專利名稱：清潔裝置的制作方法
技術領域：
所描述的技術總體上涉及一種清潔裝置。更具體地，所描述的技術涉及一種用于清除附著到清潔目標對象的雜質顆粒的清潔裝置。
背景技術：
通常，當形成用于有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器中的有機發(fā)光元件的有機材料層時，采用使用金屬掩模的沉積工藝。為了制造高質量的有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器，重要的一點是清潔金屬掩模。 其原因是，如果來自周圍環(huán)境的或沉積工藝中涂覆的有機材料的污染物顆粒沒有被徹底清除而是留在金屬掩模的表面上，則不能正常執(zhí)行有機材料的期望的沉積工藝，使得產(chǎn)率會受到影響。該背景部分中公開的上述信息僅僅是為了增強對所描述的技術的背景的理解，因此，上述信息可 包含不形成對于該國本領域普通技術人員來說已知的現(xiàn)有技術的信息。

發(fā)明內容
本發(fā)明包括一種能夠使清潔目標對象有效地清潔的清潔裝置。根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置包括電解質清潔溶液池，填充有至預定高度的清潔溶液；負電極，設置在清潔溶液池內；金屬夾具，安裝有金屬掩模，并引導金屬掩模使得金屬掩模連接到所述負電極，所述金屬掩模用于制造有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器；正電極，與金屬掩模一起以預定間隔安裝在電解質清潔溶液池內部；整流裝置，電連接到所述負電極和所述正電極。所述清潔裝置還可包括負極母線，安裝在清潔溶液池的下部，用于將由整流裝置提供的負電壓輸送到負電極；彈性構件，安裝在負極母線上，并接觸所述負電極。金屬夾具的上部可被連接到懸在電解質清潔溶液池池的一端上方的握持桿。所述清潔裝置還可包括機器人，用于將金屬夾具水平地和豎直地移動到預定位置，從而通過形成在清潔溶液池的上部中的入口將金屬夾具裝載到清潔溶液池內以及從所述清潔溶液池內卸載所述金屬夾具；遙控裝置，用于通過預定的程序的方式遙控所述整流裝置和機器人；顯示裝置，用于顯示遙控裝置和整流裝置的狀態(tài)。多個所述正電極可安裝在清潔溶液池的內表面上，與金屬夾具保持一定間隔，所述正電極可被設置為面對金屬掩模。 所述清潔裝置還可包括蓋子，所述蓋子用于覆蓋清潔溶液池的上部入口，所述蓋子可連接到排放線路，所述排放線路用于排放在清潔溶液池中產(chǎn)生的氣體，所述排放線路可安裝有用于檢測通過排放線路的氣體的濃度的氣體比重計。所述氣體比重計可以是用于檢測氫氣濃度的氫氣比重計。所述清潔裝置還可包括設置在金屬掩模和金屬夾具之間的絕緣構件。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以在負電極接觸清潔目標對象的狀態(tài)下容易地清潔金屬掩模。此外，可通過使用機器人將所述金屬掩模容易地裝載到清潔溶液池的預定位置， 艮口，位于安裝在清潔溶液池的下部的負極母線處。


通過參 照下面結合附圖進行的詳細描述，本發(fā)明的更完整的理解及隨之而來的多種優(yōu)點將會隨著本發(fā)明變得更好理解而顯而易見，在附圖中，類似的標號指示相同或類似的組件，其中圖1是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的內部示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的總體系統(tǒng)示意圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的內部側視圖以及局部詳細示圖；圖4A是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的內部主視圖；圖4B是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的側視圖。
