀態(tài))、 以及使該兩臺(tái)分離的分離狀態(tài)的切換動(dòng)作。換言之，根據(jù)本實(shí)施方式， 在前述接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))下開(kāi)始對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)晶圓W上待檢測(cè)的多
個(gè)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作，而在結(jié)束多個(gè)標(biāo)記的所有檢測(cè)動(dòng)作前，控制 該兩臺(tái)以從該接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))切換成該分離狀態(tài)。因此，能在 進(jìn)行晶圓W上待檢測(cè)的多個(gè)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作的期間結(jié)束上述狀態(tài)的 切換動(dòng)作。由此，與在晶圓W上待檢測(cè)的多個(gè)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作前或其 后進(jìn)行上述狀態(tài)的切換動(dòng)作的情形相較，能更提升產(chǎn)能。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，主控制裝置20在該分離狀態(tài)下開(kāi)始對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)AL1的基線測(cè)量動(dòng)作，且在該接觸狀態(tài)(或接近狀態(tài))結(jié)束該動(dòng)作。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，通過(guò)主控制裝置20控制載臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng) 124(Z調(diào)平4幾構(gòu))與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i ~ AL24，以一邊利用未圖示的 Z調(diào)平機(jī)構(gòu)改變多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)與晶圓W在Z軸方向(聚焦方向)的相對(duì) 位置關(guān)系，一邊以相對(duì)應(yīng)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)同時(shí)檢測(cè)晶圓W上位置彼 此不同的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。換言之， 一邊以多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)同時(shí)改變多個(gè)對(duì)準(zhǔn) 系統(tǒng)與晶圓w在聚焦方向的相對(duì)位置關(guān)系， 一邊以相對(duì)應(yīng)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)
系統(tǒng)來(lái)同時(shí)檢測(cè)晶圓w上位置彼此不同的標(biāo)記。由此能以各對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 例如以最良好的聚焦?fàn)顟B(tài)來(lái)進(jìn)行標(biāo)記檢測(cè)，并通過(guò)優(yōu)先使用該檢測(cè)結(jié) 果等，可幾乎不受晶圓w表面的凹凸及多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的最佳聚焦差異 的影響，以良好精度檢測(cè)出晶圓w上的位置彼此不同的標(biāo)記。此外，
在本實(shí)施方式中，對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2， ~ AL24雖大致沿X軸方向配置， 但一邊以多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)同時(shí)改變多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)與晶圓W在聚焦方向 的相對(duì)位置關(guān)系、 一邊以相對(duì)應(yīng)的多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)同時(shí)檢測(cè)晶圓W上 位置彼此不同的標(biāo)記的方法，即使對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)是異于上述配置的配置， 也有效。扼要言之，只要能以多個(gè)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)來(lái)大致同時(shí)檢測(cè)出形成于 晶圓W上的彼此互異的位置的標(biāo)記即可。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，可通過(guò)編碼器系統(tǒng)(包含測(cè)量值的短期穩(wěn) 定性良好的編碼器70A ~ 70D等)來(lái)在不受空氣搖晃等的影響的情況下 以高精度測(cè)量晶圓臺(tái)WTB在XY平面內(nèi)的位置信息，且能通過(guò)面位 置測(cè)量系統(tǒng)(包含Z傳感器72a ~ 72d， 7、 i ~ 742,6、以及76" , 一 762， 6 等)來(lái)在不受空氣搖晃等的影響的情況下以高精度測(cè)量晶圓臺(tái)WTB在 與XY平面正交的Z軸方向的位置信息。此時(shí)，由于上述編碼器系統(tǒng) 及上述面位置測(cè)量系統(tǒng)這兩者均可直接測(cè)量晶圓臺(tái)WTB的上面，因 此能簡(jiǎn)易且直接地控制晶圓臺(tái)WTB乃至晶圓W的位置。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，在進(jìn)行前述聚焦匹配時(shí)，通過(guò)主控制裝 置20使上述面位置測(cè)量系統(tǒng)與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，卯b)同時(shí)作動(dòng)，將多 點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的檢測(cè)結(jié)果換算成以面位置測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量結(jié)果 為基準(zhǔn)的數(shù)據(jù)。因此，通過(guò)預(yù)先取得此換算數(shù)據(jù)，在其后僅需通過(guò)面 位置測(cè)量系統(tǒng)測(cè)量晶圓臺(tái)WTB在Z軸方向的位置信息、以及相對(duì)XY 平面的傾斜方向的位置信息，即能在不取得晶圓W的面位置信息的情 況下控制晶圓W的面位置。因此，在本實(shí)施方式中，即使前端透鏡 191與晶圓W表面的作業(yè)距離較窄，也不會(huì)產(chǎn)生任何問(wèn)題，能以良好 精度執(zhí)行曝光時(shí)晶圓W的聚焦/調(diào)平控制。
在本實(shí)施方式中，從前述使用晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST的
并行處理動(dòng)作的說(shuō)明可知，在晶圓w從用以將晶圓w搬入晶圓載臺(tái)
WST的位置(裝載位置LP)移動(dòng)至用以對(duì)晶圓W進(jìn)行既定處理、例如 進(jìn)行曝光(圖案形成)的位置的過(guò)程中，主控制裝置20進(jìn)行面位置控制 系統(tǒng)與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)的同時(shí)作動(dòng)、以及上述數(shù)據(jù)的換算處理 (聚焦匹配)。
另外，資本實(shí)施方式中，在開(kāi)始對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)AL1， AL2i AL24對(duì)多 個(gè)待檢測(cè)標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作(例如前述晶圓對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作)直到結(jié)束該多個(gè)晶 圓的檢測(cè)動(dòng)作為止的過(guò)程中，主控制裝置20開(kāi)始上述面位置控制系統(tǒng) 與多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的同時(shí)作動(dòng)且開(kāi)始上述數(shù)據(jù)的換算處理。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，由于能如上述那樣以高精度控制晶圓臺(tái) WTB乃至晶圓W的面位置，因此能進(jìn)行幾乎不會(huì)產(chǎn)生因面位置控制 誤差所導(dǎo)致的膝光不良的高精度曝光，由此能在不產(chǎn)生圖像模糊的狀 態(tài)下將圖案像形成于晶圓W上。
另外，根據(jù)本實(shí)施方式，可通過(guò)主控制裝置20，例如在進(jìn)行曝光 前，以晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與另一側(cè)端部的面位置信息為基 準(zhǔn)，使用多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a， 90b)的檢測(cè)值(測(cè)量值)來(lái)測(cè)量晶圓W的面 位置信息，且在進(jìn)行曝光時(shí)，也能以晶圓臺(tái)WTB在X軸方向一側(cè)與 另一側(cè)端部的面位置信息為基準(zhǔn)，調(diào)整晶圓W在平行于投影光學(xué)系統(tǒng) PL的光軸AX的方向及在相對(duì)與光軸AX正交的面的傾斜方向的位 置。因此，不論在曝光前是否已測(cè)量晶圓W的面位置信息，在實(shí)際進(jìn) 行膝光時(shí)，也能以高精度進(jìn)行晶圓W的面位置控制。
此外，上述實(shí)施方式中所例示的情形，為用于測(cè)量Y軸方向位置 的一對(duì)Y標(biāo)尺39Yi， 39Y2、以及用于測(cè)量X軸方向位置的一對(duì)X標(biāo)尺 39Xi，39X2設(shè)于晶圓臺(tái)WTB上，與此對(duì)應(yīng)地， 一對(duì)讀頭單元62A， 62C 隔著投影光學(xué)系統(tǒng)PL配置于X軸方向一側(cè)與另一側(cè)，兩個(gè)讀頭單元 62B，62D隔著投影光學(xué)系統(tǒng)PL配置于Y軸方向一側(cè)與另 一側(cè)。然而 并不限于此，也可僅將Y軸方向位置測(cè)量用的Y標(biāo)尺39Y^39Y2及X 軸方向位置測(cè)量用的X標(biāo)尺39Xl5 39X2中的至少一方配置一個(gè)(并非 一對(duì))在晶圓臺(tái)WTB上，或者，也可將一對(duì)讀頭單元62A, 62C及兩
個(gè)讀頭單元62B，62D中的至少一方僅"i殳置一個(gè)。另外，標(biāo)尺的延設(shè)方 向及讀頭單元的延設(shè)方向，并不限定于上述實(shí)施方式的X軸方向、Y 軸方向那樣的正交方向，只要是彼此交叉的方向即可。
