專利名稱：陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鎳鐵合金金屬片的加工方法，具體講是涉及一種發(fā)光面板陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，屬于超高精密制造技術領域。
背景技術：
有機發(fā)光0LED(Organic Light Emitting Display,中文名有機發(fā)光顯示器)面板技術因為具備輕薄、省電等特性，相對于LCD具有不可比擬的優(yōu)勢，因此它也一直被業(yè)內(nèi)人士所看好。OLED顯示技術與傳統(tǒng)的LCD顯示方式不同，無需背光燈，采用非常薄的有機材料涂層和玻璃基板，當有電流通過時，這些有機材料就會發(fā)光。而且OLED顯示屏幕可以做得更輕更薄，可視角度更大，并且能夠顯著節(jié)省電能。
OLED面板顯示技術目前依然受顯示分辨率低及屏幕大尺寸化非常困難等技術難題的困擾，OLED面板畫素及陰極材料的轉(zhuǎn)移蒸鍍技術是困擾OLED畫素高清晰化的關鍵技術，但用于轉(zhuǎn)移蒸鍍的高技術鎳鐵合金電鑄技術一直被歐美、日本等極少數(shù)高端廠家所壟斷，國內(nèi)企業(yè)及研發(fā)機構(gòu)在研發(fā)轉(zhuǎn)移蒸鍍罩方面的技術沒有成熟，不能真正用于高清晰度OLED面板畫素的轉(zhuǎn)移蒸鍍，也限制了OLED面板技術的應用。

發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有OLED畫素轉(zhuǎn)移蒸鍍技術的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，滿足高清晰度OLED面板制造對超高精度轉(zhuǎn)移蒸鍍面板的制造要求。
為解決上述問題，本發(fā)明是通過以下的技術方案來實現(xiàn)的
一種陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于采用光電加工和二元電沉積技術，具體包括以下步驟
(1)、設計金屬蒸鍍面罩的圖形文件，確定數(shù)據(jù)補償?shù)臄?shù)據(jù)；(2) 、采用304不銹鋼基板，經(jīng)表面研磨處理、外觀檢查符合要求后，將基板置于烘箱中烘烤；
(3) 、將光阻材料熱壓或印刷在基板上；
(4) 、按照設計好的金屬蒸鍍面罩的圖形文件，制作20000DPI的負片光罩菲林，在平行光機上進行高精度曝光；
(5) 、將曝光后的基板在1%的顯影劑中進行清洗，使圖形停留在基板上，并作圖形尺寸及外觀檢查；
(6 )、將基板放入鎳鐵合金電鑄槽中的電鑄溶液中進行二元電鑄沉積加工，所述的二元電鑄沉積加工是利用一定的電流沉積厚度，分別在光阻材料四周及上面沉積兩次而成；
(7) 、電鑄沉積達到所需要的厚度后，將基板上的金屬蒸鍍面罩取下，放入超聲波清洗機中進行清洗；
(8) 、抽樣檢查、包裝。
前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于所述的光阻材料為干膜或光刻膠。
前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于所述的干膜或光刻膠，經(jīng)由300 400nm的UV紫外光照射后可以發(fā)生固化反應。
前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于在所述的步驟(2)中，所述的基板在烘箱中烘烤60 80分鐘，烘烤溫度為100 120度。
前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于在所述的步驟(3)中，將光阻材料熱壓或印刷在基板上，是利用干膜機在溫度110 130度、壓力在1.2KG 1.5KG、速度在0.8 1.0m/S的條件下，將25um的干膜熱壓在304不銹鋼基板上，保證外觀達到要求；或采用印刷的方法，將一定厚度的光刻膠在100 200目絲網(wǎng)印刷下，使光刻膠平均涂覆在304不銹鋼基板上，厚度為20 25um。
前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于所述的步驟(4)中的高精度曝光，曝光時UV光能量控制在3 5KW。前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于所述的電鑄溶液為鎳鐵合金電鑄溶液。
