專利名稱：保持墊的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種保持墊，特別是有關(guān)于一種具備擁有藉由濕式凝固法而形成有通過(guò)全體厚度大小的多個(gè)縱型發(fā)泡，用以保持被研磨物的保持面的樹(shù)脂薄片的保持墊。
背景技術(shù)：
就半導(dǎo)體用硅晶圓(WF)、平板顯示器(FPD)用玻璃基板或者是硬盤用基板等各種材料(被研磨物)的表面(加工面)而言，為使平坦性提升，因而使用具備對(duì)向配置的二個(gè)定盤的研磨機(jī)來(lái)進(jìn)行研磨加工。在此些被研磨物中，尤以半導(dǎo)體用WF或FPD用玻璃基板而言，由于須達(dá)到無(wú)缺陷的多層配線的高集積化或演出高畫(huà)質(zhì)影像等需求，因而對(duì)于作為此些材料的基礎(chǔ)的基板的平坦性的需求度日益增高。將被研磨物，例如對(duì)其中一面進(jìn)行研磨加工時(shí)，在研磨機(jī)其中一方的定盤上，裝設(shè)著研磨墊，而在另一方的定盤上，則是將被研磨物保持呈與研磨墊相對(duì)向。當(dāng)進(jìn)行研磨加工時(shí)，在被研磨物與研磨墊間供給含有研磨粒子(磨粒)的研磨漿，對(duì)被研磨物施予研磨壓 (按壓力)。為了避免因被研磨物與定盤間的接觸而受到損傷，通常是在保持被研磨物用的定盤上，裝設(shè)保持墊。亦即，保持墊能夠在研磨流程中，暫時(shí)保持被研磨物。此外，為了抑制在保持墊中被研磨物的橫偏移，有使用框架的手段。使用框架與否乃依被研磨物的種類而異，例如在FPD用玻璃基板的研磨加工中，乃是使用無(wú)框架的保持墊。就保持墊來(lái)說(shuō)，得以使用具備藉由濕式凝固法而形成，具發(fā)泡構(gòu)造的軟性的胺基甲酸乙酯薄膜(樹(shù)脂薄片)的保持墊(例如，參見(jiàn)特開(kāi)2006-62059號(hào)公報(bào))。對(duì)藉由濕式凝固法所形成的胺基甲酸乙酯薄膜而言，由于形成有橫跨大致全體厚度的大小的發(fā)泡，所以當(dāng)以提高緩沖性為目的，進(jìn)而增大發(fā)泡尺寸時(shí)，到用以保持被研磨物的保持面附近為止的發(fā)泡尺寸將會(huì)隨著變大，而使剛性降低。若緩沖性過(guò)低，則會(huì)因研磨壓而讓被研磨物所承受的應(yīng)力產(chǎn)生受力不均的現(xiàn)象，使應(yīng)力集中于朝被研磨物的保持墊側(cè)凹陷的大型凸部，進(jìn)而使此應(yīng)力集中部分因研磨過(guò)度而產(chǎn)生研磨不均。相反的，當(dāng)緩沖性提高時(shí)，雖然被研磨物所承受的應(yīng)力變得較不易產(chǎn)生受力不均的現(xiàn)象，而可提升被研磨物的表面平滑性，但卻有凹陷變大，而使得保持墊本身有遭研削的可能性。就使被研磨物的凹陷抑制上所需的剛性、以及對(duì)于被研磨物的應(yīng)力的均等化所需的緩沖性兩者兼具的技術(shù)來(lái)說(shuō)，已公開(kāi)一種使利用濕式凝固法而成的發(fā)泡構(gòu)造相異的二種薄片相貼合的保持墊的技術(shù)(例如，參見(jiàn)特開(kāi) 2005-11972號(hào)公報(bào))。在這種技術(shù)中，藉由其中一方的薄片來(lái)確保緩沖性，并且藉由另一方的薄片來(lái)發(fā)揮剛性。

發(fā)明內(nèi)容
然而，在特開(kāi)2006-62059號(hào)公報(bào)的技術(shù)中，雖因?yàn)槔脻袷侥谭ㄋ纬傻谋砻鎸?表膚層)的表面(保持面)具有平滑性而可略為平坦地保持被研磨物，但仍不可謂已充分滿足了上述所需的高精度的平坦性。在特開(kāi)2005-11972號(hào)公報(bào)的技術(shù)中，則會(huì)因貼合二種薄片所使用的黏著劑等影響，而有造成硬度不均一的情況。此外，亦有在進(jìn)行研磨加工時(shí)二種薄片剝離的問(wèn)題存在。在進(jìn)行研磨加工時(shí)，由于通常被研磨物是凹陷在保持墊中，在被保持著的同時(shí)進(jìn)行平坦化，因而藉由壓縮具有緩沖性的保持墊而對(duì)被研磨物產(chǎn)生應(yīng)力。此時(shí)，若是保持墊的密度不均時(shí)，則施加于各個(gè)不均部分上的應(yīng)力大小相異，因而按壓力亦局部性地變化，故難以對(duì)整個(gè)加工面進(jìn)行均一地研磨加工，而損及面內(nèi)均一性。例如在被研磨物的外緣部和中央部上的研磨裕度相異，將會(huì)造成所謂的外緣壓陷。若能降低施予在被研磨物上的應(yīng)力不均，并提高保持面的平坦性精度，就能夠得到滿足對(duì)被研磨物的高精度的平坦性的要求水準(zhǔn)的保持墊。本發(fā)明有鑒于上述事態(tài)，以提供可提高保持面的平坦性精度，并提升被研磨物的面內(nèi)均一性的保持墊為課題。解決問(wèn)題的手段為解決上述課題，本發(fā)明是在具備藉由濕式凝固法而形成有橫跨全體厚度大小的多個(gè)縱型發(fā)泡，用以保持被研磨物的保持面的樹(shù)脂薄片的保持墊中，所述的發(fā)泡是自所述的樹(shù)脂薄片的厚度方向中央部到所述的保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止，發(fā)泡形成方向是相對(duì)于所述的厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成。在本發(fā)明中，由于發(fā)泡自樹(shù)脂薄片的厚度方向中央部到保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的發(fā)泡形成方向，是相對(duì)于厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成的，所以即便在進(jìn)行濕式凝固時(shí)樹(shù)脂薄片上產(chǎn)生密度不均的現(xiàn)象，在進(jìn)行研磨加工而遭壓縮時(shí)，由于相對(duì)于被研磨物的應(yīng)力仍可在全面積上被均等化，故能提高保持面的平坦性精度，并提升被研磨物的面內(nèi)均一性。在這種情況下，樹(shù)脂薄片的厚度方向中央部可以是相對(duì)于全體厚度，自厚度方向的中心起介于士 10%的范圍。發(fā)泡自厚度方向中央部起，到保持面的背面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的徑長(zhǎng)，大于到保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的徑長(zhǎng)較為適宜。