此外，在上述說(shuō)明中，雖說(shuō)明了在以晶圓載臺(tái)WST進(jìn)行晶圓更 換的期間，使用測(cè)量載臺(tái)MST的CD桿46來(lái)進(jìn)行Sec-BCHK(時(shí)距)， 但并不限于此，也可使用測(cè)量載臺(tái)MST的測(cè)量用構(gòu)件進(jìn)行照度不均 測(cè)量(及照度測(cè)量)、空間像測(cè)量、波面像差測(cè)量等的至少一個(gè)，并將 該測(cè)量結(jié)果反映于其后進(jìn)行的晶圓曝光。具體而言，例如能根據(jù)測(cè)量 結(jié)果，通過(guò)調(diào)整裝置68來(lái)進(jìn)行投影光學(xué)系統(tǒng)PL的調(diào)整。
另外，在上述實(shí)施方式中，雖說(shuō)明了在進(jìn)行用以取得標(biāo)尺的格子 間距修正信息的校正時(shí)，以能忽視千涉儀的測(cè)量值短期變行程度的低 速(極低速)來(lái)使晶圓臺(tái)WTB移動(dòng)，但并不限于此，也能以非極低速的 速度來(lái)使其移動(dòng)。此時(shí)，例如可在取得Y標(biāo)尺39Y!，39Y2的格子間距 修正信息等時(shí)，將晶圓臺(tái)設(shè)定于X軸方向的相異位置， 一邊以與上述 實(shí)施方式同樣的方式使晶圓臺(tái)分別在各自的位置移動(dòng)于Y軸方向，一 邊在該移動(dòng)中同時(shí)獲取編碼器70A， 70C的測(cè)量值與Y軸干涉儀16的 測(cè)量值、以及讀頭單元62A，62C的測(cè)量值，使用兩次的同時(shí)獲取動(dòng)作 所得的取樣值建立聯(lián)立方程式，再通過(guò)解此聯(lián)立方程式，來(lái)分別獨(dú)立 求出Y標(biāo)尺的格子間距的修正信息(例如修正圖)。
另外，在上述實(shí)施方式中，如圖IO(A)所示，雖以分光器等光學(xué) 元件來(lái)使來(lái)自光源的光分支，并使用具備用以反射分支后的光的兩片 反射鏡的衍射干涉方式編碼器來(lái)作為編碼器70A 70F，但并不限于 此，也能使用三格子的衍射干涉式編碼器，或例如日本特開(kāi)2005 -114406號(hào)公報(bào)等所公開(kāi)的具備光反射塊的編碼器等。另外，在上述實(shí) 施方式中，讀頭單元62A 62D雖具有以既定間隔配置的多個(gè)讀頭， 但并不限于此，也能采用單一讀頭，其具備用以將光束射出至細(xì)長(zhǎng)延 伸于Y標(biāo)尺或X標(biāo)尺的間距方向的區(qū)域的光源、以及接收來(lái)自光束的 Y標(biāo)尺或X標(biāo)尺(衍射格子)的反射光(衍射光)且在Y標(biāo)尺或X標(biāo)尺的 間距方向接收光束的排列成毫無(wú)間隙的多個(gè)受光元件。
另外，在上述實(shí)施方式中，也能以能使來(lái)自讀頭單元62A~62D 的檢測(cè)光透射的保護(hù)構(gòu)件(例如薄膜或玻璃板等)來(lái)覆蓋反射型衍射格 子，以防止衍射格子的損傷等。另外，在上述實(shí)施方式中雖將反射型 衍射格子設(shè)于與XY平面大致平行的晶圓載臺(tái)WST的上面，但也可 將反射型衍射格子設(shè)于例如晶圓載臺(tái)WST的下面。此時(shí)，讀頭單元 62A 62D配置于晶圓載臺(tái)WST的下面所對(duì)向的例如底座板。再者， 在上述實(shí)施方式中，雖使晶圓載臺(tái)WST在水平面內(nèi)移動(dòng)，但也可使 其在與水平面交叉的平面(例如ZX平面等)內(nèi)移動(dòng)。另外，當(dāng)標(biāo)線片載 臺(tái)RST二維移動(dòng)時(shí)，也可設(shè)置與前述編碼器系統(tǒng)相同構(gòu)成的編碼器系 統(tǒng)來(lái)測(cè)量標(biāo)線片載臺(tái)RST的位置信息。
此外，在上述實(shí)施方式中，干涉儀系統(tǒng)118雖能在五自由度的方
向(x軸、Y軸、ex、 ey、 ez方向)測(cè)量晶圓載臺(tái)wst的位置信息，但
也能使其能測(cè)量z軸方向的位置信息。此時(shí)，也可至少在進(jìn)行曝光動(dòng) 作時(shí)，使用前述編碼器系統(tǒng)的測(cè)量值與干涉儀系統(tǒng)118的測(cè)量值(至少 包含Z軸方向的位置信息)來(lái)進(jìn)行晶圓載臺(tái)WST的位置控制。此干涉 儀系統(tǒng)118，例如日本特開(kāi)2000 - 323404號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第7， 116， 401號(hào)說(shuō)明書(shū))、日本特表2001 - 513267號(hào)公才艮(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第 6， 208， 407號(hào)說(shuō)明書(shū))等所7>開(kāi)的那樣，將相對(duì)XY平面傾斜既定角度 (例如45度)的反射面設(shè)于晶圓載臺(tái)WST的側(cè)面，并通過(guò)該反射面將 測(cè)定光束照射于設(shè)于例如前述鏡筒固定座或測(cè)量框架等的反射面，由 此來(lái)測(cè)量晶圓載臺(tái)WST的Z軸方向的位置信息。此干涉儀系統(tǒng)118， 也能通過(guò)使用多個(gè)測(cè)定光束來(lái)測(cè)量除了 Z軸方向以外的0x方向及/ 或0y方向的位置信息。此時(shí)，也可不使用照射于晶圓載臺(tái)WST的移
動(dòng)鏡、用以測(cè)量ex方向及/或ey方向的位置信息的測(cè)定光束。
另外，在上述實(shí)施方式中，雖多個(gè)Z傳感器74i，j，76 p，q設(shè)于讀頭 單元62C，62A，但并不限于此，也可將與Z傳感器相同的面位置傳感 器設(shè)于例如測(cè)量框架等。另外，編碼器讀頭及Z傳感器各自與晶圓載 臺(tái)的上面的間隔，最好為投影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端透鏡191的間隔以 下，例如較窄。由此能提升測(cè)量精度。此時(shí)由于難以設(shè)置AF傳感器，
因此簡(jiǎn)易的z傳感器顯得有效。
另外，在上述實(shí)施方式中，噴嘴單元32的下面與投影光學(xué)系統(tǒng) PL的前端光學(xué)元件的下端面雖大致同一面高，但并不限于此，也能將 例如噴嘴單元32的下面配置成較前端光學(xué)元件的射出面更接近投影 光學(xué)系統(tǒng)PL的像面(即晶圓)附近。即，局部浸液裝置8并不限于上述 構(gòu)造，例如也能使用歐洲專利申請(qǐng)公開(kāi)第1420298號(hào)說(shuō)明書(shū)、國(guó)際公 開(kāi)第2004/055803號(hào)小冊(cè)子、國(guó)際公開(kāi)第2004 / 057590號(hào)小冊(cè)子、 國(guó)際公開(kāi)第2005 / 029559號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)第2006/ 0231206號(hào)說(shuō)明書(shū))、國(guó)際公開(kāi)第2004/086468號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國(guó)專 利申請(qǐng)公開(kāi)第2005/0280791號(hào)說(shuō)明書(shū))、日本特開(kāi)2004- 289126號(hào) 公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第6， 952， 253號(hào)說(shuō)明書(shū))等所記載的。另外，也可 采用如國(guó)際公開(kāi)第2004/019128號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利申請(qǐng)^Hf第 2005/0248856號(hào)說(shuō)明書(shū))所公開(kāi)者，除了前端光學(xué)元件的像面?zhèn)鹊墓?路以外，前端光學(xué)元件的物體面?zhèn)鹊墓饴房臻g也以液體充滿。再者， 也可在前端光學(xué)元件表面的一部分(至少包含與液體的接觸面)或全部 形成具有親液性及/或溶解防止功能的薄膜。此外，雖石英與液體的 親液性較高且亦不需溶解防止膜，但螢石最好至少形成溶解防止膜。
此外，在上述各實(shí)施方式中，雖使用純水(水)作為液體，但本發(fā) 明當(dāng)然并不限定于此。也可使用化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定、照明光IL的透射率高 的安全液體來(lái)作為液體，例如氟系惰性液體。作為此氟系惰性液體， 例如能使用氟洛黎納特(Fluorinert，美國(guó)3M公司的商品名稱)。此氟系 惰性液體也具優(yōu)異冷卻效果。另外，作為液體，也能使用對(duì)照明光IL 的折射率較純水(折射率1.44左右)高的，例如折射率為1.5以上的液 體。此種液體，例如有折射率約1.50的異丙醇、折射率約1.61的甘油 (glycerin)之類具有C - H鍵結(jié)合或O - H鍵結(jié)合的既定液體、己烷、 庚烷、癸烷等既定液體(有機(jī)溶劑)、或折射率約1.60的萘烷 (Decalin:Decahydronaphthalene)等?；蛘?，也可以是混合上述液體中 任意兩種以上的液體而成的，也可以是在純水添加(混合)上述液體的 至少一種而成的。或者，液體，也可以是在純水添加(混合)H+、 Cs+、
k+、 cr、 so,、 po,等堿基或酸而成的。再者，也可以是在純水添
加(混合)A1氧化物等微粒子而成的。上述液體能使ArF準(zhǔn)分子激光透 射。另外，作為液體，最好是光的吸收系數(shù)較小，溫度依存性較小， 并對(duì)涂布于投影光學(xué)系統(tǒng)(前端的光學(xué)構(gòu)件)及/或晶圓表面的感光 材(或保護(hù)膜(頂層涂布膜)或反射防止膜等)較穩(wěn)定的液體。另外，在以 F2激光為光源時(shí)，只要選擇全氟聚醚油(Fomblin Oil)即可。再者，作 為液體，也能使用對(duì)照明光IL的折射率較純水高的液體，例如折射率 為1.6~1.8左右的液體。也能使用超臨界流體來(lái)作為液體。另外，投 影光學(xué)系統(tǒng)PL的前端光學(xué)元件例如能以石英(二氧化硅)、氟化鈣(螢 石)、氟化鋇、氟化鍶、氟化鋰、氟化納等氟化化合物的單結(jié)晶材料形 成，或也可以由折射率較石英或螢石高(例如1.6以上)的材料來(lái)形成。 作為折射率1.6以上的材料，例如能使用國(guó)際公開(kāi)第2005/059617號(hào) 小冊(cè)子所公開(kāi)的藍(lán)寶石、二氧化鍺等、或者可使用如國(guó)際公開(kāi)第2005 / 059618號(hào)小冊(cè)子所公開(kāi)的氯化鉀(折射率約1.75)等。
另外，在上述實(shí)施方式中，也可將回收的液體再予以利用，此時(shí) 最好將過(guò)濾器(用以從回收的液體除去雜質(zhì))設(shè)于液體回收裝置或回收 管等。
另外，上述實(shí)施方式中，雖說(shuō)明了膝光裝置為浸液型膝光裝置的 情形，但并不限于此，也能采用在不通過(guò)液體(水)而使晶圓W曝光的 干燥型曝光裝置。
另外，在上述實(shí)施方式中，雖說(shuō)明了本發(fā)明適用于具備了晶圓載 臺(tái)WST(移動(dòng)體)、測(cè)量載臺(tái)MST(另一移動(dòng)體)、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(AL1、AL2廣 AL22)、多點(diǎn)AF系統(tǒng)(90a，90b)、 Z傳感器、干涉儀系統(tǒng)118、以及編 碼器系統(tǒng)(70A 70F)等全部的曝光裝置，但本發(fā)明并不限定于此。例 如本發(fā)明也能適用于未設(shè)置測(cè)量載臺(tái)MST等的曝光裝置。本發(fā)明， 只要是具備上述各構(gòu)成部分中的晶圓載臺(tái)(移動(dòng)體)與除此以外的 一部 分構(gòu)成部分，即能適用。舉一例而言，例如以標(biāo)記檢測(cè)系統(tǒng)為重點(diǎn)的 發(fā)明，只要至少具備晶圓載臺(tái)WST與對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的裝置，即能適用。 另外，干涉儀系統(tǒng)與編碼器系統(tǒng)當(dāng)然并不一定要兩者均設(shè)置。
