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      采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法

      文檔序號(hào):7098159閱讀:216來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)(La10_xSi6N0.13O26.81-L5x (X=0. 00 O. 67))薄膜的方法。
      背景技術(shù)
      目前,在清潔能源領(lǐng)域,固體氧化物燃料電池(Solid Oxide Fuel Cell, SOFC)的研究已成為熱點(diǎn)。在陽(yáng)極儲(chǔ)氫材料取得較大突破的前提下,大力開發(fā)具有優(yōu)良氧離子電導(dǎo)的固體電解質(zhì)材料就顯的格外重要。固體電解質(zhì)是SOFC中的關(guān)鍵部件,起著隔離反應(yīng)氣體和輸送氧離子的重要作用,其電導(dǎo)性能的大小與好壞直接影響電池的性能。傳統(tǒng)的氧化鋯 (YSZ)固體電解質(zhì),由于在高溫下工作,導(dǎo)致了材料的緩慢分解與腐蝕、相間擴(kuò)散、制備工藝復(fù)雜、成本過高等缺點(diǎn),制約了其大規(guī)模的應(yīng)用。后來(lái),中低溫下具有高離子電導(dǎo)率的螢石型CeO2基、Bi2O3基和鈣鈦礦類電解質(zhì)相繼出現(xiàn)。但是,它們?nèi)源嬖谝韵码y以解決的問題CeO2基和摻雜Bi2O3基電解質(zhì)材料工作溫度范圍窄,在低氧分壓和還原氣氛下容易產(chǎn)生引起短路通道的電子電導(dǎo);鈣鈦礦類電解質(zhì)材料主要存在燒結(jié)性能差,電解質(zhì)與電極材料的相容性差等問題。硅酸鑭(La1Q_x(SiO4) 602_3x/2,X=O. 00 O. 67,以下簡(jiǎn)稱LS0)是一種新型固體電解質(zhì)材料,在中低溫下具有較低的傳導(dǎo)活化能和高的氧離子傳輸性能,可以在較大的氧分壓范圍下正常工作,材料穩(wěn)定性好,對(duì)電極和連接材料兼容性好。研究表明,通過對(duì)LSO進(jìn)行摻雜,提高其間隙氧濃度,可以改善它的電導(dǎo)性能。然而,目前對(duì)于LSO的摻雜研究?jī)H限于金屬陽(yáng)離子,而且這種陽(yáng)離子摻雜對(duì)于LSO的電導(dǎo)性能的改善效果有限?,F(xiàn)有的高溫固相,溶膠-凝膠等方法,也均不能實(shí)現(xiàn)對(duì)02_陰離子的取代摻雜。因此,尋找出新的、穩(wěn)定的陰離子摻雜方法,對(duì)實(shí)現(xiàn)LSO的大幅電導(dǎo)性能提高具有重要的意義。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)所提出的一種采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,實(shí)現(xiàn)對(duì)硅酸鑭02_陰離子的取代摻雜,達(dá)到增強(qiáng)硅酸鑭固體電解質(zhì)的電導(dǎo)性能的目的。本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,包括有以下步驟
      1)按照摩爾比為正硅酸乙酯(TE0S):La203=129. 33 10. 00取TEOS和La2O3,向TEOS和La2O3中加入乙醇和硝酸加熱溶解,再加入去離子水制成混合溶液;
      2)用氨水調(diào)節(jié)步驟I)的混合溶液pH值至4 6,加熱攪拌,經(jīng)80°C 90°C水浴加熱2h得到均勻溶膠;
      3)將步驟2)所得均勻溶膠旋涂在干燥潔凈的玻璃片上,在90°C 100°C下干燥24h,得到凝膠薄膜;4)將步驟3)所得凝膠薄膜放入馬弗爐中在750°C 800°C煅燒10 12h,退火,得到初級(jí)薄膜;
      5)將步驟4)所得初級(jí)薄膜放入微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置中,抽真空,控制反應(yīng)壓力在I. OKPa 5. OKPa,開通氮?dú)?,微波功?00 800 W、反應(yīng)時(shí)間30min 40min,得到反應(yīng)后的次級(jí)薄膜;
      6)將步驟5)得到的次級(jí)薄膜,進(jìn)行燒結(jié),即得飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜。按上述方案,步驟6)所述的燒結(jié)工藝是在1100°C 1200°C保溫10 12h。
