專利名稱：太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型公開(kāi)了一種太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，屬于太陽(yáng)電池刻蝕設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
太陽(yáng)電池實(shí)際上是一個(gè)面積比較大的非線性PN結(jié)，在制作過(guò)程中，需要將擴(kuò)散工序中形成的硅邊緣P-N結(jié)去除，否則，將導(dǎo)致電極正負(fù)極之間并聯(lián)電阻過(guò)小，影響電池的輸出特性。大規(guī)模生產(chǎn)中，一般用四氟化碳在高頻電場(chǎng)中電離出氟離子與Si反應(yīng)生成SiF4的方式來(lái)去除邊緣PN結(jié)。
現(xiàn)有的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，主要由底盤、底板、蓋板、加壓裝置組成。刻蝕時(shí)，先將底板置于底盤上，再將數(shù)片硅片疊層置于底板上，接著于最頂端的硅片上放置蓋板，再用加壓裝置通過(guò)蓋板對(duì)整疊硅片進(jìn)行壓緊，最后充入四氟化碳?xì)怏w進(jìn)行刻蝕，以去除邊緣PN結(jié)。實(shí)踐證明，位于下端部分的硅片，尤其是底端部分的硅片，存在刻蝕不全、不均勻的問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容
3為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種可將整疊硅片的邊緣
PN結(jié)，全面、均勻刻蝕完全的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具。 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案為 一種太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，包括底盤、底板、蓋板、加壓裝
置，所述底盤與底板之間設(shè)置有不少于三個(gè)的支撐柱，且所有支撐柱
楚古 寺同。
作為上述方案的進(jìn)一步設(shè)置，所述支撐柱固定安裝于底盤上。
所述支撐柱為三個(gè)，且均勻分布于底盤上。
所述支撐柱為圓柱體。
所述支撐柱選用不銹鋼制成。
所述底盤呈圓形。
采用上述方案后，本實(shí)用新型在底盤與底板之間設(shè)置有不少于三 個(gè)的支撐柱，且所有支撐柱等高，如此設(shè)計(jì)以后，支撐柱將底盤與底 板之間隔離開(kāi)一定的距離，有利于刻蝕氣體(如四氟化碳?xì)怏w)環(huán)流
通過(guò)整疊硅片，使整疊硅片的邊緣PN結(jié)，全面、均勻的被刻蝕完全， 尤其解決了位于底端部分的硅片，刻蝕不全、不均勻的問(wèn)題。
以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式
對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為圖1撤掉底板、蓋板后的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本實(shí)用新型工作狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖l、圖2、圖3所示，本實(shí)用新型太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，包括底盤l、底板3、蓋板4、加壓裝置5，此為現(xiàn)有太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具的結(jié)構(gòu)。
本案的改進(jìn)點(diǎn)是底盤1與底板3之間設(shè)置有不少于三個(gè)的支撐柱2，且所有支撐柱2等高。如此設(shè)計(jì)以后，支撐柱2將底盤1與底板3之間隔離開(kāi)一定的距離，有利于刻蝕氣體(如四氟化碳?xì)怏w)環(huán)流通過(guò)整疊硅片6，使整疊硅片6的邊緣PN結(jié)，全面、均勻的被刻蝕完全，尤其解決了位于底端部分的硅片6，刻蝕不全、不均勻的問(wèn)題。
作為本案的進(jìn)一步優(yōu)選，支撐柱2固定安裝于底盤1上。當(dāng)然也可將支撐柱2固定安裝于底板3的底端，或者是直接放置于底盤1與底板3之間。
為了簡(jiǎn)化結(jié)構(gòu)，同時(shí)又能達(dá)到良好的效果，本實(shí)施例優(yōu)選了三個(gè)支撐柱2的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，且該三個(gè)支撐柱2均勻分布于底盤1上，其中底盤1為圓形。
為了進(jìn)一步提高整體性能，支撐柱2為選用不銹鋼制成的圓柱體。不銹鋼材料，結(jié)構(gòu)牢固，熱膨脹系數(shù)低。
刻蝕時(shí)，先將底板3置于底盤1的三個(gè)支撐柱2上，再將數(shù)片硅
片6疊層置于底板3上，接著于最頂端的硅片6上放置蓋板4，再用
加壓裝置5通過(guò)蓋板4對(duì)整疊硅片6進(jìn)行壓緊，最后充入四氟化碳?xì)?br> 體進(jìn)行刻蝕，以去除邊緣PN結(jié)。
上述實(shí)施例僅用于解釋說(shuō)明本實(shí)用新型的發(fā)明構(gòu)思，而非對(duì)本實(shí)
用新型權(quán)利保護(hù)的限定，凡利用此構(gòu)思對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行非實(shí)質(zhì)性的
改動(dòng)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1、一種太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，包括底盤(1)、底板(3)、蓋板(4)、加壓裝置(5)，其特征在于所述底盤(1)與底板(3)之間設(shè)置有不少于三個(gè)的支撐柱(2)，且所有支撐柱(2)等高。
2、 如權(quán)利要求l所述的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，其特征在于 所述支撐柱(2)固定安裝于底盤(1)上。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，其特征在 于所述支撐柱(2)為三個(gè)，且均勻分布于底盤(1)上。
4、 如權(quán)利要求3所述的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，其特征在于所述支撐柱(2)為圓柱體。
5、 如權(quán)利要求4所述的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，其特征在于 所述支撐柱(2)選用不銹鋼制成。
6、 如權(quán)利要求3所述的太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，其特征在于所述底盤(1)呈圓形。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，屬于太陽(yáng)電池刻蝕設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括底盤、底板、蓋板、加壓裝置，所述底盤與底板之間設(shè)置有不少于三個(gè)的支撐柱，且所有支撐柱等高。本實(shí)用新型太陽(yáng)電池等離子刻蝕模具，可將整疊硅片的邊緣PN結(jié)，全面、均勻的刻蝕完全。
文檔編號(hào)H01L21/02GK201289862SQ20082016851
公開(kāi)日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月20日
發(fā)明者俞相明, 周曉兵 申請(qǐng)人:浙江向日葵光能科技有限公司