另外，在上述實(shí)施方式中，雖說(shuō)明了空間像測(cè)量裝置45分離配置 于不同載臺(tái)，更具體而言分離配置于晶圓載臺(tái)WST與測(cè)量載臺(tái)MST， 但分離配置的傳感器并不限于空間像測(cè)量裝置，例如也可以是波面像 差測(cè)量器等。另外，不同載臺(tái)并不限于晶圓載臺(tái)與測(cè)量載臺(tái)的組合。
另外，在上述實(shí)施方式中，雖說(shuō)明了將本發(fā)明適用于步進(jìn)掃描方 式等的掃描型曝光裝置，但并不限于此，也能將本發(fā)明適用于步進(jìn)器 等靜止型曝光裝置。即使是步進(jìn)器等，也能通過(guò)編碼器來(lái)測(cè)量裝載有 曝光對(duì)象物體的載臺(tái)的位置，而能同樣地使因空氣搖晃所導(dǎo)致的位置 測(cè)量誤差的產(chǎn)生可能性幾乎為零。此時(shí)，可根據(jù)使用干涉儀的測(cè)量值 來(lái)修正編碼器的測(cè)量值短期變動(dòng)的修正信息、以及編碼器的測(cè)量值， 來(lái)以高精度定位載臺(tái)，其結(jié)果能將高精度的標(biāo)線片圖案轉(zhuǎn)印至物體上。 另外，本發(fā)明也適用于用以合成照射區(qū)域與照射區(qū)域的步進(jìn)接合方式 的縮小投影曝光裝置、近接方式的曝光裝置、或鏡面投影對(duì)準(zhǔn)曝光器 等。再者，本發(fā)明也能適用于例如日本特開(kāi)平10- 163099號(hào)公報(bào)、日 本特開(kāi)平10-214783號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第6，590，634號(hào)說(shuō)明書(shū))、 日本特表2000 - 505958號(hào)公報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第5,969,441號(hào)說(shuō)明書(shū))、 美國(guó)專利第6,208,407號(hào)說(shuō)明書(shū)等所公開(kāi)的，具備多個(gè)晶圓載臺(tái)的多載 臺(tái)型啄光裝置。
另外，上述實(shí)施方式的爆光裝置中的投影光學(xué)系統(tǒng)并不僅可為縮 小系統(tǒng)，也可為等倍系統(tǒng)及放大系統(tǒng)的任一者，投影光學(xué)系統(tǒng)PL不 僅可為折射系統(tǒng)，也可以是反射系統(tǒng)及反折射系統(tǒng)的任一者，其投影 像也可以是倒立像與正立像的任一者。再者，通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL 來(lái)照射照明光IL的曝光區(qū)域IA，雖是在投影光學(xué)系統(tǒng)PL的視野內(nèi) 包含光軸AX的軸上區(qū)域，但例如也可與如國(guó)際公開(kāi)第2004/ 107011 號(hào)小冊(cè)子所公開(kāi)的所謂在線型反折射系統(tǒng)同樣地，其曝光區(qū)域?yàn)椴缓?光軸AX的離軸區(qū)域，該在線型反折射系統(tǒng)具有多個(gè)反射面且將至少 形成 一 次中間像的光學(xué)系統(tǒng)(反射系統(tǒng)或反折射系統(tǒng))設(shè)于其 一 部分， 并具有單一光軸。另外，前述照明區(qū)域及曝光區(qū)域的形狀雖為矩形，
但并不限于此，也可以是例如圓弧、梯形、或平行四邊形等。
另外，上述實(shí)施方式的曝光裝置的光源，不限于ArF準(zhǔn)分子激光
光源，也能使用KrF準(zhǔn)分子激光光源(輸出波長(zhǎng)248nm)、 Fz激光(輸出
波長(zhǎng)157nm)、 Arz激光(輸出波長(zhǎng)126nm)、 Kr2激光(輸出波長(zhǎng)146nm)
等脈沖激光光源，或發(fā)出g線(波長(zhǎng)"6nm)、 i線(波長(zhǎng)MSnm)等亮線
的超高壓水銀燈等。另外，也可使用YAG激光的高次諧波產(chǎn)生裝置
等。另外，可使用例如國(guó)際公開(kāi)第1999/46835號(hào)小冊(cè)子(對(duì)應(yīng)美國(guó)專
利第7， 023， 610號(hào)說(shuō)明書(shū))所公開(kāi)的高次諧波，其以涂布有鉺(或鉺及
鐿兩者)的光纖放大器，將從DFB半導(dǎo)體激光或纖維激光射出的紅外
線區(qū)或可見(jiàn)區(qū)的單一波長(zhǎng)激光光放大來(lái)作為真空紫外光，并以非線形 光學(xué)結(jié)晶將其轉(zhuǎn)換波長(zhǎng)成紫外光。
另外，在上述實(shí)施方式中，作為啄光裝置的照明光IL，并不限于 波長(zhǎng)為100nm以上的光，也可使用波長(zhǎng)不足lOOnm的光。例如，近 年來(lái)，為了曝光70nm以下的圖案，已進(jìn)行了一種EUV(極遠(yuǎn)紫外線) 曝光裝置的開(kāi)發(fā)，其以SOR或等離子激光為光源來(lái)產(chǎn)生軟X線區(qū)域 (例如5~15nm的波長(zhǎng)域)的EUV光，且使用根據(jù)其曝光波長(zhǎng)(例如 13.5nm)所設(shè)計(jì)的全反射縮小光學(xué)系統(tǒng)及反射型掩模。此裝置由于使用 圓弧照明同步掃描掩模與晶圓來(lái)進(jìn)行掃瞄曝光的構(gòu)成，因此能將本發(fā) 明非常合適地適用于上述裝置。此外，本發(fā)明也適用于使用電子射線 或離子束等的帶電粒子射線的曝光裝置。
另外，在上述實(shí)施方式中，雖使用在光透射性的基板上形成既定 遮光圖案(或相位圖案/減光圖案)的光透射性掩模(標(biāo)線片)，但也可使 用例如美國(guó)專利第6，778，257號(hào)說(shuō)明書(shū)所公開(kāi)的電子掩模來(lái)代替此掩 模，該電子掩模(亦稱為可變成形掩模、主動(dòng)掩模、或圖像產(chǎn)生器，例 如包含非發(fā)光型圖像顯示元件(空間光調(diào)變器)的一種的DMD(Digital Micro-mirror Device)等)根據(jù)欲曝光圖案的電子數(shù)據(jù)來(lái)形成透射圖 案、反射圖案、或發(fā)光圖案。
另夕卜，本發(fā)明也能適用于，例如國(guó)際z〉開(kāi)第2001/035168號(hào)小冊(cè) 子所公開(kāi)的，通過(guò)將干涉紋形成于晶圓上、而在晶圓上形成等間隔線 圖案的曝光裝置(光刻系統(tǒng))。
進(jìn)而，例如也能將本發(fā)明適用于例如日本特表2004 - 519850號(hào)/> 報(bào)(對(duì)應(yīng)美國(guó)專利第6,611,316號(hào)說(shuō)明書(shū))所公開(kāi)的曝光裝置，其將兩個(gè) 標(biāo)線片圖案通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)在晶圓上合成，通過(guò)一次的掃描膝光來(lái) 對(duì)晶圓上的一個(gè)照射區(qū)域大致同時(shí)進(jìn)行雙重曝光。
另外，在物體上形成圖案的裝置并不限于前述膝光裝置(光刻系 統(tǒng))，例如也能將本發(fā)明適用于以噴墨式來(lái)將圖案形成于物體上的裝 置。
此外，上述實(shí)施方式中待形成圖案的物體(能量束所照射的曝光對(duì) 象的物體)并不限于晶圓，也可以是玻璃板、陶瓷基板、膜構(gòu)件、或者 掩?；宓绕渌矬w。
膝光裝置用途并不限定于半導(dǎo)體制造用的曝光裝置，也可廣泛適 用于例如用來(lái)制造將液晶顯示元件圖案轉(zhuǎn)印于方型玻璃板的液晶用曝 光裝置，或制造有機(jī)EL、薄膜磁頭、攝影元件(CCD等)、微型機(jī)器 及DNA芯片等的曝光裝置。另外，除了制造半導(dǎo)體元件等微型組件 以外，為了制造用于光曝光裝置、EUV曝光裝置、X射線曝光裝置及 電子射線曝光裝置等的標(biāo)線片或掩模，也能將本發(fā)明適用于用以將電 路圖案轉(zhuǎn)印至玻璃基板或硅晶圓等的曝光裝置。
此外，本發(fā)明的移動(dòng)控制裝置、移動(dòng)控制方法，并不限定于曝光 裝置，也可廣泛適用于其它的基板處理裝置(例如激光修理裝置、基板 檢查裝置等其它)，或其它精密機(jī)械中的試料定位裝置、打線裝置等具 備在二維面內(nèi)移動(dòng)的載臺(tái)等移動(dòng)體的裝置。
另外，上述實(shí)施方式的爆光裝置EX(圖案形成裝置)，通過(guò)組裝各 種子系統(tǒng)(包含本申請(qǐng)權(quán)利要求書(shū)中所列舉的各構(gòu)成要素)，以能保持 既定的機(jī)械精度、電氣精度、光學(xué)精度的方式所制造。為確保這些各 種精度，在組裝前后，進(jìn)行對(duì)各種光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)到光學(xué)精度的 調(diào)整、對(duì)各種機(jī)械系統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)到機(jī)械精度的調(diào)整、對(duì)各種電氣系 統(tǒng)進(jìn)行用以達(dá)到電氣精度的調(diào)整。從各種子系統(tǒng)至曝光裝置的組裝工 序，包含各種子系統(tǒng)相互的機(jī)械連接、電路的配線連接、氣壓回路的 配管連接等。當(dāng)然，從各種子系統(tǒng)至曝光裝置的組裝工序前，有各子
系統(tǒng)個(gè)別的組裝工序。當(dāng)各種子系統(tǒng)至曝光裝置的組裝工序結(jié)束后， 即進(jìn)行綜合調(diào)整，以確保曝光裝置全體的各種精度。此外，曝光裝置 的制造最好是在溫度及清潔度等皆受到管理的潔凈室進(jìn)行。
此外，援用上述實(shí)施方式所引用的爆光裝置等相關(guān)的所有公報(bào)、 國(guó)際公開(kāi)小冊(cè)子、美國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)說(shuō)明書(shū)及美國(guó)專利說(shuō)明書(shū)的公開(kāi)， 作為本說(shuō)明書(shū)記載的一部分。
接著，說(shuō)明在光刻工序使用上述曝光裝置(圖案形成裝置)的組件 制造方法的實(shí)施方式。
圖37表示組件(IC或LSI等半導(dǎo)體芯片、液晶面板、CCD、薄膜 磁頭、微型機(jī)器等)的制造例流程圖。如圖3 7所示，首先，在步驟2 01 (設(shè) 計(jì)步驟)中，進(jìn)行組件的功能/性能設(shè)計(jì)(例如半導(dǎo)體元件的電路設(shè)計(jì) 等)，并進(jìn)行用以實(shí)現(xiàn)其功能的圖案設(shè)計(jì)。接著，在步驟202(掩模制作 步驟)中，制作形成有所設(shè)計(jì)電路圖案的掩模。另 一方面，在步驟203(晶 圓制造步驟)中，使用硅等材料來(lái)制造晶圓。
其次，在步驟204(晶圓處理步驟)中，使用在步驟201 步驟2(B 所準(zhǔn)備的掩模及晶圓，如后述那樣，通過(guò)光刻技術(shù)等將實(shí)際電路等形 成于晶圓上。其次，在步驟205(組件組裝步驟)中，使用在步驟204所 處理的晶圓進(jìn)行組件組裝。在此步驟205中，視需要而包含切割工序、 接合工序及封裝工序(芯片封入)等工序。
最后，在步驟206(檢查步驟)中，進(jìn)行在步驟205制成的組件的動(dòng) 作確認(rèn)測(cè)試、耐久測(cè)試等檢查。在經(jīng)過(guò)這些步驟后組件即告完成，并 將其出貨。