      按上述方案,所述的氮?dú)獾馁|(zhì)量百分比濃度不小于99. 99%ο按上述方案,步驟3)所述的玻璃片是采用下述處理方法所得使用質(zhì)量濃度75%的酒精浸泡超過48小時(shí),經(jīng)去離子水洗滌3次以上,晾干2h。本發(fā)明的作用機(jī)理高純氮在微波等離子體裝置內(nèi)形成微波等離子球,氮?dú)獾入x子體球中包含大量的高能氮離子,氮?dú)獾入x子作用于硅酸鑭,引發(fā)其晶格振動(dòng),氮離子因此滲入其晶格內(nèi),取代氧O2-而形氧離子空位,被取代出的氧離子,與氮離子結(jié)合,成no、no2放出。本發(fā)明的有益效果是本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了對(duì)硅酸鑭02_陰離子的氮飽和取代摻雜,增加了硅酸鑭O2-離子空位濃度,提高了間隙氧的密度,較大的提高了電解質(zhì)的電導(dǎo)率,同時(shí)氮摻雜降低了電解質(zhì)的工作溫度(500°C 800°C),所得產(chǎn)品具有低活化能和高氧離子電導(dǎo)率,高效、無(wú)污染可用于氧傳感器、薄膜、固體氧化物燃料電池等眾多領(lǐng)域。


      圖I是本發(fā)明實(shí)施例I所得飽和氮雜的La9.33Si6025.8N0.13產(chǎn)品的XRD 圖2是本發(fā)明實(shí)施例I所得飽和氮雜的La9.33Si6025.8Nai3產(chǎn)品的SEM圖。
      具體實(shí)施例方式下面通過實(shí)施例進(jìn)一步介紹本發(fā)明,但是實(shí)施例不會(huì)構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。實(shí)施例I
      分別稱取O. 012molTE0S、0. 0187molLa203,使摩爾比Si La=6 9. 33,用適量的無(wú)水乙醇和適量的硝酸溶解,加熱攪拌混合均勻,加入適量的去離子水,用氨水調(diào)節(jié)PH到4 6,得到澄清的前軀體溶液,前軀體溶液80°C水浴2h得到均勻溶膠,所得的溶膠旋涂在干燥潔凈的玻璃片(玻璃片是采用下述處理方法所得使用質(zhì)量濃度75%的酒精浸泡超過48小時(shí),經(jīng)去離子水洗滌3次以上,晾干2h,下同)上,然后在95°C干燥24h,得到凝膠薄膜。將凝膠薄膜在750V 800°C煅燒12h,退火,得到初級(jí)薄膜。所得初級(jí)薄膜放入微波等離子體設(shè)備中,抽真空,控制反應(yīng)壓力在4. OkPa,開通氮?dú)?氮?dú)獾馁|(zhì)量百分比濃度為99. 999%,下同),微波功率500W,反應(yīng)時(shí)間35min分鐘,得到反應(yīng)后的次級(jí)薄膜。將得到的次級(jí)薄膜,在1150°C下經(jīng)10. 5h燒結(jié),即得到La9.33Si6025.8Nai3飽和氮雜磷灰石型娃酸鑭固體電解質(zhì)薄膜。如圖I所示,對(duì)比標(biāo)準(zhǔn)PDF卡片(ICSD#94315)衍射數(shù)據(jù),晶面(211)、( 110)、(300)等衍射峰明顯,強(qiáng)度高,峰值半高寬小,表明薄膜物相單一,薄膜晶粒尺寸小;如圖2所示,薄膜六邊形晶界明顯,結(jié)晶度較高,薄膜表面均一,晶粒尺寸在2um左右。測(cè)試La9.33Si6025.8N0.i3薄膜的最高電導(dǎo)率在800°C為4. 38X 10 2S/cm,活化能為O. 377eV。
      實(shí)施例2
      分別稱取 O. 012molTE0S、0. 020molLa203,使 Si La=6. 00 10. 00,用適量的無(wú)水乙醇和
      適量的硝酸溶解,加熱攪拌混合均勻,加入適量的去離子水,用氨水調(diào)節(jié)pH到4 6,得到澄清的前軀體溶液,前軀體溶液80°C水浴2h得到均勻溶膠,所得的溶膠旋涂在干燥潔凈的玻璃片上,然后在95°C干燥24h,得到凝膠薄膜,將凝膠薄膜在750°C 800°C煅燒12h,退火,得到初級(jí)薄膜。所得初級(jí)薄膜放入微波等離子體設(shè)備中,微波等離子體設(shè)備抽真空,控制反應(yīng)壓力在4. OkPa,開通氮?dú)猓⒉üβ?00W,反應(yīng)時(shí)間30min分鐘,得到反應(yīng)后的次級(jí)薄膜。將得到的次級(jí)薄膜,在1200°C下經(jīng)IOh燒結(jié),即得到LaltlSi6O26.81\13飽和氮雜磷灰石型硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜。測(cè)試LaltlSi6O26.81Να 3薄膜的最高電導(dǎo)率在800°C為3. 74X10 2S/cm,活化能為 O. 383 eV。實(shí)施例3