此外，發(fā)泡自厚度方向中央部到保持面的背面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的發(fā)泡形成方向是沿厚度方向而形成亦可。這種發(fā)泡在保持面附近，通過(guò)與保持面相平行的剖面上所形成孔的中心的垂直線，和在保持面的背面附近，與該背面相平行的剖面相交的位置可以是位于與背面相平行的剖面上，以相同的發(fā)泡所形成的孔的外側(cè)上。發(fā)泡在厚度方向中央，在以連接與保持面相平行的剖面上所形成的孔的中心M1，和保持面?zhèn)鹊捻旤c(diǎn)M2的連接線段當(dāng)作斜邊的直角三角形中，當(dāng)自中心Ml觀察到頂點(diǎn)M2的仰角以θ表示時(shí)，仰角θ設(shè)成為介于30度 60度的范圍而形成亦可。樹(shù)脂薄片是藉由濕式凝固法而形成為長(zhǎng)條狀的薄片，發(fā)泡自厚度方向中央部到保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的發(fā)泡形成方向是相對(duì)于厚度方向沿樹(shù)脂薄片的長(zhǎng)度方向傾斜而形成亦可。此夕卜，發(fā)泡在與長(zhǎng)度方向相交叉的寬度方向上，沿厚度方向而形成亦可。此時(shí)，發(fā)泡自與長(zhǎng)度方向相交叉的寬度方向的剖面觀察時(shí)，可以是沿垂直方向而形成的。樹(shù)脂薄片可以是由聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂制成，并可將發(fā)泡間形成呈微多孔狀。發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明，由于發(fā)泡為自樹(shù)脂薄片的厚度方向中央部到保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的發(fā)泡形成方向是相對(duì)于厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成的，所以即便在進(jìn)行濕式凝固時(shí)樹(shù)脂薄片上產(chǎn)生密度不均的現(xiàn)象，在進(jìn)行研磨加工而遭壓縮時(shí)，由于相對(duì)于被研磨物的應(yīng)力仍可在全面積上被均等化，故能夠獲得所謂提高保持面的平坦性精度，并提升被研磨物的面內(nèi)均一性的效果。


圖1表示應(yīng)用本發(fā)明的實(shí)施形態(tài)的保持墊的剖面示意圖。圖2表示構(gòu)成實(shí)施形態(tài)的保持墊的胺基甲酸乙酯薄片中的發(fā)泡的形成狀態(tài)的示意圖，(A)為胺基甲酸乙酯薄片的厚度方向的剖面圖，⑶則為表示在㈧中的a-a剖面、 b-b剖面及c-c剖面上，各別所形成的孔中心的位置關(guān)系的示意圖。圖3表示構(gòu)成實(shí)施形態(tài)的保持墊的胺基甲酸乙酯薄片所形成的發(fā)泡中的傾斜程度的示意圖。圖4表示實(shí)施形態(tài)的保持墊的剖面的掃描型電子顯微鏡照片，(A)為表示沿濕式成膜時(shí)的長(zhǎng)度方向上的厚度方向的剖面，(B)則表示沿與長(zhǎng)度方向相交叉的寬度方向上的厚度方向上的剖面。圖5表示現(xiàn)有習(xí)知的保持墊的剖面示意圖。圖6表示構(gòu)成現(xiàn)有習(xí)知的保持墊的胺基甲酸乙酯薄片中的發(fā)泡的形成狀態(tài)的示意圖，(A)為胺基甲酸乙酯薄片的厚度方向的剖面圖，(B)則表示在(A)中的1-1剖面、m-m 剖面及n-n剖面上，各別所形成的孔中心的位置關(guān)系的示意圖。
具體實(shí)施例方式以下，將參照?qǐng)D式，針對(duì)適用本發(fā)明實(shí)施形態(tài)的保持墊進(jìn)行說(shuō)明。(構(gòu)成)如圖1所示，本實(shí)施形態(tài)的保持墊10是具備有以聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂制的樹(shù)脂薄片而形成的胺基甲酸乙酯薄片2。胺基甲酸乙酯薄片2是具有藉由濕式凝固法所形成，用以保持被研磨物的保持面Si。胺基甲酸乙酯薄片2是具有在保持面Si鄰近處，橫跨數(shù)μ m程度的厚度中形成有致密的微多孔的表膚層加。亦即，表膚層加具有微多孔構(gòu)造。在比胺基甲酸乙酯薄片2 的表膚層加更為內(nèi)側(cè)(內(nèi)部)當(dāng)中，多個(gè)發(fā)泡4是以略為均等地分散的狀態(tài)所形成。發(fā)泡 4具有橫跨胺基甲酸乙酯薄片2的大致全體厚度的大小，在厚度方向上，被形成為呈縱長(zhǎng)狀并帶圓頭的圓錐狀。由于胺基甲酸乙酯薄片2具有表膚層2a，所以在保持面證上，并未形成有發(fā)泡4的開(kāi)口。在發(fā)泡4彼此間的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂中，則形成有比發(fā)泡4還小的微多孔(未圖示)。在胺基甲酸乙酯薄片2上，表膚層加的微多孔構(gòu)造、發(fā)泡4及微多孔相互呈網(wǎng)目狀加以連通，而具有發(fā)泡是呈連續(xù)發(fā)泡狀所形成的連續(xù)發(fā)泡構(gòu)造。發(fā)泡4自胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向中央部到保持面證側(cè)的上部層W1，和自厚度方向中央部到保持面Si的背面，也就是和保持面Si相反的面(以下，稱為背面Sr。) 側(cè)的下部層ft"上的形成狀態(tài)各不相同。亦即，發(fā)泡4是形成為在下部層ft·上的孔徑比在上部層Wi上的孔徑還大。此外，發(fā)泡4在上部層Wi中到保持面Si側(cè)的發(fā)泡端部為止，其發(fā)泡形成方向是相對(duì)于厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成的，而在下部層ft"中到背面Sr側(cè)的發(fā)泡端部為止，其發(fā)泡形成方向則是沿著厚度方向而形成的。換言之，發(fā)泡4的發(fā)泡形成方向，在上層部Wi是沿著相對(duì)于厚度方向傾斜的方向(圖1的箭形符號(hào)A方向)， 而在下部層ft·則是沿著厚度方向(箭形符號(hào)B方向)。