專利名稱：屏蔽機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及半導體、太陽能技術(shù)中硅材料的清洗，特別是涉及一種用于屏蔽酸霧水霧的屏蔽機構(gòu)。
背景技術(shù)：
在半導體、太陽能技術(shù)中，都會涉及到對硅材料的清洗，清洗設(shè)備中，經(jīng)常通過腐蝕來實現(xiàn)對硅表面的工藝要求，而自動設(shè)備通常通過水平和豎直兩個方向的機械臂來實現(xiàn)負載的運動，這就不可避免的形成機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)的聯(lián)通，機械臂傳動部分由于強度上的要求，必須采用金屬材料，其耐腐蝕性能較差，使用一段時間后，會出現(xiàn)酸霧、水霧由腐蝕工藝區(qū)溢出至傳動區(qū)內(nèi)，造成金屬材料銹蝕、失效，出現(xiàn)設(shè)備自動運行的故障，而簡單的物理隔離不能保證良好的屏蔽效果，反而引入污染。

實用新型內(nèi)容(一)要解決的技術(shù)問題本實用新型要解決的技術(shù)問題是在對硅材料進行腐蝕處理時，如何避免對機械臂傳動部分的腐蝕，而又不會對傳動部分帶來負面影響。( 二 )技術(shù)方案為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種屏蔽機構(gòu)，其包括屏蔽帶，設(shè)置為矩形框結(jié)構(gòu)，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設(shè)置，上邊框不超過機械臂的頂端。其中，包括隔板和支撐架，所述隔板與機械臂水平導軌并列設(shè)置，隔板上設(shè)置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與下邊框的交接處分別跨過該滾輪；所述支撐架上也設(shè)置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與上邊框的交接處分別跨過該滾輪。其中，所述隔板上設(shè)置有壓條，壓條位于屏蔽帶下邊框的兩側(cè)，對屏蔽帶下邊框限位。其中，所述支撐架上設(shè)置有托板，屏蔽帶上邊框位于托板上。其中，所述隔板上設(shè)置有連接組件，所述連接組件分別與屏蔽帶下邊框和機械臂相連接。其中，所述連接組件包括垂直連接的安裝板和連接立板，屏蔽帶下邊框固定在所述安裝板上，所述連接立板與機械臂相連。其中，所述連接立板與屏蔽帶左右邊框相平行或者垂直。其中，所述安裝板包括擋板、設(shè)置在擋板上的平板、以及設(shè)置在平板上的壓塊，所述屏蔽帶下邊框位于平板和壓塊之間。其中，所述擋板的尺寸大于所述平板的尺寸，所述平板位于擋板上表面內(nèi)部。其中，所述屏蔽帶為聚氯乙烯材質(zhì)。(三)有益效果[0017]上述技術(shù)方案所提供的屏蔽機構(gòu)，使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區(qū)產(chǎn)生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區(qū)部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構(gòu)中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現(xiàn)機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。

圖1是依照本實用新型一種實施例的屏蔽機構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是圖1所示屏蔽帶跨過滾輪固定于連接組件的示意圖；圖3是圖1所示屏蔽機構(gòu)連接組件的放大示意圖；圖4是將屏蔽帶與連接組件相連接的結(jié)構(gòu)剖視圖；圖5是依照本實用新型另一種實施例的屏蔽機構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；圖6是圖5所示屏蔽機構(gòu)連接組件的放大示意圖。其中，1 屏蔽帶；11 第一端頭；12 第二端頭；2 托板；3 機械臂；4 滾輪；5 壓條；6 隔板；7 連接組件；71 第一壓塊；72 第一平板；73 第二平板；74 連接立板；75 第二壓塊；76 第一擋板；77 第二擋板；8 導軌；9 支撐架。