圖38表示半導(dǎo)體元件中該步驟204的詳細(xì)流程例。在圖38中， 步驟211(氧化步驟)，使晶圓表面氧化。步驟212(CVD步驟)，在晶圓 表面形成絕緣膜。步驟213(電極形成步驟)，通過(guò)蒸鍍將電極形成于晶 圓上。步驟214(離子植入步驟)，將離子植入晶圓。以上步驟211~步 驟214的各步驟，構(gòu)成晶圓處理的各階段的前處理工序，并視各階段 所需處理加以選擇并執(zhí)行。
晶圓處理的各階段中，當(dāng)結(jié)束上述前處理工序時(shí)，即如以下進(jìn)行
后處理工序。在該后處理工序中，首先，步驟215(光阻形成步驟)，將 感光劑涂布于晶圓。接著，在步驟216(曝光步驟)中，使用以上說(shuō)明的 爆光裝置(圖案形成裝置)及曝光方法(圖案形成方法)將掩模的電路圖 案轉(zhuǎn)印于晶圓。其次，在步驟217(顯影步驟)中，使曝光的晶圓顯影， 在步驟218(蝕刻步驟)中，通過(guò)蝕刻除去光阻殘存部分以外部分的露出 構(gòu)件。接著，在步驟219(光阻除去步驟)中，除去結(jié)束蝕刻后不需要的 光阻。
通過(guò)反復(fù)進(jìn)行這些前處理工序及后處理工序而在晶圓上形成多重 電路圖案。
由于若使用以上說(shuō)明的本實(shí)施方式的組件制造方法，則在曝光工 序(步驟216)中使用上述實(shí)施方式的曝光裝置(圖案形成裝置)及曝光方 法(圖案形成方法)，因此可一邊維持高重疊精度， 一邊進(jìn)行高產(chǎn)能的 曝光。據(jù)此，能提升形成有微細(xì)圖案的高集成度的微型組件的生產(chǎn)率。
如上所述，本發(fā)明的圖案形成裝置及圖案形成方法、曝光裝置及 曝光方法、以及組件制造方法，適于制造半導(dǎo)體元件及液晶顯示組件 等的電子組件等。另外，本發(fā)明的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法， 適于驅(qū)動(dòng)在二維面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體。
權(quán)利要求
1. 一種圖案形成裝置，通過(guò)能量束經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)將圖案形成于物體上，其特征在于，具備:第1移動(dòng)體，保持該物體而在包含第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)；第2移動(dòng)體，在該平面內(nèi)、獨(dú)立于該第1移動(dòng)體移動(dòng)；以及空間像測(cè)量裝置，其一部分設(shè)于該第1移動(dòng)體且剩余的一部分設(shè)于該第2移動(dòng)體，用以測(cè)量經(jīng)由該光學(xué)系統(tǒng)形成的標(biāo)記的空間像。
2. 如權(quán)利要求1所述的圖案形成裝置，其中，該空間像測(cè)量裝置， 在該第1移動(dòng)體與該第2移動(dòng)體接近的第1狀態(tài)、以及該第1移動(dòng)體 與該第2移動(dòng)體接觸的第2狀態(tài)中的至少一個(gè)狀態(tài)下進(jìn)行該測(cè)量。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的圖案形成裝置，其中，該空間像測(cè)量 裝置，具有設(shè)于該第l移動(dòng)體的測(cè)量用圖案及光學(xué)構(gòu)件、以及設(shè)于該 第2移動(dòng)體的受光系統(tǒng)，經(jīng)由該測(cè)量用圖案及該光學(xué)系統(tǒng)以該受光系 統(tǒng)檢測(cè)該空間像。
4. 如權(quán)利要求3所述的圖案形成裝置，其中，該第1移動(dòng)體，設(shè) 有各一對(duì)該測(cè)量用圖案及該光學(xué)系統(tǒng)；該第2移動(dòng)體，設(shè)有與該一對(duì)測(cè)量用圖案及光學(xué)系統(tǒng)對(duì)應(yīng)的一對(duì) 受光系統(tǒng)。
5. 如權(quán)利要求4所述的圖案形成裝置，其中，該第1移動(dòng)體，系 以與該一對(duì)測(cè)量用圖案的既定位置關(guān)系設(shè)有基準(zhǔn)標(biāo)記。
6. 如權(quán)利要求5所述的圖案形成裝置，其中，該一對(duì)測(cè)量用圖案， 在平行于該第2軸的方向分離配置于該第1移動(dòng)體的一面，該基準(zhǔn)標(biāo) 記，配置于該一對(duì)測(cè)量用圖案之間且在該第l移動(dòng)體的一面中與該第 l軸平行的中心軸上。
7. 如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其進(jìn)一步具 備用以測(cè)量該第1移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息的位置測(cè)量系統(tǒng)。
8. 如權(quán)利要求7所述的圖案形成裝置，其中，該位置測(cè)量系統(tǒng)， 包含第1光柵，具有以平行于該第1軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡樱?配置于該第l移動(dòng)體上；笫2光柵，具有以平行于該第2軸的方向?yàn)?周期方向的格子，配置于該第l移動(dòng)體上；第1軸編碼器，具有在平 行于該第2軸的方向位置相異的多個(gè)第l讀頭，通過(guò)與該第l光柵對(duì) 向的第l讀頭來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體在平行于該第l軸的方向的位置信 息；以及第2軸編碼器，具有在平行于該第1軸的方向位置相異的多 個(gè)第2讀頭，通過(guò)與該第2光柵對(duì)向的第2讀頭來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體 在平行于該第2軸的方向的位置信息。
9. 如權(quán)利要求8所述的圖案形成裝置，其中，該第l光柵與該第2 光柵的至少一方，在該第l移動(dòng)體上、在與該格子周期方向交叉的方 向相距既定間隔配置有一對(duì)。
10. 如權(quán)利要求8或9所述的圖案形成裝置，其中，該多個(gè)第l讀 頭以該光學(xué)系統(tǒng)為中心配置成對(duì)稱，該多個(gè)第2讀頭以該光學(xué)系統(tǒng)為 中心配置成對(duì)稱。
11. 如權(quán)利要求8至10中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其進(jìn)一步 具備控制裝置，其隨著該第1移動(dòng)體往該第1軸方向的移動(dòng)，而在該 多個(gè)第2讀頭間進(jìn)行測(cè)量值的接續(xù)，且隨著該第l移動(dòng)體往該第2軸 方向的移動(dòng)，而在該多個(gè)第l讀頭間進(jìn)行測(cè)量值的接續(xù)。
12. 如權(quán)利要求8至11中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其中，該 多個(gè)第l讀頭，通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)的中心且配置于與該第2軸平行的軸 上；該多個(gè)第2讀頭，通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)的中心且配置于與該第1軸平 行的軸上。
13. 如權(quán)利要求12所述的圖案形成裝置，其中，該多個(gè)第l讀頭 中位于最內(nèi)側(cè)的第1讀頭、以及該多個(gè)第2讀頭中位于最內(nèi)側(cè)的第2 讀頭的至少一方，固定于該光學(xué)系統(tǒng)。
14. 如權(quán)利要求8至13中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其中，該 第1光柵及該第2光柵的全部，均直接形成于該第l移動(dòng)體的上面。
15. 如權(quán)利要求8至14中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其中，該 第2移動(dòng)體具備基準(zhǔn)構(gòu)件，該基準(zhǔn)構(gòu)件形成有一對(duì)供從該多個(gè)第l讀 頭中的兩個(gè)第l讀頭照射檢測(cè)光的基準(zhǔn)格子； 該基準(zhǔn)構(gòu)件，動(dòng)態(tài)支撐于該第2移動(dòng)體。
16. 如權(quán)利要求1至15中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其進(jìn)一步 具備浸液裝置，該浸液裝置，在該第l及第2移動(dòng)體的至少一方對(duì)向 于該光學(xué)系統(tǒng)時(shí)，將液體供應(yīng)至該光學(xué)系統(tǒng)與對(duì)向于該光學(xué)系統(tǒng)的該 至少 一 方移動(dòng)體之間以形成浸液區(qū)域。
17. 如權(quán)利要求16所述的圖案形成裝置，其中，該第1軸與該第2 軸彼此正交；該浸液裝置，具有相對(duì)平行于該第1軸的軸配置成對(duì)稱的液體供 應(yīng)配管、以及液體回收配管，且兩配管分別延伸于與該對(duì)稱軸以45° 交叉的方向。
18. 如權(quán)利要求16或17所述的圖案形成裝置，其中，在該第l移 動(dòng)體上面，形成有該物體的裝栽區(qū)域附近的第1憎液區(qū)域，以及配置 于該第l憎液區(qū)域的周圍、對(duì)該能量束的耐性較該第l憎液區(qū)域差的 第2憎液區(qū)域。
19. 如權(quán)利要求18所述的圖案形成裝置，其進(jìn)一步具備憎液板， 設(shè)于該第1移動(dòng)體上面的該物體裝載區(qū)域周圍，在該憎液板上面形成 有該第1憎液區(qū)域與該第2憎液區(qū)域。
20. 如權(quán)利要求19所述的圖案形成裝置，其中，在該憎液板上面 形成有該第1光柵及該第2光柵的全部。
21. 如權(quán)利要求1至20中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其具備 制動(dòng)器機(jī)構(gòu)，具有設(shè)于該第l移動(dòng)體與第2移動(dòng)體的一方、用以緩和 來(lái)自一軸方向的沖擊的緩沖裝置，以及能與該緩沖v裝置接觸且形成于 該另一移動(dòng)體、用以開(kāi)關(guān)該緩沖裝置前端部的至少一部分可進(jìn)入的開(kāi) 口的開(kāi)閉器；可在該開(kāi)閉器關(guān)閉時(shí)，阻止該兩個(gè)移動(dòng)體彼此較既定距 離接近；以及用以驅(qū)動(dòng)該開(kāi)閉器的驅(qū)動(dòng)裝置；在至少一方的移動(dòng)體往該第1移動(dòng)體與該第2移動(dòng)體接近的方向 移動(dòng)中，該驅(qū)動(dòng)裝置開(kāi)始開(kāi)啟該開(kāi)閉器的動(dòng)作。
22. 如權(quán)利要求21所述的圖案形成裝置，其中，該驅(qū)動(dòng)裝置，在 依序?qū)ξ矬w上的相異區(qū)域進(jìn)行膝光時(shí)，在最終區(qū)域被曝光前開(kāi)始開(kāi)啟 該開(kāi)閉器的動(dòng)作。
23. 如權(quán)利要求1至22中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其中，在 該第2移動(dòng)體，多種傳感器配置于通過(guò)其中心的該第1移動(dòng)體與笫2 移動(dòng)體彼此接近或離開(kāi)的方向的直線上。
24. —種圖案形成裝置，將圖案形成于物體上，其特征在于，具備 第i移動(dòng)體，保持該物體而在包含第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的平面內(nèi)移動(dòng)；第2移動(dòng)體，在該平面內(nèi)、獨(dú)立于該第l移動(dòng)體移動(dòng)； 第1測(cè)量系統(tǒng)，用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息；以及 第2測(cè)量系統(tǒng)，用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息，且測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第1測(cè)量系統(tǒng)優(yōu)異。