由于在上部層W1發(fā)泡4是呈傾斜而形成的，所以在保持面Si附近，通過(guò)與保持面Si相平行的剖面上藉由發(fā)泡4所形成的孔的中心的垂直線，和在背面Sr附近，與背面Sr相平行的剖面相交的位置是位于與背面Sr相平行的剖面上，以相同的發(fā)泡4所形成的孔的外側(cè)上。亦即，如圖2(A)所示，分別為保持面Si附近自保持面Si起相隔50 IOOym程度的內(nèi)側(cè)的位置(箭形符號(hào)a的位置)、胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向中央的位置(箭形符號(hào)b的位置)、以及背面Sr附近自背面Sr起相隔50 100 μ m程度的內(nèi)側(cè)的位置(箭形符號(hào)c的位置)。在這種情況下，如圖2(B)所示，在保持面Si附近的a-a剖面上，藉由發(fā)泡4所形成中心為Ma的孔Ha。同樣地，在胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向中央部的b_b 剖面上，藉由相同的發(fā)泡4形成有中心為Mb的孔Hb，而在背面Sr附近的c-c剖面上，則藉由相同的發(fā)泡4形成有中心為Mc的孔He。孔Ha的中心Ma、孔Hb的中心Mb以及孔Hc的中心Mc并未對(duì)齊于厚度方向上，而是位在相互有所偏移的位置上。亦即，通過(guò)孔Ha的中心 Ma的垂直線L是與c-c剖面相交于交點(diǎn)Q上。因此，交點(diǎn)Q是位于孔Hc的外側(cè)上。此外， 假設(shè)孔Hc的半徑為Re，孔Hc的中心Mc與交點(diǎn)Q間的距離為L(zhǎng)c時(shí)，則距離Lc具有半徑Rc 的2 5倍的大小。在此，針對(duì)胺基甲酸乙酯薄片2所形成的發(fā)泡4的傾斜程度進(jìn)行說(shuō)明。如圖3所示，在沿著胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向的剖面上，在厚度方向中央，與保持面證相平行的剖面(參見(jiàn)圖2(B)的b-b剖面。)上，藉由發(fā)泡4將會(huì)形成中心為Ml的孔。將通過(guò)此中心Ml與厚度方向(圖3的上下方向)正交的方向(圖3的左右方向)的直線，和通過(guò)發(fā)泡4的保持面Si側(cè)的頂點(diǎn)M2，而與胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向的直線間的交點(diǎn)設(shè)為P 時(shí)，則形成以連接中心Ml與頂點(diǎn)M2的連接線段作為斜邊的直角三角形。在此直角三角形中，當(dāng)自中心Ml觀察到頂點(diǎn)M2時(shí)，形成一仰角θ。在胺基甲酸乙酯薄片2的上部層W1上， 此仰角θ是設(shè)成介于30 60度的范圍以形成發(fā)泡4。在這種情況下，假設(shè)連接中心Ml與交點(diǎn)P的連接線段的長(zhǎng)度為X，連接頂點(diǎn)Μ2與交點(diǎn)P的線段的長(zhǎng)度為y時(shí)，則tan θ = y/x 則會(huì)介于0.58 1.73的范圍。在此，仰角θ是使用三次元量測(cè)X射線CT以非破壞方式對(duì)胺基甲酸乙酯薄片2的內(nèi)部剖面進(jìn)行攝影，然后在影像解析裝置中，將中心Ml和頂點(diǎn)Μ2 間加以定位后所得到的數(shù)值。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，沿著濕式成膜時(shí)的長(zhǎng)度方向，對(duì)厚度方向的剖面以掃描型電子顯微鏡進(jìn)行攝影，藉由決定中心Ml和頂點(diǎn)Μ2后算出仰角θ也是可行的。此外，保持墊10在胺基甲酸乙酯薄片2的背面Sr側(cè)上，黏貼有用以將保持墊10 裝設(shè)至研磨機(jī)的雙面膠帶7。雙面膠帶7具有未圖示的基材，并在基材的兩面分別形成有丙烯酸系黏著劑等感壓型黏著劑層(未圖示)。在基材中，得以使用例如聚對(duì)苯二甲酸乙二酯 (以下，簡(jiǎn)稱為PET。)制的薄膜等可撓性薄膜。雙面膠帶7是以基材的其中一面?zhèn)鹊酿ぶ鴦优c胺基甲酸乙酯薄片2相互貼合，另一面?zhèn)?胺基甲酸乙酯薄片2的相反側(cè))的黏著劑層，表面則是以剝離紙8加以覆蓋。此外，此雙面膠帶7的基材，亦可兼作保持墊10的基材。(制造)保持墊10是將藉由濕式凝固法所形成的胺基甲酸乙酯薄片2與雙面膠帶7相互貼合而制造的。亦即，經(jīng)由準(zhǔn)備聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的準(zhǔn)備工序；在成膜基材上涂布聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液，并在凝固液中，使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液凝固而使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂再生的凝固再生工序；將薄片狀的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂加以洗凈，并使其干燥的洗凈/干燥工序；以及使所得到的胺基甲酸乙酯薄片2和雙面膠帶7加以貼合的層壓工序等，進(jìn)而制造出保持墊10。以下，依照各工序順序進(jìn)行說(shuō)明。在準(zhǔn)備工序中，將聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂、可溶解聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的水混和性有機(jī)溶媒及添加劑加以混合而使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶解。以有機(jī)溶媒來(lái)說(shuō)，雖可列舉N， N-二甲基甲酰胺(以下，簡(jiǎn)稱為DMF。)或N，N-二甲基乙酰胺(DMAc)等為例，但在本例中是使用DMF。聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂可自聚酯系、聚醚系、聚碳酸酯系等樹(shù)脂中選擇使用。當(dāng)考慮欲形成上述的發(fā)泡構(gòu)造時(shí)，則可在DMF中使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂以20重量％的比例溶解的樹(shù)脂溶液中，使用B型旋轉(zhuǎn)黏度計(jì)，在25°C下所測(cè)定的黏度是介于3 IOPa. s的范圍，較佳為選定使用介于3 6Pa. s的范圍的樹(shù)脂較為理想。