專利名稱：處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于對(duì)例如平板顯示器用的玻璃基板、半導(dǎo)體基板、印刷電路板等進(jìn)行檢查、處理的處理裝置。
背景技術(shù)：
近年來，在玻璃基板、半導(dǎo)體基板、印刷電路板(以下稱作基板)等的制造中，具有用于對(duì)基板進(jìn)行檢查等處理的處理裝置。處理裝置具有用于對(duì)基板進(jìn)行檢查處理的處理部、以及用于自外部向處理部輸送基板或者自處理部向外部輸送基板的輸送部。輸送部包括浮起用板，其在用于輸送基板的輸送面上具有多個(gè)空氣孔，并用于通過自該空氣孔吹出空氣而使基板浮起；以及吸盤，其用于吸附基板，并能夠沿輸送方向移動(dòng)。輸送部通過使吸附了利用浮起用板浮起的基板的吸盤移動(dòng)，而進(jìn)行基板的輸送。但是，若輸送到處理部的基板產(chǎn)生撓曲等，則有可能引起處理裝置的對(duì)基板的處理精度降低，因此至少在處理部中需要將基板的表面設(shè)置為平坦。該處理裝置調(diào)整處理部及輸送部的基板輸送面的平坦度，并且調(diào)整處理部和輸送部之間的連結(jié)部中的連結(jié)高度以使其變得平坦。作為上述處理裝置，公開有在檢查部上配置與輸送方向垂直方向的浮起用板(橫置浮起構(gòu)件)且使處理部中的基板的表面平坦度提高的技術(shù)(例如參照專利文獻(xiàn)1)。在該處理裝置中，利用吸盤保持利用浮起用板而浮起的基板的下表面，從而進(jìn)行基板的輸送。專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1 日本特開2009-256029號(hào)公報(bào)但是，專利文獻(xiàn)1所公開的處理裝置具有如下問題由于精密地限定了用于輸送基板的輸送面的平坦度，因此若在輸送中產(chǎn)生微小的振動(dòng)等，則吸盤和基板之間的吸附狀態(tài)被解除，導(dǎo)致產(chǎn)生吸附失誤。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型是鑒于上述情況而做成的，其目的在于提供一種能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤的處理裝置。為了解決上述問題并達(dá)到目的，本實(shí)用新型的處理裝置包括處理部，其用于對(duì)作為處理對(duì)象的基板實(shí)施規(guī)定的處理；以及輸送臺(tái)，其用于載置上述基板而輸送該基板；其特征在于，上述輸送臺(tái)包括支承部件，其具有在沿輸送上述基板的輸送方向觀看時(shí)端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面，并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的上述基板；保持構(gòu)件，其用于以能夠沿與上述輸送方向平行地延伸的輸送軸移動(dòng)的方式保持上述基板；以及驅(qū)動(dòng)部，其用于使上述保持構(gòu)件沿上述輸送軸移動(dòng)；上述支承部件支承上述基板的支承高度在設(shè)置有上述處理部的處理部設(shè)置區(qū)域中與上述保持構(gòu)件保持上述基板的保持高度相同，上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述處理部設(shè)置區(qū)域以外的區(qū)域中低于上述保持高度。[0011]關(guān)于本實(shí)用新型的處理裝置，通過傾斜地設(shè)置輸送臺(tái)，并水平地配置用于使吸盤移動(dòng)的輸送軸，使輸送臺(tái)所形成的輸送面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板對(duì)吸盤施加較大的自重，因此能夠起到防止基板和吸盤之間的吸附失誤的效果。