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本實用新型，但不用來限制本實用新型的范圍。實施例1圖1示出了本實用新型實施例的屏蔽機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，該屏蔽機構(gòu)用于半導體、太陽能技術(shù)中硅材料腐蝕清洗時，對機械臂傳動區(qū)和腐蝕工藝區(qū)的隔離，防止腐蝕工藝區(qū)的酸霧水霧進入機械臂傳動區(qū)而對機械臂傳動部件造成腐蝕和損壞。本實施例的屏蔽機構(gòu)包括屏蔽帶1和支撐屏蔽帶1的支撐結(jié)構(gòu)，具體地，支撐結(jié)構(gòu)包括隔板6和支撐架9，隔板6與機械臂3的水平導軌8并列設(shè)置，隔板6上設(shè)置有兩個滾輪4，兩個滾輪4之間的距離與導軌8的長度基本相等。支撐架9設(shè)置在隔板6上方，安裝在硅腐蝕清洗設(shè)備的骨架上，支撐架9上也設(shè)置有兩個滾輪4，此處的兩個滾輪4分別位于隔板6上兩個滾輪4的正上方。屏蔽帶1的兩端分別跨過上下設(shè)置的兩個滾輪4，在隔板6 上方連接。屏蔽帶1與機械臂3之間通過連接組件7進行連接，連接組件7位于隔板6上，其將屏蔽帶1的兩端連接，如圖2所示。連接組件7的結(jié)構(gòu)示意圖及連接組件7與屏蔽帶1的連接結(jié)構(gòu)示意圖分別如圖3 和圖4所示。連接組件7具體包括相互垂直的連接立板74和安裝板，安裝板包括平列設(shè)置的第一擋板76和第二擋板77，分別設(shè)置在第一擋板76和第二擋板77上的第一平板72和第二平板73，以及分別設(shè)置在第一平板72和第二平板73上的第一壓塊71和第二壓塊75。 連接立板74與豎直運動的機械臂3的底座相連接，第一平板72和第二平板73在套入機械臂3上的型鋼后連接在一起，再與連接立板74螺裝。通過第一壓塊71和第二壓塊75將屏蔽帶1的第一端頭11和第二端頭12分別固定在第一平板72和第二平板73上；為保證強度，連接立板74、以及平板和壓塊均由鋁板制成，再安裝第一擋板76和第二擋板77，第一擋板76和第二擋板77的尺寸大于第一平板72和第二平板73的尺寸，將暴露在腐蝕工藝區(qū)的第一平板72和第二平板73下表面完全遮擋住，第一擋板76和第二擋板77均采用白色聚丙烯板材制成，具有耐腐蝕的能力。本實施例中，根據(jù)機械臂3的結(jié)構(gòu)，連接立板74的設(shè)置方向與屏蔽帶邊框結(jié)構(gòu)中的左右邊框相垂直，也即與導軌8相平行。因為連接組件7將屏蔽帶1和機械臂3相連接，機械臂3沿導軌8進行水平運動時，將帶動屏蔽帶1進行水平方向的運動。為了保證屏蔽帶1水平運動時不偏離四個滾輪 4所構(gòu)成的范圍，在隔板6上設(shè)置了壓條5，壓條5位于隔板6上屏蔽帶1的兩側(cè)，以對屏蔽帶1的運動進行限位。同時，在支撐架9上，設(shè)置了托板2，屏蔽帶1位于托板2上方，由托板2保證上部屏蔽帶1運動中的穩(wěn)定和順暢。在機械臂3的工作過程中，豎直運動的機械臂3在沿導軌8進行水平運動時，將帶動屏蔽帶1進行水平運動，屏蔽帶1將機械臂3上部所支撐操作的腐蝕處理工藝部件與機械臂3下部的傳動部件隔離開，實時防護了傳動部件不受酸霧水霧的腐蝕入侵。實施例2圖5示出了本實施例的屏蔽機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖6是本實施例中連接部件與屏蔽帶1相連接的結(jié)構(gòu)示意圖。由圖可以看出，本實施例的屏蔽機構(gòu)與實施例1所述的屏蔽機構(gòu)的結(jié)構(gòu)類似，其區(qū)別之處在于連接部件7的結(jié)構(gòu)有所改變。實施例1中，為適應(yīng)機械臂 3的結(jié)構(gòu)，連接部件7中的連接立板74位于第一平板72和第二平板73的上方，且連接立板 74與導軌8相平行，而本實施例中，由于機械臂3的結(jié)構(gòu)有所改變，為了與機械臂3的結(jié)構(gòu)相適應(yīng)，連接立板74設(shè)置在其中一塊平板上方，如第二平板73上方，連接立板74的方向設(shè)置為與導軌8相垂直，從而實現(xiàn)連接組件7與機械臂3的適配連接。