      分別稱取 O. 012molTE0S、0. 0195molLa203,使 Si La=6. 00 9. 75,用適量的無(wú)水乙醇和適量的硝酸溶解,加熱攪拌混合均勻,加入適量的去離子水,用氨水調(diào)節(jié)PH到4 6,得到澄清的前軀體溶液,前軀體溶液80°C水浴2h得到均勻溶膠,所得的溶膠旋涂在干燥潔凈的玻璃片上,然后在95°C干燥24h,得到凝膠薄膜,將凝膠薄膜在750V 800°C煅燒12h,退火,得到初級(jí)薄膜。所得初級(jí)薄膜放入微波等離子體設(shè)備中,微波等離子體設(shè)備抽真空,控制反應(yīng)壓力在4. OkPa,開通氮?dú)?,微波功?50W,反應(yīng)時(shí)間35min分鐘,得到反應(yīng)后的次級(jí)薄月旲。將得到的次級(jí)薄I旲,在1100 C下經(jīng)Ilh燒結(jié),即得到La9.75Si6026.44Να 13飽和風(fēng)雜憐灰石型硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜。測(cè)試La9.75Si6026.44N0.13薄膜的最高電導(dǎo)率在800°C為9. 74X 10 33/011,活化能為0.417 eV。列舉的各原料都能實(shí)現(xiàn)本發(fā)明,以及各原料的上下限取值、區(qū)間值都能實(shí)現(xiàn)本發(fā)明;在此不一一列舉實(shí)施例。本發(fā)明的工藝參數(shù)(如溫度、時(shí)間、壓力等)的上下限取值、區(qū)間值都能實(shí)現(xiàn)本發(fā)明,在此不一一列舉實(shí)施例。
      權(quán)利要求
      1.采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,包括有以下步驟 1)按照摩爾比為TEOS =La2O3= 12 9. 33 10. 00 取 TEOS 和 La2O3,向 TEOS 和 La2O3 中加入乙醇和硝酸加熱溶解,再加入去離子水制成混合溶液; 2)用氨水調(diào)節(jié)步驟I)的混合溶液pH值至4 6,加熱攪拌,經(jīng)80°C 90°C水浴加熱2h得到均勻溶膠; 3)將步驟2)所得均勻溶膠旋涂在干燥潔凈的玻璃片上,在90°C 100°C下干燥24h,得到凝膠薄膜; 4)將步驟3)所得凝膠薄膜放入馬弗爐中在750°C 800°C煅燒10 12h,退火,得到初級(jí)薄膜; 5)將步驟4)所得初級(jí)薄膜放入微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置中,抽真空,控制反應(yīng)壓力在I. OKPa 5. OKPa,開通氮?dú)?,微波功?00 800 W、反應(yīng)時(shí)間30min 40min,得到反應(yīng)后的次級(jí)薄膜; 6)將步驟5)得到的次級(jí)薄膜,進(jìn)行燒結(jié),即得飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜。
      2.按權(quán)利要求I所述的采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,其特征在于步驟6)所述的燒結(jié)工藝是在1100°C 1200°C保溫10 12h。
      3.按權(quán)利要求I或2所述的采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,其特征在于步驟5)所述的氮?dú)獾馁|(zhì)量百分比濃度不小于99. 99%。
      4.按權(quán)利要求I活所述的采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,其特征在于,步驟3)所述的玻璃片是采用下述處理方法所得使用質(zhì)量濃度75%的酒精浸泡超過48小時(shí),經(jīng)去離子水洗滌3次以上,晾干2h。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及采用微波等離子體制備飽和氮雜硅酸鑭固體電解質(zhì)薄膜的方法,包括有以下步驟1)取TEOS和La2O3,加入乙醇和硝酸加熱溶解,再加入去離子水制成混合溶液;2)氨水調(diào)節(jié)pH值,加熱攪拌,水浴加熱得到均勻溶膠;3)旋涂在玻璃片上,干燥,得到凝膠薄膜;4)將凝膠薄膜放入馬弗爐中煅燒,退火,得到初級(jí)薄膜;5)將初級(jí)薄膜放入微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置中,抽真空,微波功率500~800W反應(yīng),得到次級(jí)薄膜;6)將次級(jí)薄膜,進(jìn)行燒結(jié),即得。本發(fā)明的有益效果是:提高了電解質(zhì)的電導(dǎo)率,同時(shí)氮摻雜降低了電解質(zhì)的工作溫度(500℃~800℃),所得產(chǎn)品具有低活化能和高氧離子電導(dǎo)率,高效、無(wú)污染。
      文檔編號(hào)H01M8/10GK102637889SQ20121012311
      公開日2012年8月15日 申請(qǐng)日期2012年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月25日
      發(fā)明者季家友, 池汝安, 王樹林, 石月, 陳亞男, 陳常連, 魯冕, 黃志良 申請(qǐng)人:武漢工程大學(xué)
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