專利名稱：用于形成減小的室空間的裝置，和用于定位多層體的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種設(shè)備，該設(shè)備用于定位至少兩個物體，特別是至少兩個多層體(各自具有至少一個待加工表面)，其中該用于容納至少兩個物體(特別是多層體)的設(shè)備是這樣配 置的，即，使得該物體特別是多層體彼此相對，其中待加工表面彼此背對背，以使得該至少兩個物體能夠作為多層體布置在加工系統(tǒng)中加工，特別是硒化。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備是這樣配置的，即，它可以布置或者被布置在具有室空間的加工系統(tǒng)的加工室或者加工隧道中和/或用于形成減小的室空間的裝置中，優(yōu)選布置在加工盒中(該加工盒具有底面元件，覆蓋元件，和優(yōu)選具有側(cè)壁元件)或者布置在加工罩中(該加工罩特別被配置用于固定保持在加工系統(tǒng)中)，和/或在運(yùn)載元件之上或者與之相接(該運(yùn)載元件用于依靠傳輸設(shè)備將多層體布置傳輸?shù)郊庸は到y(tǒng)中和從其中傳輸出來)。根據(jù)一種實施方案中，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備是這樣配置的，即，至少一部分的該設(shè)備形成了加工盒的至少一部分，特別至少部分構(gòu)成了加工盒的側(cè)壁元件。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備是這樣配置的，即，該多層體在使用時彼此夾層狀疊置，并因此形成該多層體布置的下多層體和上多層體。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備是這樣配置的，即，該具有彼此背對背的待加工表面的多層體可以彼此疊置來定位。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備具有至少一個間隔元件，其中該間隔元件可以如此至少部分地置于兩個多層體之間，以使得它們能夠彼此間隔開定位。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備具有至少一個第一置放元件，其可以或者已經(jīng)位于加工室的室底面和/或室側(cè)壁上和/或加工盒的底面元件和/或側(cè)壁元件上和/或位于運(yùn)載元件上或者與之鄰接(該運(yùn)載元件用于依靠傳輸設(shè)備將多層體布置傳輸?shù)郊庸は到y(tǒng)中和從中傳輸出來)，并且該第一置放元件配置成這樣，即，使得下多層體能夠優(yōu)選在它的邊緣區(qū)域至少部分布置于該第一置放元件上，特別可以置放在置放元件上。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備具有至少一個第二置放元件，其可以或者已經(jīng)位于加工室的室底面和/或室側(cè)壁上和/或加工盒的底面元件和/或側(cè)壁元件上和/或位于第一置放元件上或者與之鄰接和/或位于運(yùn)載元件上或者與之鄰接(該運(yùn)載元件用于依靠傳輸設(shè)備將多層體布置傳輸?shù)郊庸は到y(tǒng)中和從其中傳輸出來)，其中該第二置放元件配置成這樣，即，使得上多層體能夠優(yōu)選在它的邊緣區(qū)域至少部分布置在該第二置放元件上，特別可以置放于置放元件上。根據(jù)一種實施方案，一方面，提供該第一置放元件和/或第二置放元件，在每種情況中作為框架元件，優(yōu)選作為復(fù)制了該多層體的輪廓的矩形或者正方形框架元件，以使得該多層體能夠優(yōu)選在它們的邊緣區(qū)域至少部分布置于各自的框架元件上，特別是可以置放于該框架元件上，和/或另一方面，該第一置放元件和/或該第二置放元件每個配置為在使用中，在該多層體的延伸平面上彼此相對的兩個框架板條元件，以使得該多層體，優(yōu)選在它們的邊緣區(qū)域上，優(yōu)選在它們的縱向側(cè)，能夠至少部分地布置于該框架板條元件上，特別能夠置放于該框架板條元件上。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備包括中間元件，其可以位于第一置放元件和第二置放元件之間，以使得第二置放元件能夠位于第一置放元件上。根據(jù)一種實施方案，第一置放元件和/或第二置放元件各自具有至少一個橫向連接元件，其用來連接在該多層體的延伸平面上彼此相對的各自的框架元件的區(qū)域或者在使用中彼此相對的框架板條元件的區(qū)域，使得能夠另外支承該多層體以防止彎曲。根據(jù)一種實施方案，該橫向連接元件具有至少一個第一支承元件，優(yōu)選點支承元件，特別優(yōu)選球形元件，以使得該多層體可以經(jīng)由支承元件置于橫向連接元件上或者與之鄰接，其中該支承元件是這樣配置的，即，它具有與各自的至少一個框架元件和/或框架板條元件相同的高度。根據(jù)一種實施方案，該用于定位至少兩個物體的設(shè)備具有至少一個第二支承元件，優(yōu)選點支承元件，特別優(yōu)選球形元件，其提供在加工室的室底面上和/或加工盒的底面元件上，來支承該多層體布置。根據(jù)一種實施方案，各自的框架元件和/或框架板條元件具有至少兩個支承元件，以使得該多層體可以置于該支承元件上或者鄰接于該支承元件。