圖1是示意性地表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的平板顯示器(FPD)檢查裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2是示意性地表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖3是示意性地表示圖2所示的輸送臺(tái)的示意圖。圖4是表示圖1所示的FPD檢查裝置的A-A剖面的剖視圖。圖5是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例1的剖視圖。圖6是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例2的剖視圖。圖7是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例3的剖視圖。圖8是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。圖9是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。圖10是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的主要部分的結(jié)構(gòu)的剖視圖。圖11是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例5的剖視圖。圖12是示意性地表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式2的FPD檢查裝置的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖13是表示圖12所示的FPD檢查裝置的B-B剖面的剖視圖。圖14是表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式2的FPD檢查裝置的變形例的剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下，結(jié)合附圖詳細(xì)地說明用于實(shí)施本實(shí)用新型的實(shí)施方式。另外，本實(shí)用新型不限于以下的實(shí)施方式。此外，在以下的說明中，所參照的各圖只是以能夠理解本實(shí)用新型的內(nèi)容的程度概略地表示出形狀、大小、以及位置關(guān)系。即，本實(shí)用新型不限于在各圖中例示的形狀、大小、以及位置關(guān)系。(實(shí)施方式1)首先，參照附圖詳細(xì)地說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式1的處理裝置。另外，在以下的說明中，以基板的檢查裝置為例進(jìn)行說明。檢查裝置既可以是在線型，也可以是離線型。圖1是表示本實(shí)施方式1的平板顯示器(FPD)檢查裝置的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖 2是示意性地表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。如圖1所示，F(xiàn)PD檢查裝置1包括龍門載物臺(tái)10，其用于保持檢查單元100 (處理部)，該檢查單元100用于檢測(cè)呈矩形的基板W的缺陷；以及輸送臺(tái)12、20、21，其用于輸送基板W。龍門載物臺(tái)10及輸送臺(tái)12、20、21固定于例如圖1、2表示那樣的架臺(tái)11上。架臺(tái)11由例如將塊狀的大理石、鋼材組合而成的框架等耐震性較高的構(gòu)件構(gòu)成。除此之外， 在架臺(tái)11和設(shè)置面(例如地板)之間設(shè)置例如由彈簧、液壓減震器等構(gòu)成的振動(dòng)吸收機(jī)構(gòu) 13。由此進(jìn)一步地防止輸送臺(tái)12、20、21及檢查單元100的振動(dòng)。輸送臺(tái)12、20、21具有例如多個(gè)板狀構(gòu)件沿與基板W的輸送方向D垂直的方向排列成簾子狀而成的構(gòu)造。通過沿輸送方向D排列該輸送臺(tái)12、20、21而形成基板W的輸送路徑。在各輸送臺(tái)12、20、21的板狀構(gòu)件上分別設(shè)置用于在上表面保持基板W并作為能夠向輸送方向D旋轉(zhuǎn)的支承部件的自由輥121、201、211。此外，在輸送臺(tái)20的與輸送方向D垂直的方向即寬度方向的中央設(shè)置用于向輸送方向D進(jìn)行驅(qū)動(dòng)并吸附輸送基板W的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) 30。另外，優(yōu)選自由輥121、201、211如拉格朗日點(diǎn)的間隔那樣以不會(huì)產(chǎn)生基板W的撓曲振動(dòng)的這種間隔配置。