使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂以介于10 30重量％的范圍，較佳為以介于15 25重量％的范圍溶解至DMF中。聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的黏性，除取決于所使用的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的濃度或分子量之外，亦取決于分子構(gòu)造，故將此些因素進(jìn)行綜合考量，進(jìn)行聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的選定或濃度設(shè)定等是極為重要的。此外，就保持墊用的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂而言，100%模量的話使用20MPa 以下者較為適宜，使用IOMPa以下者則更為適宜。藉由使用低模量的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂， 而可提高被研磨物的密接性，并提升保持力。此外，就添加劑來(lái)說(shuō)，為了控制發(fā)泡4的尺寸或量(個(gè)數(shù))及上部層Wi中的傾斜狀的發(fā)泡形成，可使用碳黑等顏料、親水性活性劑及疏水性活性劑等。在此些添加劑中，亦可使用常用的各種材料。將所得到的溶液在減壓下進(jìn)行脫泡，而得到聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液。在凝固再生工序中，將準(zhǔn)備工序中所得到的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液在常溫下利用刀式涂布機(jī)等涂布裝置，在帶狀的成膜基材上略均一地涂布成薄片狀。此時(shí)，可通過(guò)調(diào)整刀式涂布機(jī)等與成膜基材間的間隙(余隙，clearance)，以調(diào)整聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的涂布厚度(涂布量)。在本例中是調(diào)整余隙讓涂布厚度介于0. 8 1. 2mm的范圍。就成膜基材來(lái)說(shuō)，雖可使用樹(shù)脂制薄膜、布帛、不織布等，但在本例中是使用PET制薄膜。將涂布于成膜基材上的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液，連續(xù)地引導(dǎo)至對(duì)于聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂而言為不良溶媒的，以水為主要成分的凝固液(水系凝固液)中。在凝固液中，為了調(diào)整聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的再生速度，雖可添加DMF或DMF以外的極性溶媒等有機(jī)溶媒， 但在本例中是使用水。此外，凝固液的溫度，在本例中是設(shè)定介于15 20°C。在凝固液中， 首先在聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液與凝固液間的界面會(huì)形成皮膜，在皮膜鄰近的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂中，則會(huì)形成無(wú)數(shù)個(gè)構(gòu)成表膚層加的微多孔。之后，藉由朝聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液中的DMF的凝固液中的擴(kuò)散、以及往聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂中的水的浸入的調(diào)和現(xiàn)象， 而進(jìn)行具有連續(xù)發(fā)泡構(gòu)造的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的再生。此時(shí)，由于成膜基材的PET制薄膜是令凝固液無(wú)法浸透的，故DMF與水的置換會(huì)在表膚層加側(cè)發(fā)生，進(jìn)而成膜基材側(cè)會(huì)形成比表膚層加側(cè)還大的發(fā)泡4。在此，針對(duì)伴隨著聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的再生而引發(fā)的發(fā)泡形成進(jìn)行說(shuō)明。在聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂中，因?yàn)槟ψ兇?，故在皮膜鄰近的聚胺基甲酸乙酯?shù)脂中急速地進(jìn)行再生，進(jìn)而形成表膚層加。在本例中，凝固液僅使用水，且凝固液的溫度是設(shè)定成較低溫的15 20°C。因此，在與水接觸的部分，因?yàn)榫郯坊姿嵋阴?shù)脂溶液會(huì)急速地凝固，而在表面會(huì)形成致密的表膚層2a，所以水與DMF間的相互擴(kuò)散將會(huì)受到抑制。另一方面，由于聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的濃度被調(diào)整至介于10 30重量％的范圍，所以使凝固速度變緩。從而，往聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液內(nèi)的水的浸透量將會(huì)變少，使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的再生緩慢地進(jìn)行。此外，聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的黏度則是被調(diào)整至介于3 IOPa. s的范圍。因此，在凝固液中，因?yàn)樵谙惹霸偕傻谋砟w層加側(cè)與不完全的再生狀態(tài)下的成膜基材側(cè)間黏性的差異將會(huì)變大，所以在上部層Wi的發(fā)泡4是呈傾斜地被形成。再者，來(lái)自 DMF的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的去溶媒過(guò)程，亦即藉由DMF與水閑的置換，而形成表膚層 2a、發(fā)泡4及微多孔，表膚層加的微多孔、發(fā)泡4及微多孔系呈網(wǎng)目狀地相互連通。