25. 如權(quán)利要求24所述的圖案形成裝置，其中，在該第l移動(dòng)體 上設(shè)有第1光柵與第2光柵，該第1光柵具有以與該第1軸平行的方 向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，該?光柵具有以與該第2軸平行的方向?yàn)橹?期方向的格子；該第2測(cè)量系統(tǒng)包含編碼器系統(tǒng)，該編碼器系統(tǒng)具有第l軸編 碼器，具有在平行于該第2軸的方向位置相異的多個(gè)第l讀頭，通過(guò) 與該第1光柵對(duì)向的第1讀頭來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體在平行于該第1軸 的方向的位置信息；以及第2軸編碼器，具有在平行于該第l軸的方 向位置相異的多個(gè)第2讀頭，通過(guò)與該第2光柵對(duì)向的第2讀頭來(lái)測(cè) 量該第l移動(dòng)體在平行于該第2軸的方向的位置信息。
26. 如權(quán)利要求25所述的圖案形成裝置，其中，在該第l移動(dòng)體 中，該第l光柵在與該第2軸平行的方向相距既定間隔配置有一對(duì)， 且該第2光柵在與該第1軸平行的方向相距既定間隔配置有一對(duì)；該編碼器系統(tǒng)，根據(jù)分別對(duì)向于該一對(duì)第l光柵的該多個(gè)第l讀 頭的兩個(gè)及分別對(duì)向于該一對(duì)第2光柵的該多個(gè)第2讀頭的兩個(gè)中、 至少三個(gè)讀頭的測(cè)量值，來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體在平行于該第1軸的方向與平行于該第2軸的方向的位置信息、以及該平面內(nèi)的旋轉(zhuǎn)信息。
27. 如權(quán)利要求24至26中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置，其中，該 第2測(cè)量系統(tǒng)包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息的千 涉儀系統(tǒng)。
28. 如權(quán)利要求26所述的圖案形成裝置，其進(jìn)一步具備用以將能 量束照射于該物體上的光學(xué)系統(tǒng)；該多個(gè)第l讀頭，配置于通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)的中心且與該第2軸平 行的軸上；該多個(gè)第2讀頭，配置于通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)的中心且與該第1軸平 行的軸上。
29. 如權(quán)利要求28所述的圖案形成裝置，其中，該多個(gè)第l讀頭 中位于最內(nèi)側(cè)的第1讀頭固定于該光學(xué)系統(tǒng)，該多個(gè)第2讀頭中位于 最內(nèi)側(cè)的第2讀頭固定于該光學(xué)系統(tǒng)。
30. 如權(quán)利要求28或29所述的圖案形成裝置，其中，該笫2測(cè)量 系統(tǒng)包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息的干涉儀系 統(tǒng)。
31. 如權(quán)利要求30所述的圖案形成裝置，其進(jìn)一步具備測(cè)量控制 裝置，該測(cè)量控制裝置在進(jìn)行將該圖案形成于該物體的動(dòng)作時(shí)，使用 該編碼器系統(tǒng)測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息，在進(jìn)行裝載于該第1移 動(dòng)體上的該物體的交換動(dòng)作時(shí)，則使用該干涉儀系統(tǒng)測(cè)量該笫l移動(dòng) 體的位置信息。
32. —種圖案形成裝置，照射能量束以在物體上形成圖案，其特征 在于，具備第i移動(dòng)體，保持該物體而在包含第1軸及與該第1軸交叉的第 2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)，且設(shè)有第1光柵及第2光柵，該第l光柵具 有以與該第1軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，該?光柵具有以與 該第2軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?；?移動(dòng)體，在該平面內(nèi)、獨(dú)立于該第l移動(dòng)體移動(dòng)； 第l測(cè)量系統(tǒng)，用以測(cè)量該第2移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息；以及第2測(cè)量系統(tǒng)，包含編碼器系統(tǒng)，該編碼器系統(tǒng)具有分別與該第 1、第2光柵對(duì)向配置的多個(gè)讀頭，用以測(cè)量該第l移動(dòng)體在該平面內(nèi) 的位置信息。
33. 如權(quán)利要求32所述的圖案形成裝置，其中，該笫2測(cè)量系統(tǒng) 包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息的干涉儀系統(tǒng)。
34. 如權(quán)利要求33所述的圖案形成裝置，其具有用以將該能量束 照射于該物體上的光學(xué)系統(tǒng)；在進(jìn)行通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)將該圖案形成于該物體的動(dòng)作時(shí)，使用該 編碼器系統(tǒng)測(cè)量該第l移動(dòng)體的位置信息，在進(jìn)行裝載于該第l移動(dòng) 體上的該物體的交換動(dòng)作時(shí)，則使用該干涉儀系統(tǒng)測(cè)量該第l移動(dòng)體 的位置信息。
35. 如權(quán)利要求31或34所述的圖案形成裝置，其中，在該交換動(dòng) 作時(shí)，該第l移動(dòng)體在平行于該第l軸及第2軸其中一軸的方向的位 置信息使用該干涉儀系統(tǒng)來(lái)測(cè)量，且在平行于另一軸的方向的位置信 息使用該編碼器系統(tǒng)來(lái)測(cè)量。
36. 如權(quán)利要求8至15、 25、 26中任一項(xiàng)所述的圖案形成裝置， 其中，該多個(gè)第l讀頭，在平行于該第2軸的方向以較該第l光柵的 寬度小的間隔配置；該多個(gè)第2讀頭，在平行于該第l軸的方向以較該第2光柵的寬 度小的間隔配置。
37. —種圖案形成裝置，將圖案形成于物體上，其特征在于，具備: 移動(dòng)體，裝載有該物體，并保持該物體而在包含第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)；第1光柵，具有以與該第1軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，?置于該移動(dòng)體上；第2光柵，具有以與該第2軸平行的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，?置于該移動(dòng)體上； 第1軸編碼器，具有在平行于該第2軸的方向位置相異的多個(gè)第 1讀頭，通過(guò)與該第1光柵對(duì)向的第1讀頭來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在平行于 該第1軸的方向的位置信息；以及第2軸編碼器，具有在平行于該第l軸的方向位置相異的多個(gè)第 2讀頭，通過(guò)與該第2光柵對(duì)向的第2讀頭來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在平行于 該第2軸的方向的位置信息；該多個(gè)第l讀頭，在平行于該第2軸的方向以較該第1光柵的寬 度小的間隔配置；該多個(gè)第2讀頭，在平行于該第l軸的方向以較該第2光柵的寬 度小的間隔配置。
38. —種曝光裝置，通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)以能量束使物體膝光，其特征在 于，具備可在既定平面內(nèi)獨(dú)立可動(dòng)的第l及笫2移動(dòng)體；以及 在該第1及第2移動(dòng)體分別設(shè)有第1及第2構(gòu)件、通過(guò)該第1及 第2構(gòu)件來(lái)檢測(cè)該能量束的檢測(cè)裝置。
39. 如權(quán)利要求38所述的曝光裝置，其中，在進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)，該 第1移動(dòng)體與該光學(xué)系統(tǒng)對(duì)向配置，來(lái)自該光學(xué)系統(tǒng)的能量束通過(guò)該 第i移動(dòng)體的第i構(gòu)件被導(dǎo)至該第2移動(dòng)體的第2構(gòu)件。
40. 如權(quán)利要求38或39所述的曝光裝置，其中，該第1及第2移 動(dòng)體中的該第l移動(dòng)體能保持該物體。
41. 如權(quán)利要求40所述的曝光裝置，其中，該第2移動(dòng)體，具有 與該第2構(gòu)件不同、用在與該曝光不同的動(dòng)作的測(cè)量構(gòu)件。
42. 如權(quán)利要求41所述的啄光裝置，其中，該測(cè)量構(gòu)件的至少一 部分設(shè)于與該平面大致平行的該第2移動(dòng)體的一面。
43. 如權(quán)利要求38至42中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第1 構(gòu)件的一部分設(shè)于與該平面大致平行的該第l移動(dòng)體的一面。
44. 如權(quán)利要求38至43中任一項(xiàng)所述的膝光裝置，其中，該檢測(cè) 裝置用以測(cè)量通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)而形成的圖案像。
45. 如權(quán)利要求44所述的啄光裝置，其中，該第l構(gòu)件包含與該 光學(xué)系統(tǒng)對(duì)向配置的開(kāi)口圖案，該檢測(cè)裝置通過(guò)該開(kāi)口圖案測(cè)量該圖 案像。
46. 如權(quán)利要求38至45中任一項(xiàng)所述的爆光裝置，其進(jìn)一步具備 測(cè)量系統(tǒng)，該測(cè)量系統(tǒng)包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息的第1 測(cè)量裝置與用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息的笫2測(cè)量裝置，且該 第1測(cè)量裝置的測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第2測(cè)量裝置優(yōu)異。
47. —種曝光裝置，以能量束使物體膝光，其特征在于，具備 第1移動(dòng)體，可保持該物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)； 第2移動(dòng)體，可在該平面內(nèi)、獨(dú)立于該第l移動(dòng)體移動(dòng)；以及 測(cè)量系統(tǒng)，包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息的第1測(cè)量裝置與用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息的第2測(cè)量裝置，且該第l測(cè) 量裝置的測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第2測(cè)量裝置優(yōu)異。