此外，作為基板W的定位方法，可列舉使用升降銷(lift pin)及定位機(jī)構(gòu)等的方法，該升降銷用于支承被輸入到輸送臺(tái)20上的基板W而將其載置于輸送臺(tái)20， 該定位機(jī)構(gòu)用于使載置于輸送臺(tái)20的基板W定位。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30包括驅(qū)動(dòng)部32，其在與輸送方向D的水平方向平行的輸送軸31上移動(dòng)；支承構(gòu)件33，其支承于驅(qū)動(dòng)部32 ；以及吸盤34 (保持構(gòu)件)，其支承于支承構(gòu)件33，用于利用未圖示的泵的吸氣來吸附保持基板W。驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30通過使用線性電動(dòng)機(jī)引導(dǎo)件作為輸送軸31、并且使用線性電動(dòng)機(jī)作為驅(qū)動(dòng)部32來實(shí)現(xiàn)。另外，通過將驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30設(shè)置于輸送臺(tái)的寬度方向的中央，能夠保持包含被輸入到輸送臺(tái)的基板W的重心位置的區(qū)域，從而能夠進(jìn)行穩(wěn)定的基板輸送。此外，只要能夠不損傷基板W地進(jìn)行輸送，則驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30的配設(shè)位置可以是任意的位置，也可以設(shè)置有多個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30。圖3是示意性地表示圖2所示的輸送臺(tái)的示意圖。如圖3所示，輸送臺(tái)20、21的鉛垂方向的高度(上表面)隨著遠(yuǎn)離輸送臺(tái)12側(cè)的端部而變低。輸送臺(tái)20、21的高度利用例如螺釘?shù)闹С卸还潭?。另外，由于輸送臺(tái)20、21分別被懸臂梁狀的支承構(gòu)件22、23 支承，因此當(dāng)調(diào)整輸送臺(tái)20、21的高度時(shí)，也考慮由于輸送臺(tái)20、21的自重所引起的撓曲。 此外，只要能夠輸送基板W，則也能以使與水平面平行的上面的輸送臺(tái)20、21的上表面的高度低于輸送臺(tái)12的上表面的方式配設(shè)輸送臺(tái)。在這里，通過自由輥的上端的面L2的相對(duì)于水平面L3的沿鉛垂方向的最大高度差dl為數(shù)mm 數(shù)十mm左右，更優(yōu)選是2mm 3mm左右。另外，吸盤34的用于吸附基板W 的吸附面利用驅(qū)動(dòng)部32的驅(qū)動(dòng)而在水平面L3上移動(dòng)。此外，也可以在輸送臺(tái)20、21上設(shè)置驅(qū)動(dòng)部，并設(shè)置成能夠根據(jù)基板等的種類、性質(zhì)來改變傾斜的角度。該驅(qū)動(dòng)部可列舉使用氣壓缸、電動(dòng)馬達(dá)等。檢查單元100具有未圖示的攝像部，該攝像部設(shè)定在輸送臺(tái)12所形成的輸送路徑上，用于借助顯微鏡101來拍攝在與輸送臺(tái)12的寬度方向平行的檢查線Ll上通過的基板 W。通過解析由該檢查單元100獲得的圖像，能夠檢測(cè)基板W是否存在缺陷。另外，檢查單元100能夠沿檢查線LI移動(dòng)。在本說明中，檢查單元100所設(shè)置的區(qū)域稱為檢查空間rai。 此外，檢查空間PRl以外的區(qū)域稱為輸送空間TR1、TR2。另外，檢查單元100也可替換成例如用于對(duì)基板W的缺陷部分進(jìn)行激光照射修復(fù)、涂布修正等的修復(fù)單元、用于觀察、保存圖像的攝像單元、用于在規(guī)定的位置實(shí)施配線等的尺寸測(cè)量、膜厚測(cè)量、顏色測(cè)量等測(cè)量單元等的處理的其他處理單元。即，處理單元包含檢查單元、修復(fù)單元、攝像單元、曝光單元、測(cè)量單元等。此外，本實(shí)施方式的FPD檢查裝置也包含上述處理單元在用于載置基板W的臺(tái)上對(duì)基板進(jìn)行各處理的結(jié)構(gòu)。此外，由于FPD檢查裝置1只要包括用于包圍檢查空間PRl及輸送空間TRl、TR2 的外殼就能夠形成內(nèi)部空間(無塵室)，故為優(yōu)選。該無塵室是除了基板的輸入口、輸出口