此外，涂布于成膜基材上的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液乃是連續(xù)地被引導(dǎo)至凝固液中。此時(shí)，凝固液中的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的傳送速度設(shè)定介于5 lOm/min。由于此傳送速度與現(xiàn)有習(xí)知的傳送速度(1 2m/min左右)相比較更為快速，所以如圖4(A)所示，在上部層Wi側(cè)上，發(fā)泡4是相對(duì)于成膜基材的進(jìn)行方向(圖4(A)的箭形符號(hào)方向)，朝前方側(cè)傾斜地形成。換言之，上部層Wi中的發(fā)泡4到表膚層加側(cè)的發(fā)泡端部為止的發(fā)泡形成方向是相對(duì)于厚度方向，朝成膜基材的長(zhǎng)度方向，亦即，朝成膜基材上再生的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的長(zhǎng)度方向傾斜地被加以形成。此外，如圖4(B)所示，當(dāng)發(fā)泡4自與聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的長(zhǎng)度方向相交的寬度方向的剖面進(jìn)行觀察時(shí)，是沿著垂直方向，亦即厚度方向而形成的。換言之，發(fā)泡4在上部層Wi乃是相對(duì)于厚度方向，朝固定方向同樣地傾斜而被形成的，在下部層ft"則是沿著厚度方向而被形成的。此外，因?yàn)榫郯坊姿嵋阴?shù)脂在成膜基材上會(huì)被再生，故與成膜基材的表面相接觸而被形成的背面Sr上，并不會(huì)形成有發(fā)泡4的開(kāi)口。在洗凈/干燥工序中，將再生工序中所再生的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂，在水等洗凈液中加以洗凈，以除去殘留在聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂中的DMF后，再使其干燥。關(guān)于聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂的干燥，在本例中，使用內(nèi)部含有熱源的圓筒干燥機(jī)。通過(guò)將聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂沿著圓筒的圓周面通過(guò)以進(jìn)行干燥。將所得到的胺基甲酸乙酯薄片2卷取呈卷軸狀。在層壓工序中，使利用濕式凝固法所制作的胺基甲酸乙酯薄片2與雙面膠帶7相互貼合。此時(shí)，讓胺基甲酸乙酯薄片2的背面Sr與雙面膠帶7相互貼合。接下來(lái)，再裁切成圓形或多角形等所需的形狀、尺寸后，再進(jìn)行確認(rèn)是否有損傷亦或是附著有臟污或異物等的檢查，使保持墊10加以完成。(作用等)接下來(lái)，針對(duì)本實(shí)施形態(tài)的保持墊10的作用等進(jìn)行說(shuō)明。為使說(shuō)明便于理解，針對(duì)藉由現(xiàn)有習(xí)知的濕式凝固法所形成的胺基甲酸乙酯薄片的發(fā)泡構(gòu)造進(jìn)行說(shuō)明。在現(xiàn)有習(xí)知的濕式凝固法中，在PET制薄膜等成膜基材上所涂布的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液是在水等凝固液中進(jìn)行凝固。因此，如圖5所示，在構(gòu)成現(xiàn)有習(xí)知的保持墊20的胺基甲酸乙酯薄片12中，在濕式凝固時(shí)初期所形成的表膚層1 更為內(nèi)側(cè)上，會(huì)形成有橫跨胺基甲酸乙酯薄片12全體厚度的多個(gè)發(fā)泡14。此發(fā)泡14在保持面證側(cè)會(huì)比背面Sr側(cè)的徑長(zhǎng)更為縮減，并沿著厚度方向朝垂直方向而被形成。此外，在胺基甲酸乙酯薄片12中，在保持面Si附近通過(guò)與保持面Si相平行的剖面上藉由發(fā)泡14所形成的孔的中心的垂直線，和在背面Sr附近與背面Sr相平行的剖面相交的位置是位于與背面Sr相平行的剖面上，以相同的發(fā)泡14所形成的孔的內(nèi)部。亦即， 如圖6 (A)所示，分別為在保持面Si附近的自保持面Si相距50 100 μ m程度內(nèi)側(cè)的位置(箭形符號(hào)1的位置)、胺基甲酸乙酯薄片12的厚度方向中央的位置(箭形符號(hào)m的位置)、以及在背面Sr附近的自背面Sr相距50 100 μ m程度內(nèi)側(cè)的位置(箭形符號(hào)η的位置)。在這種情況下，如圖6(B)所示，在保持面Si附近的1-1剖面上，藉由發(fā)泡14所形成中心為Ma的孔Ha。同樣地，在胺基甲酸乙酯薄片12的厚度方向中央部的m_m剖面上，藉由相同的發(fā)泡14形成有中心Mb的孔Hb，而在背面Sr附近的n-n剖面上，則藉由相同發(fā)泡14 形成有中心為Mc的孔He?？譎a的中心Ma、孔Hb的中心Mb及孔Hc的中心Mc是大致對(duì)齊于厚度方向上。亦即，通過(guò)孔Ha的中心Ma的垂直線L是與n-n剖面相交于交點(diǎn)Q上。因此，交點(diǎn)Q是位于孔Hc的內(nèi)部。就使用這種胺基甲酸乙酯薄片12的現(xiàn)有習(xí)知的保持墊20而言，當(dāng)在研磨加工時(shí)施加研磨壓時(shí)，由于被研磨物會(huì)凹陷至保持墊20側(cè)，所以因具有緩沖性的胺基甲酸乙酯薄片12被壓縮而對(duì)研磨物產(chǎn)生應(yīng)力。在保持墊20的密度不均的情況下，亦即，在發(fā)泡14的形成上有不均勻的情況下，在密度不均部分上，各別施加于被研磨物上的應(yīng)力大小亦隨之相異。因此，由于對(duì)被研磨物的按壓力會(huì)局部性地變化，因而難以對(duì)被研磨物的加工面全體進(jìn)行均一地研磨加工。其結(jié)果，研磨加工后的被研磨物中，例如在外緣部與中央部間的研磨裕度將會(huì)有所不同，而產(chǎn)生所謂外緣壓陷的現(xiàn)象。換言之，使用保持墊20保持被研磨物以進(jìn)行研磨加工，會(huì)損及加工面的平坦性。從而，就現(xiàn)有習(xí)知的保持墊20來(lái)說(shuō)，仍不可謂已充分滿足了無(wú)缺陷的多層配線的高集積化或演出高畫(huà)質(zhì)影像等需求為目的的半導(dǎo)體用WF或 FPD用玻璃基板所要求之高精度的平坦性。