48. 如權(quán)利要求38至47中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第1 移動(dòng)體，在該平面內(nèi)保持該物體移動(dòng)于第1及第2方向，且設(shè)有在該 第1方向周期排列有格子的第1格子部；該第1測(cè)量裝置，以第1讀頭單元測(cè)量該第1移動(dòng)體在該第1方 向的位置信息，該第1讀頭單元具有在該第2方向較該第1格子部寬 度大的檢測(cè)范圍。
49. 如權(quán)利要求48所述的膝光裝置，其中，該第l格子部在該第2方向夾著該物體設(shè)置有一對(duì)；該笫l讀頭單元，在該第2方向、在該能量束的照射位置兩側(cè)分 別具有該檢測(cè)范圍。
50. 如權(quán)利要求49所述的曝光裝置，其中，該第l讀頭單元的該 檢測(cè)范圍，在該第2方向與該第1光柵部的寬度分離相同程度以上。
51. 如權(quán)利要求48至50中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第1 讀頭單元，具有在該第2方向位置相異的多個(gè)第l讀頭，該編碼器系 統(tǒng)，在該檢測(cè)范圍內(nèi)通過(guò)與該第l格子部對(duì)向的第l讀頭來(lái)測(cè)量該第 1移動(dòng)體在該第1方向的位置信息。
52. 如權(quán)利要求51所述的曝光裝置，其中，該多個(gè)第l讀頭，在 該第2方向以較該第l格子部的寬度小的間隔配置。
53. 如權(quán)利要求48至52中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第1 移動(dòng)體設(shè)有在該第2方向周期排列有格子的第2格子部；該編碼器系統(tǒng)，以第2讀頭單元測(cè)量該第1移動(dòng)體在該第2方向 的位置信息，該第2讀頭單元具有在該第l方向較該第2格子部寬度 大的檢測(cè)范圍。
54. 如權(quán)利要求53所述的曝光裝置，其中，該第2格子部在該第1 方向夾著該物體設(shè)置有一對(duì)；該第2讀頭單元，在該第1方向、在該能量束的照射位置兩側(cè)分 別具有該檢測(cè)范圍。
55. 如權(quán)利要求53或54所述的曝光裝置，其中，該第2讀頭單元， 具有在該第1方向位置相異的多個(gè)第2讀頭，該編碼器系統(tǒng)，在該檢 測(cè)范圍內(nèi)通過(guò)與該第2格子部對(duì)向的第2讀頭來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體在 該第2方向的位置信息。
56. 如權(quán)利要求48至55中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，通過(guò)該 編碼器系統(tǒng)測(cè)量的位置信息，至少使用在該物體的膝光動(dòng)作。
57. 如權(quán)利要求48至56中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，通過(guò)該 編碼器系統(tǒng)測(cè)量的位置信息，至少使用在該物體的標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng)作。
58. 如權(quán)利要求38至46中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第1 移動(dòng)體，在該平面內(nèi)保持該物體移動(dòng)于第1及第2方向，且在該第2方向夾著該物體設(shè)有分別在該第1方向周期排列有格子的一對(duì)第1格 子部，并在該第1方向夾著該物體設(shè)有分別在該第2方向周期排列有 格子的一對(duì)第2格子部；通過(guò)在該第2方向位置相異、且與該一對(duì)第1格子部相異的兩個(gè) 為對(duì)向的多個(gè)第l讀頭，來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體在該第l方向的位置信 息，并通過(guò)在該第1方向位置相異、且與該一對(duì)第2格子部相異的兩 個(gè)為對(duì)向的多個(gè)第2讀頭，來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體在該第2方向的位置 信息。
59. 如權(quán)利要求58所述的膝光裝置，其中，該多個(gè)笫l讀頭在該 第2方向以較該第l格子部的寬度小的間隔配置，該多個(gè)第2讀頭在 該第1方向以較該第2格子部的寬度小的間隔配置。
60. 如權(quán)利要求48至59中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第2 測(cè)量裝置包含用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息的干涉儀。
61. 如權(quán)利要求48至60中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第1 測(cè)量裝置包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息的干涉儀系統(tǒng)，該千 涉儀系統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)體的位置信息的測(cè)量方向，包含與該編碼器系 統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)體的位置信息的測(cè)量方向相異的方向。
62. 如權(quán)利要求61所述的曝光裝置，其中，該干涉儀系統(tǒng)在與該 平面內(nèi)的方向相異的方向測(cè)量該笫l移動(dòng)體的位置信息。
63. 如權(quán)利要求61或62所述的曝光裝置，其中，該干涉儀系統(tǒng)，在該編碼器系統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)的位置信息的至少一個(gè)測(cè)量方向測(cè)量 該第1移動(dòng)體的位置信息。
64. 如權(quán)利要求61至63中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其中，該第2 測(cè)量裝置包含用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息的干涉儀系統(tǒng)，進(jìn)一步具備用以根據(jù)該第i測(cè)量裝置的測(cè)量信息來(lái)控制該第1移動(dòng)體的移動(dòng)的控制裝置，該第1測(cè)量裝置的測(cè)量信息包含通過(guò)該干涉 儀系統(tǒng)來(lái)測(cè)量的位置信息。
65. 如權(quán)利要求64所述的啄光裝置，其中，該測(cè)量信息，包含在 該編碼器系統(tǒng)對(duì)該第l移動(dòng)體位置信息的測(cè)量方向的相異方向、該干 涉儀系統(tǒng)測(cè)量的該第l移動(dòng)體的位置信息。
66. 如權(quán)利要求38至65中任一項(xiàng)所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備 與該物體對(duì)向配置、用以射出該能量束的光學(xué)構(gòu)件；以及將液體充滿該光學(xué)構(gòu)件與該物體之間以形成浸液區(qū)域的浸液系統(tǒng)；該浸液區(qū)域，維持于通過(guò)與該第1移動(dòng)體的交換而與該光學(xué)對(duì)向 配置的該第2移動(dòng)體之間。
67. —種曝光裝置，以能量束使物體曝光，其特征在于，具備 第1移動(dòng)體，可保持該物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)于第1及第2方 向，設(shè)有將格子周期排列于該第1方向的第l格子部、以及將格子周期排列于該第2方向的第2格子部；笫2移動(dòng)體，可在該平面內(nèi)、獨(dú)立于該第l移動(dòng)體移動(dòng)；以及 測(cè)量系統(tǒng)，具有包含編碼器系統(tǒng)的第1測(cè)量裝置，該編碼器系統(tǒng)系通過(guò)與該第l及第2格子部相異的兩個(gè)對(duì)向的多個(gè)讀頭來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息；以及包含干涉儀的第2測(cè)量裝置，該干涉儀測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息。
68. 如權(quán)利要求67所述的曝光裝置，其進(jìn)一步具備修正裝置，用 以修正因該第l及第2格子部的至少一者產(chǎn)生的該編碼器系統(tǒng)的測(cè)量 誤差。
69. —種組件制造方法，其特征在于，包含如下步驟 使用權(quán)利要求38至68中任一項(xiàng)所述的曝光裝置來(lái)使物體曝光；以及使該已曝光的物體顯影。
70. —種圖案形成方法，在物體上形成圖案，其特征在于，包含 第1工序，將該物體裝載于第l移動(dòng)體上，該第l移動(dòng)體在包含第1軸及與該第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)；第2工序，使用第1測(cè)量系統(tǒng)，來(lái)測(cè)量在該平面內(nèi)獨(dú)立于該第1移動(dòng)體移動(dòng)的第2移動(dòng)體的位置信息；以及第3工序，使用測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第1測(cè)量系統(tǒng)優(yōu)異的第2測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息。
71. 如權(quán)利要求70所述的圖案形成方法，其中，在該第l移動(dòng)體 設(shè)有第1光柵與第2光柵，該第1光柵具有以與該第1軸平行的方向 為周期方向的格子，該第2光柵具有以與該第2軸平行的方向?yàn)橹芷?方向的格子；該第3工序，將編碼器系統(tǒng)作為該第2測(cè)量系統(tǒng)使用，該編碼器 系統(tǒng)具有第l軸編碼器，具有在平行于該第2軸的方向位置相異的 多個(gè)第1讀頭，通過(guò)與該第1光柵對(duì)向的第1讀頭來(lái)測(cè)量該第1移動(dòng) 體在平行于該第1軸的方向的位置信息；以及第2軸編碼器，具有在 平行于該第1軸的方向位置相異的多個(gè)第2讀頭，通過(guò)與該第2光柵 對(duì)向的第2讀頭來(lái)測(cè)量該第l移動(dòng)體在平行于該第2軸的方向的位置"f^息o
72. —種圖案形成方法，照射能量束以在物體上形成圖案，其特征 在于，包含將該物體裝載于第1移動(dòng)體上的工序，該第1移動(dòng)體在包含第1 軸及與該第1軸交叉的第2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)；第1測(cè)量工序，使用包含干涉儀的第l測(cè)量系統(tǒng)，來(lái)測(cè)量在該平 面內(nèi)獨(dú)立于該第l移動(dòng)體移動(dòng)的第2移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息；第2測(cè)量工序，使用包含編碼器系統(tǒng)的第2測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量該第 1移動(dòng)體在該平面內(nèi)的位置信息，該編碼器系統(tǒng)，具有分別與該第1、 第2光柵對(duì)向配置的多個(gè)讀頭，用以測(cè)量該第l移動(dòng)體在該平面內(nèi)的 位置信息，該第1、第2光柵具有配置于該第l移動(dòng)體上且以分別平 行于該第1軸、第2軸的方向?yàn)楦髯缘闹芷诜较虻母褡印?br> 73. 如權(quán)利要求72所述的圖案形成方法，其中，該笫2測(cè)量工序， 在對(duì)裝載于該第1移動(dòng)體上的該物體照射該能量束以形成圖案的動(dòng)作 時(shí)，使用該第2測(cè)量系統(tǒng)測(cè)量該第l移動(dòng)體的位置信息；且進(jìn)一步包含第3測(cè)量工序，在進(jìn)行裝載于該第1移動(dòng)體上的該 物體的交換動(dòng)作時(shí)，使用由干涉儀構(gòu)成的第3測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量該第1 移動(dòng)體的位置信息。