5及下部的管道以外均被密閉的空間。外殼在檢查單元100的上方具有用于向內(nèi)部空間送入潔凈的空氣(以下稱作潔凈空氣)的FFU。FFU用于送出已去除了例如微粒等粉塵的潔凈空氣。其結(jié)果，特別是使檢查單元 100附近及檢查線L ι周邊(檢查空間rai)成為粉塵較少的潔凈的狀態(tài)。此外，當(dāng)向檢查單元100附近及檢查線L 1周邊集中送出的潔凈的空氣在無塵室內(nèi)形成下降流(down flow) 之后，自排氣口排出。圖4是表示圖1所示的FPD檢查裝置的A-A剖面的剖視圖。在圖4的剖視圖所示的位置處，由于在輸送臺(tái)的各板狀構(gòu)件20A 20F的自由輥201的上端通過的面(支承高度)比吸盤34的用于吸附基板W的吸附面的高度(保持高度)低，因此，相比于自由輥 201，基板W的重量較大地施加到吸盤34上。因此，能夠更可靠地利用吸盤34吸附基板W。如上述實(shí)施方式1那樣，通過傾斜地設(shè)置輸送臺(tái)，并水平地配置用于使吸盤移動(dòng)的輸送軸，使通過輸送臺(tái)的自由輥的上端的面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板對(duì)吸盤施加較大的自重，從而能夠使吸盤更可靠地吸附基板。由此能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤。另外，關(guān)于檢查空間rai，由于通過輸送臺(tái)12的自由輥121的上端的面維持為水平，特別是基板W在檢查線Ll處的平面形成水平面，因此能夠以水平的狀態(tài)維持基板W而進(jìn)行檢查等。(變形例)圖5是表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例1的剖視圖。圖5與圖4所示的剖視圖對(duì)應(yīng)。關(guān)于FPD檢查裝置la，外緣側(cè)的板狀構(gòu)件20A、20B、20E、20F的自由輥 20 202d的上端側(cè)的傾斜度隨著靠近輸送臺(tái)的寬度方向的外緣側(cè)而逐級(jí)變大。此外，自由輥20 202d的上端的高度隨著靠近外緣側(cè)而變低，通過自由輥20 202d的上端的面呈弧狀(球面狀)。利用上述變形例1的結(jié)構(gòu)，能夠進(jìn)一步增大基板W向吸盤34施加的鉛垂下方的力，因此能夠?qū)崿F(xiàn)更可靠的吸附。圖6是表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例2的剖視圖。圖6與圖4所示的剖視圖對(duì)應(yīng)。關(guān)于FPD檢查裝置lb，外緣側(cè)的板狀構(gòu)件20A、20B、20E、20F的自由輥203 的直徑大于設(shè)置于內(nèi)側(cè)的板狀構(gòu)件20C、20D的自由輥201的直徑。由此，由于通過各自由輥201、203的上端的面不同，因此基板W在板狀構(gòu)件20C、20D之間產(chǎn)生朝向下方的撓曲。因而，對(duì)吸盤34的吸附面施加基板W的撓曲所帶來的負(fù)載，能夠?qū)崿F(xiàn)更穩(wěn)定的吸附。另外，也可以使用相同直徑的自由輥而以自由輥的上端的高度在外緣側(cè)和內(nèi)側(cè)不同的方式配置。圖7是表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例3的剖視圖。圖7與圖4所示的剖視圖對(duì)應(yīng)。關(guān)于FPD檢查裝置lc，配設(shè)有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30的板狀構(gòu)件20C、20D的自由輥 201之間的距離d2 (支承構(gòu)件的間隔)大于未配設(shè)有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30的板狀構(gòu)件20A、20B、20E、 20F的自由輥201之間的距離。由此，基板W在板狀構(gòu)件20C、20D之間產(chǎn)生撓曲。此時(shí)，對(duì)吸盤34的吸附面施加基板W的撓曲所帶來的負(fù)載，能夠在不設(shè)置復(fù)雜結(jié)構(gòu)的情況下實(shí)現(xiàn)更可靠的吸附。另外，支承構(gòu)件由板狀構(gòu)件及自由輥構(gòu)成。在這里，可以根據(jù)所使用的基板的厚度等改變支承構(gòu)件的間隔。例如，由于基板的厚度較大的情況相比于基板的厚度較小的情況難以撓曲，因此擴(kuò)大間隔。