相對(duì)于此，在本實(shí)施形態(tài)中，胺基甲酸乙酯薄片2所形成的發(fā)泡4，在上部層W1是相對(duì)于厚度方向而朝固定方向同樣地傾斜所形成，而在下部層ft"則是沿著厚度方向而形成。因此，即使在濕式凝固時(shí)胺基甲酸乙酯薄片2發(fā)生密度不均的現(xiàn)象，在研磨加工中遭到壓縮時(shí)，仍可均等化相對(duì)于被研磨物所產(chǎn)生的應(yīng)力。此可考慮為由于發(fā)泡4的形狀是相對(duì)于在下部層ft"的形成位置，保持面Si側(cè)的位置有所偏移的緣故所致。亦即，在保持面Si 相對(duì)于所承受的壓縮力而言，可考慮為藉由全面地伸縮在下部層ft"側(cè)相互鄰接而形成的多個(gè)發(fā)泡4，繼而可使密度不均的影響不會(huì)被顯著化，并減低施予被研磨物上的應(yīng)力分布不均為其理由。從而，由于保持面的平坦性精度可被提高，對(duì)被研磨物的應(yīng)力可被均等化，故可使被研磨物的面內(nèi)均一性提升，進(jìn)而可達(dá)到高度的平滑化。此外，在發(fā)泡4是自上部層W1橫跨下部層ft"而全體傾斜地形成的情況下，因研磨加工時(shí)的壓縮力所造成的保持墊本身呈剖面斜方狀地變形，而使相對(duì)于被研磨物的應(yīng)力變得難以均等化。在發(fā)泡4不是朝固定方向同樣地傾斜而形成，而是隨機(jī)傾斜而形成的情況下，就算發(fā)泡4在下部層ft·肥大化，反而會(huì)有應(yīng)力不均增大的疑慮。相對(duì)于此，在本實(shí)施形態(tài)中，發(fā)泡4因?yàn)槭浅潭ǚ较蛲瑯拥貎A斜所形成，故可減低應(yīng)力不均，進(jìn)而可使被研磨物的平坦性提升。再者，在本實(shí)施形態(tài)中，在以發(fā)泡4中的中心Ml與頂點(diǎn)M2的連接線段作為斜邊的直角三角形中，當(dāng)自中心Ml觀察到頂點(diǎn)M2時(shí)的仰角θ是介于30 60度的范圍，亦即，以 tan θ是介于0.58 1.73的范圍內(nèi)形成發(fā)泡4。因此，因?yàn)橄鄬?duì)于保持面Si的局部性的壓縮力會(huì)因在下部層ft"側(cè)相互鄰接而形成的多個(gè)發(fā)泡4而得以被緩和，故可確實(shí)地減低相對(duì)于被研磨物的應(yīng)力不均。若考慮欲使被研磨物的面內(nèi)均一性提升時(shí)，則以仰角θ是介于 40 55度的范圍，亦即，以tan θ是介于0. 84 1. 43的范圍內(nèi)來(lái)形成發(fā)泡4較為適宜。再者，在本實(shí)施形態(tài)中，發(fā)泡4是以在下部層ft·的孔徑大于在上部層Wi的孔徑的方式而被形成。因此，在進(jìn)行研磨加工中施加研磨壓被時(shí)，可以確保緩沖性。此外，由于發(fā)泡4在上部層Wi是傾斜地形成，故施加在被研磨物上的研磨壓可被均等化，而可抑制朝被研磨物的保持墊10側(cè)的凹陷狀況。因此，相對(duì)于當(dāng)陷入變大，保持墊本身會(huì)遭研削的情況， 保持墊20本身被研削的情況可被抑制。據(jù)此，可一邊確保保持面證的平坦性，一邊謀得被研磨物的平坦性提升。再者，通常在研磨加工中，為了使保持面的平坦性提升，會(huì)需要一段運(yùn)轉(zhuǎn)適應(yīng)時(shí)間。相對(duì)于此，在使用保持墊20的研磨加工中，由于保持面Si的平坦性可被確保，故可達(dá)到運(yùn)轉(zhuǎn)適應(yīng)時(shí)間的縮短化，并提高生產(chǎn)效率等目的。此外，在本實(shí)施形態(tài)中，構(gòu)成保持墊20的胺基甲酸乙酯薄片2雖僅例示聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂制的例子，但本發(fā)明并未受此所限。就保持墊20來(lái)說(shuō)，只要具備有樹(shù)脂制的薄片即可，或具有用以保持被研磨物的緩沖性或適當(dāng)?shù)挠捕燃纯伞＞蜆?shù)脂制薄片來(lái)說(shuō)，使用聚酯或聚乙烯等以取代聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂亦可。如考慮到緩沖性或硬度等，則具有藉由濕式凝固法所形成的發(fā)泡構(gòu)造的薄片較為適宜。此外，在本實(shí)施形態(tài)中，藉由改變濕式凝固法中的條件，例如聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的濃度或溫度、在凝固液中的傳送速度等，而可以改變上部層Wi與下部層ft"間的厚度比例。亦即，就胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向中央部來(lái)說(shuō)，相對(duì)于胺基甲酸乙酯薄片2的全體厚度，可以在距厚度方向的中心起士 10%的范圍進(jìn)行變化。如考慮欲確保研磨加工時(shí)的緩沖性或減低相對(duì)于被研磨物的應(yīng)力不均時(shí)，則將上部層Wi與下部層ft·的交界設(shè)在位于胺基甲酸乙酯薄片2的厚度方向的大致中央處較為適宜。再者，在本實(shí)施形態(tài)中，就基材來(lái)說(shuō)雖以具有PET制薄膜，在基材的兩面上形成有黏著劑層的雙面膠帶7加以例示，但本發(fā)明并不受限于此基材或黏著劑的材質(zhì)。就保持墊來(lái)說(shuō)，僅須具備胺基甲酸乙酯薄片2即可，例如僅將各種黏著劑涂抹于胺基甲酸乙酯薄片 2(的背面Sr)來(lái)取代雙面膠帶7亦可。此外，在本實(shí)施形態(tài)中，雖例示了雙面膠帶7的基材可兼作為保持墊10的基材的例子，但本發(fā)明并未受限于此，亦可設(shè)成于胺基甲酸乙酯薄片2與雙面膠帶7間貼合其他支撐材。就這種支撐材來(lái)說(shuō)并無(wú)特別限制，可舉出PET制的薄膜等或不織布等為例。再者，雖例示了聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的溶媒、成膜基材、凝固液等具體例，但本發(fā)明未受此所限，當(dāng)然使用其他常用的材料亦可。此外，在本實(shí)施形態(tài)中雖未特別提及，但在藉由濕式凝固法所形成的胺基甲酸乙酯薄片2的厚度不均變大時(shí)，為了讓保持面Si與背面Sr可相互平行，將背面Sr側(cè)利用拋光或切片等方法事先進(jìn)行平滑化者較為適宜。