具體實施例方式在下文中，將參照附圖更全面地描述本發(fā)明，附圖中示出了本發(fā)明的示例性實施例。如本領域技術人員所了解的，可以以各種不同的方式來修改所描述的實施例，所有這些均不脫離本發(fā)明的精神或范圍。為了清楚地描述本發(fā)明，省略了與描述無關的部分，在整個說明書中，類似的標號指示類似的元件。此外，由于為了更好地理解以及易于描述，圖中示出的各個構成元件的尺寸和厚度被任意地圖解，因此，本發(fā)明不必受限于該圖解。在附圖中，為了清楚起見，夸大了層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。應該理解的是，當諸如層、膜、區(qū)域或基底的元件被描述為“位于”另一元件“上”時，該元件可以直接位于另一元件上，或者可存在中間元件。相反，當元件被描述為“直接位于”另一元件“上”時，不存在中間元件。圖1是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的示意圖。參照圖1，該清潔裝置包括正電極140、作為清潔目標對象的金屬掩模100、清潔溶液120 (例如，電解質溶液)、負極母線(negative bus bar) 150、彈性構件170、容納負電極 180的清潔溶液池130、電連接到正電極140和負電極180的整流裝置110。支撐件197安裝在清潔溶液池130的底表面上，由止動器195支撐的握持桿190安裝在清潔溶液池130 的上部。清潔溶液120填充在清潔溶液池130中至預定的高度，并且安裝了浸沒在清潔溶液120中的金屬夾具105。作為清潔目標對象的不銹鋼或不脹鋼材料的金屬掩模100被固定并安裝到金屬夾具105上。這里，清潔目標對象可以是需要清除雜質顆粒的合適的清潔目標對象以及能夠用在電子裝置(例如，有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器)的制造工藝中的金屬掩模。由支撐件197支撐的負極母線150被固定并安裝在清潔溶液池130的內下部。如圖中所示，支撐件I97的一端固定到清潔溶液池130的底表面，并安裝在清潔溶液池130的內部。然而，支撐件197的所述一端可固定到清潔溶液池的側表面。由彈性構件170彈性地支撐的負電極180設置在負極母線150的上部，引導件160 可相對于彈性構件170和負電極180設置在兩側上?？筛鶕?jù)清潔裝置的設計規(guī)范選擇性地設置該引導件160。為了將安裝有金屬掩模100的金屬夾具105安裝在清潔溶液池130的內部，如果金屬夾具105沿著從清潔溶液池130的上部到清潔溶液池130的下部的方向移動，則金屬掩模100的下部橫截面表面附著到負電極180。用于使金屬掩模100和金屬夾具105絕緣的絕緣構件107設置在金屬掩模100和金屬夾具105之間。在這種情況下，彈性構件170將負電極180彈性地附著到金屬掩模100。握持桿190設置在金屬夾具105的上部，握持桿190由形成在清潔溶液池130的上部上的止動器195支撐。因此，金屬夾具105被強有力地支撐在清潔溶液池130中的預定位置處。此外，當金屬夾具105從清潔溶液池130的上部向著清潔溶液池130的下部移動時，引導件160引導金屬夾具105的移動，使得金屬掩模100和負電極180平滑接觸。如圖1中所示，多個正電極140設置在金屬夾具105的兩側上，從而靠近或附著到清潔溶液池130的兩內側表面。本示例性實施例為多個正電極140靠近清潔溶液池130的內側表面、與金屬夾具105保持一定間隔的情形。這里，多個正電極140被設置為面對金屬掩模100，正電極140與金屬掩模100 —起以預定間隔安裝在清潔溶液池130內部。電連接到負極母線150和正電極140的整流裝置110安裝在清潔溶液池130的外部，整流裝置Iio對負極母線150施加負電壓，對正電極140施加正電壓。施加到負極母線150的負電壓通過彈性構件170和負電極180被傳送到金屬掩模 100。圖2是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的總體系統(tǒng)示意圖。參照圖2，機器人 200設置在清潔溶液池130的上部，機器人200在三維空間內沿著縱向和橫向移動金屬夾具 105，從而將金屬夾具105裝載到清潔溶液池130內部的預定位置以及從清潔溶液池130內卸載金屬夾具105。整流裝置110連接到遙控裝置210，遙控裝置210連接到用于顯示遙控裝置210和整流裝置Iio的狀態(tài)的顯示裝置220。此外，可根據(jù)預定程序通過遙控裝置210來控制機器人 200。如圖所示，蓋子230可安裝在清潔溶液池130的上部入口處，蓋子230可由機器人 200安裝，使得清潔溶液池130的上部入口被關閉并密封。圖3是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的內部側視圖和局部詳細示圖。參照圖3，彈性構件170安裝在負極母線150上，負電極180設置在彈性構件170 的端部。彈性構件170具有彎曲成半圓的板簧形狀，從而負電極180彈性地附著到金屬掩模100上。在示例性實施例中，當金屬夾具105進入清潔溶液池130中并且金屬夾具105的一端接觸負極母線150從而被支撐時，握持桿190接觸止動器195，從而金屬夾具105以持久狀態(tài)設置在清潔溶液池130內。