此時(shí)，由于基板的厚度也根據(jù)制造工序的不同而改變，因此優(yōu)選改變成與其工序中的基板的厚度相對(duì)應(yīng)的間隔。[0048]圖8、圖9是表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的剖視圖。圖10是表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例4的主要部分的結(jié)構(gòu)的剖視圖。如圖8、9所示， 關(guān)于FPD檢查裝置ld，驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30包括與驅(qū)動(dòng)部32連結(jié)并用于使吸盤34上下移動(dòng)的升降構(gòu)件35。升降構(gòu)件35具有用于支承吸盤34并能夠升降驅(qū)動(dòng)的升降部35a。圖8是輸送臺(tái) 20、21(輸送空間TR1、TR2)中的剖視圖(對(duì)應(yīng)圖4)。如圖8所示，吸盤34的吸附面利用升降部35a的上升而高于通過自由輥201的上端的面。由此，由于基板W能夠?qū)ξP34施加更大的接觸載荷，因此能夠?qū)崿F(xiàn)更可靠的吸附。此外，圖9是輸送臺(tái)12(檢查空間TOD中的與輸送方向垂直的方向的剖視圖。在檢查空間中，利用升降部3 進(jìn)行調(diào)整，以使吸盤34的吸附面成為至少自由輥201所形成的輸送面以下的高度。由此，能夠以基板W的面在檢查時(shí)不產(chǎn)生撓曲等變形的方式進(jìn)行檢查。另外，吸盤34和升降部3 設(shè)置成可拆裝，如圖10所示，當(dāng)升降部3 下降了時(shí)， 吸盤34維持吸附基板W的狀態(tài)。在這種情況下，無需與升降部35a同步地對(duì)吸盤34進(jìn)行泵等的控制，僅利用升降部35a的控制就能夠?qū)崿F(xiàn)。另外，吸盤34和升降部3 為一體，也可以使吸盤34與升降部35a的下降連動(dòng)而自基板W脫離。此時(shí)，雖然一個(gè)吸盤側(cè)的升降部自吸盤脫離，但由于利用另一個(gè)吸盤吸附基板W，因此基板W維持被支承在輸送臺(tái)上的狀態(tài)。圖11是表示本實(shí)施方式1的FPD檢查裝置的變形例5的剖視圖。圖11所示的FPD 檢查裝置Ie與圖4所示的剖視圖對(duì)應(yīng)，包括2個(gè)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30A、30B，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30A、30B分別具有輸送軸31A、31B、驅(qū)動(dòng)部32A、32B以及吸盤34A、34B。在這里，各驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30A、30B 分別配置在相對(duì)于輸送臺(tái)20的寬度方向的中心線L4對(duì)稱的位置。由此，基板W能夠以均勻的撓曲支承于吸盤34，并且對(duì)吸盤34的吸附面施加由基板W的撓曲所帶來的負(fù)載，從而能夠?qū)崿F(xiàn)更可靠的吸附。(實(shí)施方式2)圖12是示意性地表示本實(shí)用新型的實(shí)施方式2的FPD檢查裝置2的結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖13是表示圖12所示的FPD檢查裝置2的B-B剖面的剖視圖。在實(shí)施方式2中，利用作為支承部件的空氣使載置于浮起輸送臺(tái)40 42的基板W浮起，從而以消除與基板W 的摩擦并防止基板的由摩擦引起的損傷的方式進(jìn)行輸送。此外，與實(shí)施方式1相同，龍門載物臺(tái)10等的檢查單元所設(shè)置的區(qū)域?yàn)闄z查空間冊(cè)2，檢查空間PR2以外的區(qū)域?yàn)檩斔涂臻g TR3、TR4。另外，對(duì)與圖1等所示的結(jié)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。浮起輸送臺(tái)40 42包括呈大致板狀的多個(gè)浮起用板(支承構(gòu)件)，該多個(gè)浮起用板沿輸送方向D延伸，用于在輸送面上使基板W浮起而進(jìn)行載置。通過沿輸送方向D排列各浮起輸送臺(tái)40 42而形成基板W的輸送路徑。此外，浮起輸送臺(tái)41、42與圖3所示的輸送臺(tái)20、21相同，沿鉛垂方向的高度(上表面)隨著遠(yuǎn)離浮起輸送臺(tái)40而變低。