如此一來(lái)，可使保持面證的平坦性進(jìn)一步提升。實(shí)施例接著，針對(duì)依照本實(shí)施形態(tài)所制造的保持墊10的實(shí)施例進(jìn)行說(shuō)明。此外，一并記載為進(jìn)行比較用所制造的比較例。(實(shí)施例1)在實(shí)施例1中，在胺基甲酸乙酯薄片2的制作中使用聚酯MDI (二苯基甲烷二異氰酸酯)聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂，相對(duì)于在DMF中以20重量％的比例而溶解的溶液取100部，添加45部的DMF、及含有20重量％的碳黑作為顏料的DMF分散液40部加以混合以調(diào)制聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液。所得到的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的黏度為3. 4Pa. S。此黏度是以旋轉(zhuǎn)黏度計(jì)(東機(jī)產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制，TVB-10型)并使用No. M3的旋轉(zhuǎn)器，在25°C的溫度環(huán)境下所測(cè)定的數(shù)值。在涂布聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液時(shí)，將涂布裝置的余隙設(shè)定成1.0mm。 在PET制薄膜的成膜基材上涂布了聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液后，連續(xù)地弓I導(dǎo)至溫度20 V的水(凝固液)內(nèi)。此時(shí)，將聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的傳送速度(傳輸線速度)設(shè)定為7m/ min，使聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂得以完全再生。經(jīng)洗凈/干燥后，在所得到的胺基甲酸乙酯薄片2的背面Sr側(cè)進(jìn)行拋光，使雙面膠帶7貼合至拋光面而制造出保持墊10。(實(shí)施例2)在實(shí)施例2中，除了將聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的傳輸線速度設(shè)定成5m/min以夕卜，其他皆與實(shí)施例1相同地制作胺基甲酸乙酯薄片2，并制造出保持墊10。所使用的聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的黏度為3. 2Pa. s。(比較例1)在比較例1中，除了使聚酯MDI聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂以30重量％的比例溶解至 DMF、在凝固液中的傳輸線速度設(shè)定成1. 5m/min以外，其他皆與實(shí)施例1相同地制作胺基甲酸乙酯薄片12，并制造出保持墊20。聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂溶液的黏度為8. 2Pa.s。亦即，比較例1的保持墊20乃是現(xiàn)有習(xí)知的保持墊(亦可參見(jiàn)圖5)。針對(duì)所得到的實(shí)施例1及比較例1的胺基甲酸乙酯薄片，在三次元量測(cè)X射線CT 裝置中，以非破壞方式將內(nèi)部構(gòu)造加以可視化，藉以比較發(fā)泡的形成狀態(tài)。亦即，使用三次元量測(cè)X射線CT裝置(Yamoto科學(xué)制，TDM1000-IS/SP)進(jìn)行掃描以取得自保持面Si起相距10 μ m間隔的連續(xù)斷層影像。將所取得的斷層影像，以SEM用影像解析軟體「Scandium」 (Olympus Soft -Imaging Solutions社制)加以讀取，針對(duì)所注目的其中一個(gè)發(fā)泡4 (在比較例1中則指發(fā)泡14。以下亦同。)，求得各剖面影像的發(fā)泡中心(重心)。其次，由發(fā)泡 4的頂點(diǎn)M2所被觀察到的剖面影像的保持面Si間的距離、以及在厚度方向中央，與中心為 Ml的孔所形成的剖面影像的保持面Si間的距離以求得二個(gè)剖面間的距離y。此外，將通過(guò)中心Ml與厚度方向正交的方向的直線，和通過(guò)頂點(diǎn)M2的厚度方向的直線間的交點(diǎn)設(shè)為P 時(shí)，求得中心Ml與交點(diǎn)P間的距離為x(亦可參見(jiàn)圖3)。由所求得的距離χ與距離y的數(shù)值而求得tan θ的值，在實(shí)施例1、實(shí)施例2中分別為0. 93、1. 28，在比較例1中則為9. 51。 由所求得tan θ的值換算成為發(fā)泡的傾斜角即仰角θ后，在實(shí)施例1、實(shí)施例2分別可得 43度、52度，在比較例1則為84度，藉而可以得知實(shí)施例1、實(shí)施例2的發(fā)泡與比較例1的發(fā)泡相比更為傾斜的結(jié)果。藉由連續(xù)斷層影像解析的tan θ的測(cè)定結(jié)果可明清楚知道，在比較例1的胺基甲酸乙酯薄片12中，發(fā)泡是橫跨全體厚度沿著厚度方向形成(亦可參見(jiàn)圖 6)。亦即，由厚度方向中央部到表膚層側(cè)，雖可觀察到稍微傾斜的狀態(tài)，但發(fā)泡形成方向是大致沿著厚度方向而形成的。相對(duì)于此，在實(shí)施例1的胺基甲酸乙酯薄片2中，可得知在上部層Wi的發(fā)泡形成方向與比較例1相比較更為傾斜的結(jié)果(亦可參見(jiàn)圖2)。(研磨性能評(píng)價(jià))使用各實(shí)施例及比較例的保持墊，依下述的研磨條件，進(jìn)行液晶顯示器用玻璃基板G70mmX 370mmΧ0. 7mm)的研磨加工，以依據(jù)日本工業(yè)規(guī)格(JIS B0601 ，82)為基準(zhǔn)的方法，自濾波中心起伏求得平坦度a。在平坦度a的測(cè)定中，使用表面粗度形狀測(cè)定機(jī)(株式會(huì)社東京精密制，surfCOm480A)，依下述的測(cè)定條件進(jìn)行測(cè)定。自起因于基板表面的凹凸所獲得的測(cè)定曲線，算出相鄰的凸部(山部)與凸部間的寬度W，以及凸部與凹部(谷部) 間的高度S，并作成以寬度W為橫軸，高度S為縱軸的散布圖。自散布圖求出一次方程式S=aW的近似直線，將斜度a設(shè)為研磨加工后的最終平坦度a。