圖4A是根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的清潔裝置的內部主視圖，圖4B是根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的清潔裝置的側視圖。參照圖4A和圖4B，優(yōu)選的是，安裝在清潔溶液池130的上部入口處的蓋子230具有用于密封上部入口的結構，使得清潔溶液池130內可能產(chǎn)生的氣體不會逸出。此外，蓋子230連接到用于排放清潔溶液池130的內部產(chǎn)生的反應氣體的排放線路400.，排放線路400可安裝有氫氣比重計410。因此，在清潔溶液120清洗金屬掩模100的過程中在清潔溶液120中產(chǎn)生的氫氣通過排放線路400被排放，氫氣比重計410檢測氫氣的濃度，并將檢測到的濃度傳輸給遙控裝置210，顯示裝置220可顯示與該濃度相應的值。在示例性實施例中，清潔裝置可通過利用通過排放線路400移動的氫氣的濃度來檢測金屬掩模的清潔狀態(tài)。如上所述，可通過使用機器人將金屬夾具105容易地裝載在清潔溶液池130的預定位置處，即，位于安裝在清潔溶液池130的下部的負極母線150處。此外，彈性構件170將金屬掩模100彈性地附著到安裝在負極母線150上的負電極180，從而穩(wěn)定地施加電壓，并且可通過利用安裝在排放線路400上的氫氣比重計410來容易地確定清潔狀態(tài)。雖然已經(jīng)結合現(xiàn)在被認為是實踐性的示例性實施例描述了本公開，但是，應該理解的是本發(fā)明不限于該公開的實施例。相反，本發(fā)明意在覆蓋包含在權利要求的精神和范圍內的各種變型和等同設置。
權利要求
1.一種清潔裝置，包括清潔溶液池，填充有至預定高度的清潔溶液； 負電極，設置在清潔溶液池內部；金屬夾具，用于將金屬掩模安裝到其一側，并引導金屬掩模使得金屬掩模連接到所述負電極，所述金屬掩模用于制造有機發(fā)光二極管顯示器；正電極，與金屬掩模一起以預定間隔安裝在清潔溶液池內部； 整流裝置，電連接到所述負電極和所述正電極。
2.如權利要求1所述的清潔裝置，還包括負極母線，安裝在清潔溶液池的下部，用于將由整流裝置提供的負電壓輸送到所述負電極；彈性構件，安裝在負極母線處，用于接觸所述負電極。
3.如權利要求1所述的清潔裝置，其中，金屬夾具的上部被連接到懸在清潔溶液池的一端上方的握持桿。
4.如權利要求1所述的清潔裝置，還包括機器人，用于將金屬夾具水平地和豎直地移動到預定位置，從而通過形成在清潔溶液池的上部的入口將金屬夾具裝載到清潔溶液池內以及從所述清潔溶液池內卸載所述金屬夾具；遙控裝置，用于根據(jù)預定的程序遙控所述整流裝置和機器人； 顯示裝置，用于顯示遙控裝置和整流裝置的狀態(tài)。
5.如權利要求1所述的清潔裝置，其中，所述正電極安裝在清潔溶液池的內表面上，與金屬夾具保持一定間隔，所述正電極被設置為面對金屬掩模。
6.如權利要求1所述的清潔裝置，還包括蓋子，所述蓋子覆蓋清潔溶液池的上部入口， 其中，所述蓋子連接到排放路線，所述排放路線用于排放清潔溶液池內產(chǎn)生的氣體，所述排放線路安裝有用于檢測通過排放線路的氣體的濃度的氣體比重計。
7.如權利要求6所述的清潔裝置，其中，所述氣體比重計是用于檢測氫氣濃度的氫氣比重計。
8.如權利要求1所述的清潔裝置，還包括設置在金屬掩模和金屬夾具之間的絕緣構件。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種清潔裝置，該清潔裝置包括清潔溶液池，填充有至預定高度的清潔溶液；負電極，設置在清潔溶液池內部；金屬夾具，安裝有金屬掩模，用于引導金屬掩模使得金屬掩模連接到所述負電極，所述金屬掩模用于制造有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器；正電極，與金屬掩模一起以預定間隔安裝在清潔溶液池內部；整流裝置，電連接到所述負電極和所述正電極。
文檔編號H01L51/56GK102332538SQ20111019504
公開日2012年1月25日 申請日期2011年7月7日 優(yōu)先權日2010年7月12日
發(fā)明者黃仁錫 申請人:三星移動顯示器株式會社