本發(fā)明涉及一種多層體布置，其包含至少兩個各自具有至少一個待加工表面的多層體，和至少一個用于定位該至少兩個多層體的設(shè)備，如上所述。本發(fā)明涉及一種多層體布置，其包含至少兩個各自具有至少一個待加工表面的多層體，其中該至少兩個多層體設(shè)計成使得它們彼此相對，并且待加工表面彼此背對背。本發(fā)明涉及一種用于加工，特別是硒化至少兩個物體，特別是至少兩個多層體的系統(tǒng)，每個多層體具有至少一個待加工表面，該系統(tǒng)包含至少一個具有室空間的加工室，和用于定位該至少兩個物體的設(shè)備，如上所述。有利地，該系統(tǒng)具有用于將加工氣體供給到室空間和/或加工空間中和/或從其中排出的氣體供給元件和/或氣體排出元件。本發(fā)明涉及一種用于定位至少兩個物體，特別是至少兩個多層體(各自具有至少一個待加工表面)的方法，該方法依靠用于定位至少兩個物體，特別是多層體的設(shè)備來進(jìn)行，該設(shè)備經(jīng)配置來容納該至少兩個物體，特別是該多層體，其中該方法包含下面的步驟將該設(shè)備布置在為其提供的位置上；將兩個物體，特別是多層體布置到該設(shè)備上，以使得該物體，特別是多層體彼此相對，其中待加工表面彼此背對背，以使得該至少兩個物體能夠作為多層體布置在加工系統(tǒng)中進(jìn)行加工，特別是硒化。本發(fā)明涉及一種用于定位至少兩個物體，特別是至少兩個多層體(各自具有至少一個待加工表面)的方法，其中該方法包含下面的步驟如此布置兩個物體，特別是多層體，以使得該物體，特別是多層體彼此相對，并且待加工表面彼此背對背，以使得該至少兩個物體能夠作為多層體布置在加工系統(tǒng)中進(jìn)行加工，特別是硒化。附圖
標(biāo)記列表
10加工系統(tǒng)
11加工室，加工隧道
12室空間
13入口門
14出口門15室蓋子
16室底面
17(一個或多個)室(側(cè))壁
18電磁輻射源
20a形成減小的室空間的裝置，加工盒
20b形成減小的室空間的裝置，加工罩 21加工空間
22覆蓋元件
23底面元件
24(一個或多個)側(cè)壁元件
25運(yùn)載元件，傳送器28a布置，多層體布置28b布置，多層體布置28c布置，多層體布置28d布置，多層體布置28e布置，多層體布置28f布置，多層體布置28g布置，多層體布置30a用于定位的設(shè)備30b用于定位的設(shè)備30c用于定位的設(shè)備30d用于定位的設(shè)備30e用于定位的設(shè)備30f用于定位的設(shè)備30g用于定位的設(shè)備131第一置放元件131a框架板條元件
131b置放區(qū)域
131c框架板條元件
131d置放區(qū)域
231第一置放元件
231a框架板條元件
231b置放區(qū)域
231c框架板條元件
231d置放區(qū)域
331第一置放元件
331a框架板條元件
331b置放區(qū)域
331c框架板條元件331d置放區(qū)域431 第一置放元件
431a框架板條元件
431b置放區(qū)域431c 框架板條元件
431d置放區(qū)域
631第一置放元件631a框架板條元件631b置放區(qū)域
·631c框架板條元件
631d置放區(qū)域
731第一置放元件731a框架板條元件731b置放區(qū)域
731c框架板條元件
731d置放區(qū)域
632第二置放元件632a框架板條元件632b置放區(qū)域
632c框架板條元件
632d置放區(qū)域
732第二置放元件732a框架板條元件732b置放區(qū)域
732c框架板條元件
732d置放區(qū)域
33橫向連接元件
34橫向連接元件
35支承元件35’ 支承元件
36支承元件36’ 支承元件
37中間元件
37a中間元件的板條元件
37b中間元件的板條元件
38間隔元件
38a間隔元件的板條元件
38b間隔元件的板條元件
40下多層體,基材41(一個或多個)邊緣區(qū)域
44待加工表面
45(前體-)涂層
50上多層體，基材
51(一個或多個)邊緣區(qū)域
54待加工表面
55(前體_)涂層60布置的開口區(qū)域 B 入口門，出口門的移動方向。
權(quán)利要求