因平坦性越高，則寬度W變得越大，且高度S變得越小，故當(dāng)斜度a越小時(shí)，則平坦性越顯優(yōu)異。(研磨條件)使用研磨機(jī)0SCAR研磨機(jī)(SPEEDFAM社制，SP-1200)研磨速度(旋轉(zhuǎn)數(shù))61rpm加工壓力100g/cm2研磨漿鈰漿料研磨時(shí)間30min(濾波中心起伏測(cè)定條件)評(píng)價(jià)長(zhǎng)度90mm測(cè)定速度3.Omm/s截止值0· 8 8. Omm濾波種類2RC測(cè)定范圍士40·0μπι傾斜補(bǔ)償平滑曲線經(jīng)比較分別使用實(shí)施例1、實(shí)施例2的保持墊10以及比較例1的保持墊20而進(jìn)行研磨加工后的平坦度a，可知研磨時(shí)間經(jīng)30分鐘后，在實(shí)施例1、實(shí)施例2中分別示出了 0. 0004,0. 0006，而在比較例1中則示出了 0. 0012的結(jié)果。亦即，實(shí)施例1及實(shí)施例2，與比較例1相比較，可使最終平坦度a提升。因此，可清楚得知使用具備藉由濕式凝固法而形成的發(fā)泡4，在上部層W1是相對(duì)于厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成，而在下部層ft·則是沿厚度方向而形成的胺基甲酸乙酯薄片2的保持墊10能夠使保持面之平坦性精度提高， 且同時(shí)可使被研磨物的面內(nèi)均一性提升。產(chǎn)業(yè)上的利用可能性本發(fā)明由于是提供一種能提高保持面的平坦性精度，并提升被研磨物的面內(nèi)均一性的保持墊的發(fā)明，故在保持墊的制造、販?zhǔn)凵暇哂胸暙I(xiàn)，所以具有產(chǎn)業(yè)上的利用可能性。
權(quán)利要求
1.一種保持墊，其特征在于具備藉由濕式凝固法而形成有橫跨全體厚度大小的多個(gè)縱型發(fā)泡，用以保持被研磨物的保持面的樹(shù)脂薄片的所述的保持墊中，所述的發(fā)泡自所述的樹(shù)脂薄片的厚度方向中央部到所述的保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止，所述的發(fā)泡的形成方向是相對(duì)于所述的厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成的。
2.如權(quán)利要求1所述的保持墊，其特征在于所述的樹(shù)脂薄片的厚度方向中央部是相對(duì)于全體厚度，自所述的厚度方向的中心起介于士 10%的范圍。
3.如權(quán)利要求2所述的保持墊，其特征在于所述的發(fā)泡自所述的厚度方向中央部起， 到所述的保持面的背面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的徑長(zhǎng)，大于到所述的保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止的徑長(zhǎng)。
4.如權(quán)利要求3所述的保持墊，其特征在于所述的發(fā)泡自所述的厚度方向中央部到所述的保持面的背面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止，所述的發(fā)泡的形成方向是沿所述的厚度方向而形成的。
5.如權(quán)利要求4所述的保持墊，其特征在于所述的發(fā)泡在所述的保持面附近，通過(guò)與所述的保持面相平行的剖面上所形成的孔的中心的垂直線，和在所述的保持面的背面附近，與所述的背面相平行的剖面相交的位置是位于與所述的背面相平行的剖面上，以相同的發(fā)泡所形成的孔的外側(cè)上。
6.如權(quán)利要求4所述的保持墊，其特征在于所述的發(fā)泡于所述的厚度方向中央，在以連接與所述的保持面相平行的剖面上所形成的孔的中心(Ml)，和所述的保持面?zhèn)鹊捻旤c(diǎn) (M2)的連接線段當(dāng)作斜邊的直角三角形中，當(dāng)自所述的中心(Ml)觀察到所述的頂點(diǎn)(M2) 的仰角以θ表示時(shí)，所述的仰角θ是設(shè)成介于30度 60度的范圍而形成的。
7.如權(quán)利要求1所述的保持墊，其特征在于所述的樹(shù)脂薄片是藉由濕式凝固法而形成為長(zhǎng)條狀的薄片，所述的發(fā)泡自所述的厚度方向中央部到所述的保持面?zhèn)鹊陌l(fā)泡端部為止，發(fā)泡形成方向是相對(duì)于所述的厚度方向沿所述的樹(shù)脂薄片的長(zhǎng)度方向傾斜而形成的。
8.如權(quán)利要求7所述的保持墊，其特征在于所述的發(fā)泡是在與所述的長(zhǎng)度方向相交叉的寬度方向上，沿所述的厚度方向而形成的。
9.如權(quán)利要求8所述的保持墊，其特征在于所述的發(fā)泡自與所述的長(zhǎng)度方向相交叉的寬度方向的剖面觀察時(shí)，是沿垂直方向而形成的。
10.如權(quán)利要求7所述的保持墊，其特征在于所述的樹(shù)脂薄片為聚胺基甲酸乙酯樹(shù)脂制，所述的發(fā)泡間是呈微多孔狀而形成的。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可以提高保持面的平坦性精度，并能提升被研磨物的面內(nèi)均一性的保持墊。保持墊(10)具備藉由濕式凝固法而形成的保持面(Sh)的胺基甲酸乙酯薄片(2)。在胺基甲酸乙酯薄片(2)中，形成有表膚層(2a)，而在比表膚層2a更為內(nèi)側(cè)上，則形成有多個(gè)發(fā)泡(4)。發(fā)泡(4)具有大致橫跨胺基甲酸乙酯薄片(2)的全體厚度的大小。發(fā)泡(4)在胺基甲酸乙酯薄片(2)的下部層(Pr)的孔徑是形成比上部層(Ph)的孔徑更大。發(fā)泡(4)在上部層(Ph)的發(fā)泡形成方向是相對(duì)于厚度方向朝固定方向同樣地傾斜而形成的，而于下部層Pr的發(fā)泡形成方向則是沿厚度方向而形成的。因研磨加工時(shí)的壓縮使施于被研磨物的應(yīng)力得以被均等化。
文檔編號(hào)H01L21/304GK102481679SQ20098016074
公開(kāi)日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2009年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月3日
發(fā)明者久米貴宏, 佐藤章子, 川村佳秀 申請(qǐng)人:富士紡控股公司