此時(shí)的鉛垂方向的最大的高度差為數(shù)mm 數(shù)十mm左右，更優(yōu)選是2mm 3mm左右。例如，如圖13所示，浮起輸送臺(tái)41具有浮起用板41A 41F沿與輸送方向D垂直的方向排列成簾子狀而成的構(gòu)造。在浮起用板41A 41F中設(shè)置用于利用來自空氣供給部 50的空氣供給而朝向鉛垂上方吹出空氣的多個(gè)吹出孔411。另外，在浮起輸送臺(tái)40、42中， 各浮起用板也具有吹出孔401、421。此外，在浮起輸送臺(tái)40 42的寬度方向的中央設(shè)置上述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)30。與實(shí)施方式1相同，作為基板W的定位方法，可列舉使用升降銷及定位機(jī)構(gòu)等的方法，該升降銷用于支承被輸入到輸送臺(tái)41上的基板W而使基板W載置于輸送臺(tái)41，該定位機(jī)構(gòu)用于使載置于輸送臺(tái)41的基板W定位。此外，浮起輸送臺(tái)40支承于圖2所示的振動(dòng)吸收機(jī)構(gòu)13。在圖13中，由于浮起輸送臺(tái)41的支承在自浮起用板41A 41F的吹出孔411吹出的空氣的作用下而浮起的基板W的基板支承高度低于吸盤34的用于吸附基板W的吸附面的高度，因此向吸盤34的吸附面施加的基板W的重量變大。因此，能夠更可靠地利用吸盤34吸附基板W。如上述實(shí)施方式2那樣，通過傾斜地設(shè)置輸送臺(tái)，并水平地配置用于使吸盤移動(dòng)的輸送軸，使輸送臺(tái)所形成的輸送面和吸盤的用于吸附基板的吸附面形成高低差，使基板對(duì)吸盤施加較大的自重，從而能夠使吸盤更穩(wěn)定地吸附基板。另外，關(guān)于檢查空間冊(cè)2，由于浮起輸送臺(tái)40的各浮起用板的上表面以維持水平的方式設(shè)置，利用空氣而浮起的基板W維持為水平，特別是基板W在檢查線L5處的平面形成水平面，因此能夠以水平的狀態(tài)維持基板W而進(jìn)行檢查等。(變形例)圖14是表示本實(shí)施方式2的FPD檢查裝置的變形例的剖視圖。圖14與圖13所示的剖視圖對(duì)應(yīng)。關(guān)于FPD檢查裝置加，在輸送臺(tái)41的寬度方向上靠?jī)?nèi)側(cè)的浮起用板41C、 41D的上表面低于外緣側(cè)的浮起用板41A、41B、41E、41F的上表面。由于自浮起用板41A 41F吹出的空氣的壓力相等，因此利用浮起用板而浮起的基板W在板狀構(gòu)件41C、41D之間產(chǎn)生朝向下方的撓曲。由此，對(duì)吸盤34的吸附面施加基板W的撓曲所帶來的負(fù)載，能夠?qū)崿F(xiàn)更穩(wěn)定的吸附。此外，欲獲得與實(shí)施方式1的變形例1相同的效果，可以按照每個(gè)浮起用板來改變自浮起輸送臺(tái)41、42的吹出孔411、421吹出的空氣的壓力。例如，通過使自外緣側(cè)的浮起用板的吹出孔吹出的空氣的壓力低于自內(nèi)側(cè)的浮起用板吹出的空氣的壓力，能夠產(chǎn)生如圖 5所示的那樣的基板W的撓曲。此外，如圖7所示的變形例3那樣，也可以適用于相對(duì)于其他浮起用板調(diào)整浮起用板41C、41D之間的間隔的結(jié)構(gòu)。如上所述，本實(shí)用新型的處理裝置在可靠地保持而輸送檢查對(duì)象的基板這一點(diǎn)是有用的。附圖標(biāo)記說明l、la le、2、FDP檢查裝置；10、龍門載物臺(tái)；11、架臺(tái)；12、20、21、輸送臺(tái)；13、振動(dòng)吸收機(jī)構(gòu)；20A 20F、板狀構(gòu)件；22、23、33、支承構(gòu)件；30、30A、30B、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；31、31A、 31B、輸送軸；32、32A、32B、驅(qū)動(dòng)部；!34、34A、34B、吸盤；35、升降構(gòu)件；:35a、升降部；40 42、 浮起輸送臺(tái)；41A 41F、浮起用板；100、檢查單元；101、顯微鏡；121、201、202a 202d、 203、211、自由輥；L1、L5、檢查線；I3Rl、冊(cè)2、檢查空間；TRl TR4、輸送空間；W、基板。