1.用于形成減小的室空間的裝置(20a，20b)，例如加工盒(20a)或者加工罩(20b)，其具有用于定位至少兩個各自具有至少一個待加工表面(44，54)的多層體(40，50)的設(shè)備(30a，30b，30c，30d，30e，30f，30g)，其中該設(shè)備(30a_30g)如此配置使得所述多層體(40，.50)彼此相對，其中所述待加工表面(44，54)彼此背對背，以使得該多層體(40，50)能夠作為多層體布置(28a，28b，28c，28d，28e，28f，28g)在加工系統(tǒng)(10)中加工。
2.根據(jù)權(quán)利要求I的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體(40，50)的設(shè)備(30a-30g)的至少一部分形成了該裝置的至少一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或者2之一的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體(40，.50)的設(shè)備(30a-30g)如此配置使得該多層體(40，50)在使用時彼此夾層狀疊置，和以此方式形成所述多層體布置(28a-28g)的下多層體(40)和上多層體(50)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體(40，50)的設(shè)備(30a-30g)具有至少一個第一置放元件(131，231，331，431，631，731)，其能夠或者已經(jīng)布置在加工盒(20a)的底面元件(23)上和/或側(cè)壁元件(24)上，其中所述第一置放元件(131，231，331，431，631，731)如此配置使得下多層體(40)能夠至少部分地置放在第一置放元件(131，231，331，431，631，731)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體(40，50)的設(shè)備(30a-30g)具有至少一個第二置放元件￠32,732)，其能夠或者已經(jīng)布置在加工盒(20a)的底面元件(23)上和/或側(cè)壁元件(24)上和/或在第一置放元件(131，231，331，431，631，.731)上或者鄰接該第一置放元件，其中所述第二置放元件(632，732)如此配置使得上多層體(50)能夠至少部分地置放在該第二置放元件(632，732)上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或者5之一的裝置(20a，20b)，其中一方面，所述第一置放元件(131，231，331，431，631，731)和/或所述第二置放元件(632，732)在每種情況中是作為框架元件來提供的，以使得該多層體(40，50)能夠至少部分地布置在各自的框架元件上，和/或另一方面，將該第一置放元件(131，231，331，431，631，731)和/或該第二置放元件(632，.732)設(shè)計成在每一情況下在多層體(40，50)的延伸平面中在使用中彼此相對的兩個框架板條兀件(131a, 131c, 23Ia, 23Ic, 33Ia, 33Ic,43Ia,43Ic,63Ia,63lc,731a,731c,632a,.632c，732a，732c)，以使得該多層體(40，50)能夠至少部分地布置在該框架板條元件上。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或者6之一的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體(40，.50)的設(shè)備(30a-30g)包括中間元件(37)，該中間元件能夠布置在第一置放元件(131，231，.331,431,631,731)和第二置放元件(632,732)之間，以使得該第二置放元件(632,732)能夠安放在該第一置放元件(131，231，331，431，631，731)上。
8.根據(jù)權(quán)利要求4-7之一的裝置(20a，20b)，其中所述第一置放元件(131，231，331，.431，631，731)和/或所述第二置放元件(632，732)各自具有至少一個橫向連接元件(33，.34)，該橫向連接元件(33，34)用于連接各框架元件的在該多層體(40，50)的延伸平面中彼此相對的區(qū)域或者在使用中彼此相對的框架板條元件(131a，131c，231a，231c，331a，331c，.431a, 431c, 631a, 631c, 731a, 731c, 632a, 632c, 732a, 732c)，以使得一個或多個所述多層體(40,50)能夠得到另外支承以防止彎曲。