前述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于所述的鎳鐵合金溶液的主要成分和含量如下
氨基磺酸鎳溶液240 300g/L;
氨基磺酸鐵溶液10 15g/L;
氯化鎳溶液10 30g/L;
硼酸30 40g/L;
光亮劑XS-L: l 3ml/L;添加劑P900: 2 10ml/L;
ra二3.0 4. 0;
溫度=40 50°。；電流密度=0. 8 5A/dm2;過濾精度0.2um。
本發(fā)明的有益效果是采用本發(fā)明的二元電沉積加工方法來制造高精度畫素轉(zhuǎn)移蒸鍍金屬板，可以使金屬蒸鍍面罩達到10 15um的孔寬要求，開孔精度達到土1.5nm,厚度精度均勻性達到±lum ，位置精度為《土5tim(370腿X470mm )，孔徑小，精度高，非常耐高溫，膨脹系數(shù)小于1.8X 10—6°C ，滿足高清晰度OLED面板畫素精密轉(zhuǎn)移蒸鍍的制造要求，使OLED面板分辨率可以達到1366x768的高畫素性能。


圖l為本發(fā)明的工藝流程圖。
具體實施例方式
以下結(jié)合附圖具體介紹本發(fā)明的方法。
本發(fā)明中的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，采用光電加工及二元電鑄沉積技術，光阻材料采用干膜或光刻膠，電鑄沉積基板采用304不銹鋼基板，電鑄溶液采用鎳鐵合金電鑄溶液。所采用的干膜或光刻膠，經(jīng)由波長300 400nm的UV紫外光照射后可以發(fā)生固化反應。本發(fā)明的工藝過程為(如圖l):
設計金屬蒸鍍面罩的圖形文件，確定數(shù)據(jù)補償?shù)臄?shù)據(jù)；采用304不銹鋼基板，經(jīng)表面研磨處理，檢查外觀符合要求后，將基板置于烘箱中烘烤60 80分鐘，溫度100 120度；利用干膜機在溫度110 130度，壓力在1.2KG 1.5KG，速度在0.8 1.0m/S的參數(shù)下，將25um的干膜熱壓在不銹鋼基板上，保證外觀達到要求；或采用印刷的辦法，將一定厚度的光刻膠在100 200目絲網(wǎng)印刷下，使光刻膠平均涂覆在不銹鋼板上面，使厚度在20 25um左右即可。按照設計好的金屬蒸鍍面罩的圖形文件，制作20000DPI的負片光罩菲林，在平行光機上進行高精度曝光，UV光能量控制在3 5KW即可。曝光后的基板在1%的顯影劑中進行清洗，使圖形停留在基板上，并作圖形尺寸及外觀檢査。然后將基板放入鎳鐵合金電鑄槽中的電鑄溶液中進行二元電鑄沉積加工，達到所需要的厚度后即可將基板上的金屬蒸鍍面罩取下，放入超聲波清洗機上進行清洗，最后需要按照抽樣頻率檢查金屬蒸鍍面罩的各項尺寸。
二元電沉積加工方法是利用一定電流沉積厚度，分別在光阻材料四周及上面沉積兩次而成。
當采用鎳鐵合金電鑄溶液時，所采用的鎳鐵合金電鑄溶液主要成分及含量如下-
氨基磺酸鎳溶液240 300g/L;氨基磺酸鐵溶液10 15g/L;氯化鎳溶液10 30g/L;
硼酸30 40g/L;
光亮劑XS-L: l 3ml/L;添加劑P900: 2 10ml/L;PH=3. 0 4. 0;溫度二40 50。C;電流密度二O. 8 5A/dm2;過濾精度0.2um。
電鑄沉積的鎳鐵合金材料硬度達到450 550hv，厚度為0. 020 0. 050mm，開孔寬度可以達到10 15um，開孔誤差士1.5um。孔徑小，精度高，非常耐高溫， 膨脹系數(shù)小于1. 8X 10_6°C，滿足高清晰度OLED面板畫素精密轉(zhuǎn)移蒸鍍的制造要 求，使OLED面板分辨率可以達到1366x768的高畫素性能。
本發(fā)明獨辟蹊徑，利用本公司成熟的電鑄技術和因瓦合金的高穩(wěn)定尺寸優(yōu) 異性能，創(chuàng)造性的開發(fā)出高尺寸及位置精度的因瓦技術薄片技術，成功用于高 畫素0LED陰極材料的精密轉(zhuǎn)移。
上述實施例不以任何形式限制本發(fā)明，凡采取電鑄鎳鐵溶液條件下，以等 同替換或等效變換的方式所獲得的技術方案，均落在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
權利要求