74. 如權(quán)利要求73所述的圖案形成方法，其中，該第3測(cè)量工序 中，在進(jìn)行該交換動(dòng)作時(shí)，該第l移動(dòng)體在平行于該第l軸及第2軸 其中一軸的方向的位置信息以該第3測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量，在平行于另一 軸的方向的位置信息使用該第2測(cè)量系統(tǒng)來(lái)測(cè)量。
75. —種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，用以驅(qū)動(dòng)在包含彼此正交的第l軸及第 2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體，其特征在于，具備第l千涉儀，通過(guò)對(duì)設(shè)于該移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光束，來(lái)測(cè) 量該移動(dòng)體在與第1軸平行的方向的位置信息；第2干涉儀，通過(guò)對(duì)設(shè)于該移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光束，來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在與第2軸平行的方向的位置信息；第1光柵，具有以平行于該第1軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡樱?配置于該移動(dòng)體上；構(gòu)成第1編碼器的第l讀頭單元，具有在平行于該第2軸的方向 位置相異的多個(gè)讀頭，通過(guò)與該第1光柵對(duì)向的讀頭來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體 在平行于該第l軸的方向的位置信息；第2光柵，具有以平行于該第2軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母褡?，?配置于該移動(dòng)體上；構(gòu)成第2編碼器的第2讀頭單元，具有在平行于該第1軸的方向 位置相異的多個(gè)讀頭，通過(guò)與該第2光柵對(duì)向的讀頭來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體 在平行于該第2軸的方向的位置信息；運(yùn)算處理裝置，使用下述兩測(cè)量值來(lái)進(jìn)行既定統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，以求出 該第2光柵的格子彎曲的修正信息，該兩測(cè)量值，即根據(jù)該第l及 第2干涉儀的測(cè)量值或該第2干涉儀及該第1讀頭單元的測(cè)量值，使 該移動(dòng)體移動(dòng)于與該第l軸平行的方向，且伴隨該移動(dòng)而依序?qū)ο蚺?置于該第2光柵的該第2讀頭單元的多個(gè)該讀頭所得到的測(cè)量值；以 及與各測(cè)量值對(duì)應(yīng)的該第1干涉儀及該第1讀頭單元的至少一方的測(cè) 量值；以及控制裝置， 一邊根據(jù)該第l干涉儀及該第l讀頭單元的至少一方 的測(cè)量值與該第2光柵的格子彎曲的修正信息來(lái)修正該第2讀頭單元 所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行該移動(dòng)體往與該第2軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。
76. 如權(quán)利要求75所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其中，該運(yùn)算處理裝 置，算出依序與該第2光柵對(duì)向配置的該第2讀頭單元的多個(gè)讀頭的 測(cè)量值的平均值，以作為該格子彎曲的修正信息。
77. 如權(quán)利要求75或76所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其中，來(lái)自該第 2干涉儀的該測(cè)量光束所照射的該移動(dòng)體的反射面是理想平面；該運(yùn)算處理裝置，將該第2干涉儀的測(cè)量值固定于既定值，且根 據(jù)該第l干涉儀及該第1讀頭單元的至少一方的測(cè)量值來(lái)使該移動(dòng)體 移動(dòng)于與第l軸平行的方向。
78. 如權(quán)利要求75至77中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其中， 該運(yùn)算處理裝置，進(jìn)一步地，根據(jù)該第l及第2干涉儀的測(cè)量值使該 移動(dòng)體移動(dòng)于與該第2軸平行的方向，且伴隨該移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲?于該第2讀頭單元的該第2光柵的格子間距修正信息，根據(jù)該第2干 涉儀的測(cè)量值與該第2讀頭單元的測(cè)量值來(lái)求出；該控制裝置， 一邊根據(jù)該第1干涉儀及該第1讀頭單元的至少一 方的測(cè)量值、該第2光柵的格子彎曲的修正信息、以及該第2光柵的 格子間距修正信息來(lái)修正該第2讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行該 移動(dòng)體往與該第2軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。
79. 如權(quán)利要求78所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其中，來(lái)自該第l干 涉儀的該測(cè)量光束所照射的該移動(dòng)體的反射面是理想平面；該運(yùn)算處理裝置，將該第1干涉儀的測(cè)量值固定于既定值，且根 據(jù)該第2干涉儀的測(cè)量值來(lái)使該移動(dòng)體移動(dòng)于與第2軸平行的方向。
80. 如權(quán)利要求78或79所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，其中，該運(yùn)算處 理裝置，以能忽視該第2干涉儀的測(cè)量值的短期變動(dòng)的低速，將該移 動(dòng)體驅(qū)動(dòng)于與該第2軸平行的方向。
81. —種圖案形成裝置，其特征在于，具備裝載有物體、可保持該物體來(lái)在移動(dòng)面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體；以及 為了在該物體形成圖案而驅(qū)動(dòng)該移動(dòng)體的權(quán)利要求75至80中任 一項(xiàng)所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。
82. 如權(quán)利要求81所述的圖案形成裝置，其中，該圖案的形成通 過(guò)照射能量束以使該物體曝光來(lái)進(jìn)行。
83. —種移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，用以驅(qū)動(dòng)在包含彼此正交的第l軸及第 2軸的既定平面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體，其特征在于，包含第l移動(dòng)工序，根據(jù)第l干涉儀的測(cè)量值與第2干涉儀的測(cè)量值， 來(lái)使該移動(dòng)體移動(dòng)于與該第1軸平行的方向，該第1干涉儀，通過(guò)對(duì) 設(shè)于該移動(dòng)體的反射面照射測(cè)量光束，來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在與第l軸平 行的方向的位置信息；該第2千涉儀，通過(guò)對(duì)設(shè)于該移動(dòng)體的反射面 照射測(cè)量光束，來(lái)測(cè)量該移動(dòng)體在與第2軸平行的方向的位置信息； 第1決定工序，使用下述兩測(cè)量值來(lái)進(jìn)行既定統(tǒng)計(jì)運(yùn)算，以決定該第1光柵的格子彎曲的修正信息，該兩測(cè)量值，即構(gòu)成編碼器的 第l讀頭單元所含的在平行于該第l軸的方向位置相異的多個(gè)讀頭中， 伴隨該第1移動(dòng)工序的該移動(dòng)體的移動(dòng)而依序?qū)ο蚺渲糜谠摰趌光柵 的多個(gè)該讀頭所得到的測(cè)量值；以及與各測(cè)量值對(duì)應(yīng)的該第l干涉儀 的測(cè)量值，該編碼器對(duì)具有以平行于該第2軸的方向?yàn)橹芷诜较虻母?子且配置于該移動(dòng)體上的第l光柵照射檢測(cè)光，以測(cè)量該移動(dòng)體在平 行于該第2軸的方向的位置信息；以及驅(qū)動(dòng)工序， 一邊根據(jù)該第l干涉儀的測(cè)量值與該第l光柵的格子 彎曲的修正信息來(lái)修正該第l讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行該移 動(dòng)體往與該第2軸平行的方向的驅(qū)動(dòng)。
84. 如權(quán)利要求83所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，其中，該第1決定工 序，算出依序與該第l光柵對(duì)向配置的該第l讀頭單元的多個(gè)讀頭的 測(cè)量值的平均值，以作為該格子彎曲的修正信息。
85. 如權(quán)利要求83或84所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，其中，來(lái)自該第 2干涉儀的該測(cè)量光束所照射的該移動(dòng)體的反射面是理想平面；該第l移動(dòng)工序，將該第2干涉儀的測(cè)量值固定于既定值，且根 據(jù)該第1干涉儀的測(cè)量值來(lái)使該移動(dòng)體移動(dòng)于與第l軸平行的方向。
86. 如權(quán)利要求83至85中任一項(xiàng)所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，其進(jìn)一 步包含第2移動(dòng)工序，根據(jù)該第l及第2干涉儀的測(cè)量值，使該移 動(dòng)體移動(dòng)于與該笫2軸平行的方向；以及第2決定工序，根據(jù)該第2干涉儀的測(cè)量值與該第l讀頭單元的 測(cè)量值，來(lái)求出伴隨該第2移動(dòng)工序的該移動(dòng)體的移動(dòng)而依序?qū)ο蚺?置于該第l讀頭單元的該第1光柵的格子間距修正信息；該驅(qū)動(dòng)工序， 一邊根據(jù)該第2干涉儀的測(cè)量值及該第1光柵的格 子彎曲的修正信息、以及該第1光柵的格子間距修正信息來(lái)修正該第 l讀頭單元所得的測(cè)量值， 一邊進(jìn)行該移動(dòng)體往與該第2軸平行的方 向的驅(qū)動(dòng)。
87. 如權(quán)利要求86所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，其中，來(lái)自該第l干 涉儀的該測(cè)量光束所照射的該移動(dòng)體的反射面是理想平面；該第2移動(dòng)工序，將該第1干涉儀的測(cè)量值固定于既定值，且根 據(jù)該第2干涉儀的測(cè)量值使該移動(dòng)體移動(dòng)于與第2軸平行的方向。