權(quán)利要求1.一種處理裝置，其包括處理部，其用于對(duì)作為處理對(duì)象的基板實(shí)施規(guī)定的處理；以及輸送臺(tái)，其用于載置上述基板而輸送該基板；其特征在于，上述輸送臺(tái)包括支承部件，其具有在沿輸送上述基板的輸送方向觀看時(shí)端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面，并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的上述基板；保持構(gòu)件，其用于以能夠沿與上述輸送方向平行地延伸的輸送軸移動(dòng)的方式保持上述基板；以及驅(qū)動(dòng)部，其用于使上述保持構(gòu)件沿上述輸送軸移動(dòng)；上述支承部件支承上述基板的支承高度在設(shè)置有上述處理部的處理部設(shè)置區(qū)域中與上述保持構(gòu)件保持上述基板的保持高度相同，上述支承部件支承上述基板的支承高度在上述處理部設(shè)置區(qū)域以外的區(qū)域中低于上述保持高度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述驅(qū)動(dòng)部設(shè)置于上述輸送臺(tái)的寬度方向的中央，上述支承部件的支承上述基板的高度至少是上述寬度方向的外緣側(cè)的支承上述基板的高度與上述寬度方向的內(nèi)側(cè)的支承上述基板的高度不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件在上述外緣側(cè)支承上述基板的高度低于上述支承部件在上述內(nèi)側(cè)支承上述基板的高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件在上述外緣側(cè)支承上述基板的高度高于上述支承部件在上述內(nèi)側(cè)支承上述基板的高度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件沿與上述輸送方向垂直的方向排列有沿上述輸送方向延伸的多個(gè)支承構(gòu)件，上述驅(qū)動(dòng)部配設(shè)在相鄰的上述支承構(gòu)件之間的隙間中的一部分隙間中，配設(shè)上述驅(qū)動(dòng)部的上述支承構(gòu)件之間的間隔大于未配設(shè)上述驅(qū)動(dòng)部的上述支承構(gòu)件之間的間隔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件具有能夠向上述輸送方向旋轉(zhuǎn)的多個(gè)自由輥。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述支承部件具有多個(gè)吹出孔，該多個(gè)吹出孔用于利用來自空氣供給部的空氣供給而朝向上述輸送臺(tái)的上方吹出空氣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，上述驅(qū)動(dòng)部設(shè)置有多個(gè)，各驅(qū)動(dòng)部配設(shè)在相對(duì)于上述輸送臺(tái)的寬度方向的中心線對(duì)稱的位置。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種能夠防止基板和吸盤之間的吸附失誤的處理裝置。該處理裝置包括處理部，其用于對(duì)處理對(duì)象的基板實(shí)施規(guī)定的處理；以及輸送臺(tái)，其用于載置基板而輸送該基板，其特征在于，輸送臺(tái)包括支承部件，其具有在沿輸送基板的輸送方向觀看時(shí)端部位于比中央部靠鉛垂下方的位置的上表面，并用于直接或間接地支承被配置在該上表面的上方的基板；保持構(gòu)件，其用于以能夠沿與輸送方向平行地延伸的輸送軸移動(dòng)的方式保持基板；驅(qū)動(dòng)部，其用于使保持構(gòu)件沿輸送軸移動(dòng)；支承部件支承基板的支承高度在設(shè)置有處理部的處理部設(shè)置區(qū)域中與保持構(gòu)件保持基板的保持高度相同，支承部件支承基板的支承高度在處理部設(shè)置區(qū)域以外的區(qū)域中低于保持高度。
文檔編號(hào)H01L21/683GK202307839SQ20112042671
公開日2012年7月4日 申請(qǐng)日期2011年11月1日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月1日
發(fā)明者木內(nèi)智一, 福田達(dá)史 申請(qǐng)人:奧林巴斯株式會(huì)社