由以上實施例可以看出，本實用新型使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區(qū)產(chǎn)生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區(qū)部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構(gòu)中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現(xiàn)機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進和替換，這些改進和替換也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.屏蔽機構(gòu)，其特征在于，包括屏蔽帶，設(shè)置為矩形框結(jié)構(gòu)，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設(shè)置，上邊框不超過機械臂的頂端。
2.如權(quán)利要求1所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，包括隔板和支撐架，所述隔板與機械臂水平導軌并列設(shè)置，隔板上設(shè)置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與下邊框的交接處分別跨過該滾輪；所述支撐架上也設(shè)置有滾輪，屏蔽帶左右邊框與上邊框的交接處分別跨過該滾輪。
3.如權(quán)利要求2所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述隔板上設(shè)置有壓條，壓條位于屏蔽帶下邊框的兩側(cè)，對屏蔽帶下邊框限位。
4.如權(quán)利要求2所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述支撐架上設(shè)置有托板，屏蔽帶上邊框位于托板上。
5.如權(quán)利要求2所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述隔板上設(shè)置有連接組件，所述連接組件分別與屏蔽帶下邊框和機械臂相連接。
6.如權(quán)利要求5所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述連接組件包括垂直連接的安裝板和連接立板，屏蔽帶下邊框固定在所述安裝板上，所述連接立板與機械臂相連。
7.如權(quán)利要求6所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述連接立板與屏蔽帶左右邊框相平行或者垂直。
8.如權(quán)利要求6所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述安裝板包括擋板、設(shè)置在擋板上的平板、以及設(shè)置在平板上的壓塊，所述屏蔽帶下邊框位于平板和壓塊之間。
9.如權(quán)利要求8所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述擋板的尺寸大于所述平板的尺寸， 所述平板位于擋板上表面內(nèi)部。
10.如權(quán)利要求1所述的屏蔽機構(gòu)，其特征在于，所述屏蔽帶為聚氯乙烯材質(zhì)。
專利摘要本實用新型涉及半導體、太陽能技術(shù)中硅材料的清洗，公開了一種屏蔽機構(gòu)，其包括屏蔽帶，設(shè)置為矩形框結(jié)構(gòu)，由上下左右四條邊框組成，左右邊框分別位于機械臂水平導軌的兩端，下邊框與機械臂水平導軌并列設(shè)置，上邊框不超過機械臂的頂端。本實用新型使用聚氯乙烯作為屏蔽帶，將機械臂傳動區(qū)與腐蝕工藝區(qū)隔離開，屏蔽帶耐腐蝕，能夠有效遮擋腐蝕工藝區(qū)產(chǎn)生的酸霧水霧，防止機械臂傳動區(qū)部件遭受腐蝕和生銹；并且，屏蔽機構(gòu)中的連接部件能夠跟隨機械臂沿水平導軌運動，既不影響機械臂豎直方向的運動，又能帶動屏蔽帶隨機械臂水平運動，實現(xiàn)機械臂運動過程中的酸霧水霧屏蔽功能。
文檔編號H01L21/67GK202259214SQ20112037479
公開日2012年5月30日 申請日期2011年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月29日
發(fā)明者王晨, 胡彩豐 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司