88. 如權(quán)利要求86或87所述的移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法，其中，該第2移 動(dòng)工序，以能忽視該第2干涉儀的測(cè)量值的短期變動(dòng)的低速，將該移 動(dòng)體移動(dòng)于與該第2軸平行的方向。
89. —種圖案形成方法，其特征在于，包含以下工序 將物體裝載于可在移動(dòng)面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體上；以及為了在該物體形成圖案而通過(guò)權(quán)利要求82至88中任一項(xiàng)所述的 移動(dòng)體驅(qū)動(dòng)方法來(lái)驅(qū)動(dòng)該移動(dòng)體。
90. 如權(quán)利要求89所述的圖案形成方法，其中，該圖案的形成通 過(guò)照射能量束以使該物體曝光來(lái)進(jìn)行。
91. 一種組件制造方法，其特征在于，包含以下工序 使用權(quán)利要求70至74、 89、卯中任一項(xiàng)所述的圖案形成方法來(lái)在物體上形成圖案；以及對(duì)形成有圖案的該物體施以處理。
92. —種啄光方法，通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)以能量束使物體曝光，其特征在 于，包含使用可在既定平面內(nèi)獨(dú)立移動(dòng)的第l及第2移動(dòng)體上分別設(shè)有第 l及第2構(gòu)件的檢測(cè)裝置，通過(guò)該第l及第2構(gòu)件檢測(cè)出該能量束。
93. 如權(quán)利要求92所述的瀑光方法，其中，在進(jìn)行該檢測(cè)時(shí)，該 第1移動(dòng)體與該光學(xué)系統(tǒng)對(duì)向配置，來(lái)自該光學(xué)系統(tǒng)的能量束通過(guò)該 第1移動(dòng)體的第1構(gòu)件被導(dǎo)至該第2移動(dòng)體的第2構(gòu)件。
94. 如權(quán)利要求92或93所述的曝光方法，其中，該第1及第2移 動(dòng)體中的該第l移動(dòng)體能保持該物體。
95. 如權(quán)利要求94所述的曝光方法，其中，該第2移動(dòng)體具有與 該第2構(gòu)件不同、用在與該啄光不同的動(dòng)作的測(cè)量構(gòu)件。
96. 如權(quán)利要求95所述的曝光方法，其中，該測(cè)量構(gòu)件的至少一 部分設(shè)于與該平面大致平行的該第2移動(dòng)體的一面。
97. 如權(quán)利要求92至96中任一項(xiàng)所述的膝光方法，其中，該第1 構(gòu)件的一部分設(shè)于與該平面大致平行的該第l移動(dòng)體的一面。
98. 如權(quán)利要求92至97中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其中，系使用 該檢測(cè)裝置來(lái)測(cè)量通過(guò)該光學(xué)系統(tǒng)而形成的圖案像。
99. 如權(quán)利要求98所述的膝光方法，其中，該第l構(gòu)件包含與該 光學(xué)系統(tǒng)對(duì)向配置的開(kāi)口圖案，該圖案像通過(guò)該開(kāi)口圖案來(lái)測(cè)量。
100. —種爆光方法，以能量束使物體曝光，其特征在于，包含 使用第l及第2測(cè)量裝置，來(lái)測(cè)量可保持該物體而在既定平面內(nèi)移動(dòng)的第1移動(dòng)體、以及可在該平面內(nèi)獨(dú)立于該第1移動(dòng)體移動(dòng)的第 2移動(dòng)體的位置信息的工序；該第1測(cè)量裝置的測(cè)量值的短期穩(wěn)定性較該第2測(cè)量裝置優(yōu)異。
101. 如權(quán)利要求100所述的啄光方法，其中，該第1移動(dòng)體，在 該平面內(nèi)保持該物體而移動(dòng)于第1及第2方向，且設(shè)有在該第1方向周期排列有格子的第l格子部；該第1測(cè)量裝置，以第1讀頭單元測(cè)量該第1移動(dòng)體在該第1方向的位置信息，該第1讀頭單元具有在該第2方向較該第1格子部寬 度大的檢測(cè)范圍。
102. 如權(quán)利要求101所述的曝光方法，其中，該第1格子部在該第2方向夾著該物體設(shè)置有一對(duì)；該第l讀頭單元，在該第2方向、在該能量束的照射位置兩側(cè)分別具有該檢測(cè)范圍。
103. 如權(quán)利要求102所述的膝光方法，其中，該第1讀頭單元的 該檢測(cè)范圍，在該第2方向與該第1格子部的寬度分離相同程度以上。
104. 如權(quán)利要求101至103中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其中，該 第1讀頭單元，具有在該第2方向位置相異的多個(gè)第l讀頭，該編碼 器系統(tǒng)，在該檢測(cè)范圍內(nèi)通過(guò)與該笫l格子部對(duì)向的第l讀頭來(lái)測(cè)量 該第1移動(dòng)體在該第1方向的位置信息。
105. 如權(quán)利要求104所述的曝光方法，其中，該多個(gè)第l讀頭， 在該第2方向以較該第l格子部的寬度小的間隔配置。
106. 如權(quán)利要求101至105中任一項(xiàng)所述的膝光方法，其中，該 第i移動(dòng)體設(shè)有在該第2方向周期排列有格子的第2格子部；該編碼器系統(tǒng)，以第2讀頭單元測(cè)量該第l移動(dòng)體在該第2方向 的位置信息，該第2讀頭單元具有在該第1方向較該第2格子部寬度 大的檢測(cè)范圍。
107. 如權(quán)利要求106所述的膝光方法，其中，該第2格子部在該 第1方向夾著該物體設(shè)置有一對(duì)；該笫2讀頭單元，在該第1方向、在該能量束的照射位置兩側(cè)分 別具有該檢測(cè)范圍。
108. 如權(quán)利要求106或107所述的曝光方法，其中，該第2讀頭 單元，具有在該第1方向位置相異的多個(gè)第2讀頭，該編碼器系統(tǒng)， 在該檢測(cè)范圍內(nèi)通過(guò)與該第2格子部對(duì)向的第2讀頭來(lái)測(cè)量該第l移 動(dòng)體在該第2方向的位置信息。
109. 如權(quán)利要求101至108中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其中，通 過(guò)該編碼器系統(tǒng)測(cè)量的位置信息，至少使用在該物體的曝光動(dòng)作。
110. 如權(quán)利要求101至109中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其中，通 過(guò)該編碼器系統(tǒng)測(cè)量的位置信息，至少使用在該物體的標(biāo)記的檢測(cè)動(dòng) 作。
111. 如權(quán)利要求101至110中任一項(xiàng)所述的膝光方法，其中，該 第2測(cè)量裝置包含用以測(cè)量該第2移動(dòng)體的位置信息的干涉儀。
112. 如權(quán)利要求101至110中任一項(xiàng)所述的膝光方法，其中，該 第1測(cè)量裝置包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息的干涉儀系統(tǒng)， 該干涉儀系統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)體的位置信息的測(cè)量方向，包含與該編碼 器系統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)體的位置信息的測(cè)量方向相異的方向。
113. 如權(quán)利要求112所述的膝光方法，其中，該干涉儀系統(tǒng)，在 與該平面內(nèi)的方向相異的方向測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息。
114. 如權(quán)利要求112或113所述的膝光方法，其中，該干涉儀系 統(tǒng)，在該編碼器系統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)體的位置信息的至少一個(gè)測(cè)量方向 測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息。
115. 如權(quán)利要求112至114中任一項(xiàng)所述的曝光方法，其中，該 第2測(cè)量裝置包含用以測(cè)量該第1移動(dòng)體的位置信息的干涉儀系統(tǒng)；根據(jù)該第1測(cè)量裝置的測(cè)量信息來(lái)控制該第1移動(dòng)體的移動(dòng)，該 第1測(cè)量裝置的測(cè)量信息包含通過(guò)該干涉儀系統(tǒng)來(lái)測(cè)量的位置信息。
116. 如權(quán)利要求115所述的膝光方法，其中，該測(cè)量信息，包含 在該編碼器系統(tǒng)對(duì)該第1移動(dòng)體的位置信息的測(cè)量方向的相異方向、 該干涉儀系統(tǒng)測(cè)量的該第l移動(dòng)體的位置信息。
117. —種膝光方法，以能量束使物體曝光，其特征在于，包含以 下工序通過(guò)第1測(cè)量裝置所具備的編碼器系統(tǒng)的與該第l及第2格子部 相異的兩個(gè)對(duì)向的多個(gè)讀頭，來(lái)測(cè)量第l移動(dòng)體的位置信息，該第1 移動(dòng)體，可保持該物體來(lái)在既定平面內(nèi)移動(dòng)于第1及第2方向，且設(shè) 有在該第1方向周期排列有格子的第1格子部、以及在該第2方向周 期排列有格子的第2格子部；以及通過(guò)第2測(cè)量裝置所具備的干涉儀，來(lái)測(cè)量可在該平面內(nèi)獨(dú)立于 該第1移動(dòng)體移動(dòng)的第2移動(dòng)體位置信息。
118. 如權(quán)利要求117所述的膝光方法，其進(jìn)一步包含用以修正因 該第1及第2格子部的至少一者而產(chǎn)生的該編碼器系統(tǒng)的測(cè)量誤差的 工序。
119. 一種組件制造方法，其特征在于，包含以下步驟 使用權(quán)利要求92至118中任一項(xiàng)所述的曝光方法來(lái)使物體曝光；以及使該已曝光的物體顯影。
全文摘要
空間像測(cè)量裝置，其一部分設(shè)于晶圓載臺(tái)(WST)，且剩下的一部分設(shè)于測(cè)量載臺(tái)(MST)，用以測(cè)量透過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)而形成的標(biāo)記的空間像。因此，可在通過(guò)空間像測(cè)量裝置來(lái)測(cè)量投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)的最佳聚焦位置時(shí)，將設(shè)有空間像測(cè)量裝置一部分的晶圓載臺(tái)在與投影光學(xué)系統(tǒng)的光軸(AX)平行的方向的位置，當(dāng)作其最佳聚焦位置的基準(zhǔn)來(lái)進(jìn)行測(cè)量。因此，在以照明光(IL)使物體(W)曝光時(shí)，根據(jù)該最佳聚焦位置的測(cè)量結(jié)果，以高精度調(diào)整晶圓載臺(tái)(WST)在與光軸(AX)平行的方向的位置。
文檔編號(hào)H01L21/027GK101385121SQ20078000514
公開(kāi)日2009年3月11日 申請(qǐng)日期2007年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月21日
發(fā)明者柴崎祐一 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康