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的裝置(20a，20b)，其中所述橫向連接元件(33，34)具有至少一個第一支承元件(35，35’)，以使得該多層體(40，50)能夠經(jīng)由所述支承元件(35，35’)置放到所述橫向連接元件(33,34)上或者鄰接于所述橫向連接元件(33,34),其中所述支承元件(35，35’)如此配置它具有與各自的至少一個框架元件和/或所述框架板條元件(131a，131c, 23la, 231c, 33la, 331c, 43la, 431c, 63la, 631c, 731a, 731c, 632a, 632c, 732a, 732c)相同的高度。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-9之一的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體的設(shè)備(30a，30b, 30c, 30d, 30e, 30f，30g)具有至少一個第二支承元件(36，36’)，該支承元件提供在加工盒(20a)的底面元件(23)上，以支承所述多層體布置(28a-28g)。
11.根據(jù)權(quán)利要求6-10之一的裝置(20a，20b)，其中各個框架元件和/或框架板條兀件(131a, 131c, 23Ia, 23Ic, 33Ia, 33Ic,43Ia,43Ic,63Ia,63lc,731a,731c,632a,632c,732a, 732c)具有至少兩個支承元件(35，35’)，以使得該多層體(40，50)能夠置放到該支承元件(35，35，)上或者鄰接于該支承元件(35，35’)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-11之一的裝置(20a，20b)，其中用于定位至少兩個多層體(40，50)的設(shè)備(30a-30g)具有至少一個間隔元件(38)，其中所述間隔元件(38)能夠如此至少部分地布置在所述兩個多層體(40，50)之間，以使得它們能夠彼此間隔地定位。
13.用于加工至少兩個各自具有至少一個待加工表面(44，54)的多層體(40，50)的系統(tǒng)(10)，該系統(tǒng)包含至少一個具有室空間(12)的加工室(11)和至少一個根據(jù)權(quán)利要求1-12之一的用于形成減小的室空間的裝置(20a，20b)，該裝置(20a，20b)具有用于定位所述至少兩個多層體的設(shè)備(30a-30g)。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的系統(tǒng)(10)，其具有用于將加工氣體供給到所述室空間中和/或從其中排出的氣體供給元件和/或氣體排出元件。
15.用于定位至少兩個各自具有至少一個待加工表面(44，54)的多層體(40，50)的方法，其中所述兩個多層體(40，50)如此布置在用于形成減小的室空間的裝置例如加工盒(20a)或者加工罩(20b)中，以使得多層體(40，50)彼此相對，其中待加工表面(44，54)彼此背對背，以使得所述至少兩個物體能夠作為多層體布置(28a-28g)在加工系統(tǒng)(10)中加工。
16.根據(jù)權(quán)利要求1-12之一的用于形成減小的室空間的裝置，以及根據(jù)權(quán)利要求15的方法用于生產(chǎn)薄膜太陽能電池或者薄膜太陽能電池模塊，特別是CIS(CIGSSe)-薄膜太陽能電池或者CIS(CIGSSe)-薄膜太陽能電池模塊的用途，其中特別地，每個多層體設(shè)計為玻璃板的形式，并且至少涂覆有元素Cu、In或者Cu、In、Ga或者Cu、In、Ga、硒,用于硒化和/或硫化黃銅礦薄膜半導(dǎo)體。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種形成減小的室空間的裝置，例如加工盒或者加工罩，其具有用于定位至少兩個各自具有至少一個待加工表面的多層體的裝置，其中該設(shè)備如此配置使得該多層體彼此相對，其中該待加工表面彼此背對背，以使得該多層體能夠作為多層體布置在加工系統(tǒng)中加工。另外涉及一種定位至少兩個每個具有至少一個待加工表面的多層體的方法，其中所述兩個多層體布置在這樣的形成減小的室空間的裝置中，以使得多層體彼此相對，其中該待加工表面彼此背對背，以使得該至少兩個物體能夠作為多層體布置在加工系統(tǒng)中加工。
文檔編號H01L21/673GK102763208SQ201180010715
公開日2012年10月31日 申請日期2011年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月23日
發(fā)明者J.哈特維希, J.帕爾姆, M.菲爾方格, S.約斯特 申請人:法國圣戈班玻璃廠