1、一種陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，其特征在于采用光電加工和二元電沉積技術，具體包括以下步驟(1)、設計金屬蒸鍍面罩的圖形文件，確定數(shù)據(jù)補償?shù)臄?shù)據(jù)；(2)、采用304不銹鋼基板，經(jīng)表面研磨處理、外觀檢查符合要求后，將基板置于烘箱中烘烤；(3)、將光阻材料熱壓或印刷在基板上；(4)、按照設計好的金屬蒸鍍面罩的圖形文件，制作20000DPI的負片光罩菲林，在平行光機上進行高精度曝光；(5)、將曝光后的基板在1％的顯影劑中進行清洗，使圖形停留在基板上，并作圖形尺寸及外觀檢查；(6)、將基板放入鎳鐵合金電鑄槽中的電鑄溶液中進行二元電鑄沉積加工，所述的二元電鑄沉積加工是利用一定的電流沉積厚度，分別在光阻材料四周及上面沉積兩次而成；(7)、電鑄沉積達到所需要的厚度后，將基板上的金屬蒸鍍面罩取下，放入超聲波清洗機中進行清洗；(8)、抽樣檢查、包裝。
2、 根據(jù)權利要求1所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于所述的光阻材料為干膜或光刻膠。
3、 根據(jù)權利要求2所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于所述的干膜或光刻膠，經(jīng)由300 400nm的UV紫外光照射后 可以發(fā)生固化反應。
4、 根據(jù)權利要求1所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于在所述的步驟(2)中，所述的基板在烘箱中烘烤60 80分 鐘，烘烤溫度為100 120度。
5、 根據(jù)權利要求1所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于在所述的步驟(3)中，將光阻材料，壓或印刷在基板上，是 利用干膜機在溫度110 130度、壓力在1. 2KG 1. 5KG、速度在0. 8 1. Om/S的條件下，將25um的干膜熱壓在304不銹鋼基板上，保證外觀達到要求；或采用 印刷的方法，將一定厚度的光刻膠在100 200目絲網(wǎng)印刷下，使光刻膠平均涂 覆在304不銹鋼基板上，厚度為20 25um。
6、 根據(jù)權利要求1所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于所述的步驟(4)中的高精度曝光，曝光時UV光能量控制在3 5KW。
7、 根據(jù)權利要求1所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于所述的電鑄溶液為鎳鐵合金電鑄溶液。
8、 根據(jù)權利要求7所述的陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工 方法，其特征在于所述的鎳鐵合金溶液的主要成分和含量如下氨基磺酸鎳溶液240 300g/L; 氨基磺酸鐵溶液10 15g/L;氯化鎳溶液10 30g/L; 硼酸30 40g/L;光亮劑XS-L: l 3ml/L; 添加劑P900: 2 10ml/L; PH=3. 0 4. 0; 溫度=40 50°(:; 電流密度=0. 8 5A/dm2; 過濾精度0. 2um。
全文摘要
本發(fā)明涉及陰極材料轉(zhuǎn)移罩用因瓦金屬板的二元電沉積加工方法，采用光電加工和二元電沉積技術，先設計金屬蒸鍍面罩的圖形文件；將不銹鋼基板置于烘箱中烘烤；將光阻材料熱壓或印刷在基板上；制作負片光罩菲林，進行高精度曝光；將曝光后的基板在顯影劑中清洗，放入鎳金電鑄槽中進行二元電鑄沉積加工；電鑄沉積后，將基板上的金屬蒸鍍面罩取下，放入超聲波清洗機中進行清洗；抽樣檢查。本發(fā)明可以使金屬蒸鍍面罩達到10～15um的孔寬要求，開孔誤差±1.5μm，厚度精度均勻性±1μm，位置精度≤±5μm，孔徑小，精度高，耐高溫，膨脹系數(shù)＜1.8×10^-6℃，滿足高清晰度OLED面板畫素精密轉(zhuǎn)移蒸鍍的制造要求。
文檔編號H01L51/56GK101662002SQ20091003466
公開日2010年3月3日 申請日期2009年8月31日 優(yōu)先權日2009年8月31日
發(fā)明者濤 周, 李真明, 黎增祺 申請人:昆山美微電子科技有限公司