專利名稱：用于半導(dǎo)體設(shè)備制造裝備的延伸主機(jī)設(shè)計(jì)的制作方法
用于半導(dǎo)體設(shè)備制造裝備的延伸主機(jī)設(shè)計(jì)
本發(fā)明專利申請(qǐng)是國際申請(qǐng)?zhí)枮镻CT/US2006/048695，國際申請(qǐng)日為2006年12月 20日，進(jìn)入中國國家階段的申請(qǐng)?zhí)枮?00680048123. 6，名稱為“用于半導(dǎo)體設(shè)備制造裝備的延伸主機(jī)設(shè)計(jì)”的發(fā)明專利申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于半導(dǎo)體元件制造，尤其是關(guān)于用于半導(dǎo)體元件制造設(shè)備的延伸主機(jī)設(shè)計(jì)。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體元件的制造制程通常是以具有數(shù)個(gè)主機(jī)的工具進(jìn)行，而主機(jī)中有多個(gè)處理室及/或負(fù)載鎖定室耦接環(huán)繞中央傳送處理室。所述處理室各可進(jìn)行特定制程，或于許多情況中，可進(jìn)行額外及/或相關(guān)制程。
為確保能適當(dāng)操作半導(dǎo)體元件制造工具，工具的處理室、負(fù)載鎖定室及其它處理室必須作維護(hù)，故需充分存取以維護(hù)處理室。然而，于某些情況中，提供這樣的存取可能會(huì)限制系統(tǒng)產(chǎn)量。發(fā)明內(nèi)容
于本發(fā)明第一方式中，第一主機(jī)是用于半導(dǎo)體兀件制造。該第一主機(jī)包括(I)側(cè)壁，可界定中央傳送區(qū)域，用于容設(shè)機(jī)械臂；(2)數(shù)個(gè)面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；(3)延伸面，形成在該側(cè)壁上，以讓主機(jī)得以耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口。
于本發(fā)明第二方式中，是提供用于半導(dǎo)體元件制造的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括一主機(jī)，其具有(I)側(cè)壁，可界定出中央傳送區(qū)，適于容設(shè)機(jī)械臂；(2)數(shù)個(gè)面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在該側(cè)壁上，以讓主機(jī)得以耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口。該系統(tǒng)也包括(a)機(jī)械臂，位于該主機(jī)的中央傳送區(qū)內(nèi)；(b)負(fù)載鎖定室，耦接至該數(shù)個(gè)面的第一個(gè)；以及(c) 一處理室， 耦接至該延伸面。該延伸面適于增加該負(fù)載鎖定室(耦接至主機(jī))以及該處理室(耦接至該延伸面)之間的距離。
于本發(fā)明第三方式中，是提供用于半導(dǎo)體元件制造的第二主機(jī)。該第二主機(jī)包括第一傳送區(qū)段，其具有(I)第一側(cè)壁，可界定出適于容設(shè)第一機(jī)械臂的第一中央傳送區(qū)；(2)數(shù)個(gè)面，形成在該第一側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成在該第一側(cè)壁上，以讓該主機(jī)得以耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，同時(shí)提供該主機(jī)維護(hù)存取。該第二主機(jī)也包括耦接至該第一傳送區(qū)段的第二傳送區(qū)段，且具有(I)第二側(cè)壁，可界定適于容設(shè)第二機(jī)械臂的第二中央傳送區(qū)；(2)數(shù)個(gè)面，形成在該第二側(cè)壁上，各適于耦接至處理室； 以及(3)延伸面，形成在該第二側(cè)壁上，以讓該主機(jī)得以耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口。
于本發(fā)明第四方式中，是提供用于半導(dǎo)體元件制造的第三主機(jī)。該第三主機(jī)包括(I)側(cè)壁，可界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中央傳送區(qū)；(2)數(shù)個(gè)面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)間距物，耦接至所述面的至少一個(gè)，該間距物適于讓主機(jī)得以耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，同時(shí)提供主機(jī)的維護(hù)存取。依據(jù)此等及其它方式更可提供多種其它實(shí)施方式。
本發(fā)明其它特征及實(shí)施方式在參閱下文詳細(xì)說明、權(quán)利要求及圖標(biāo)后更可清楚領(lǐng)AO


圖1為半導(dǎo)體元件制造期間可使用的公知的真空主機(jī)的俯視平面圖。
圖2為圖1主機(jī)的俯視平面圖，顯示四個(gè)耦接至該主機(jī)的大處理室。
圖3A為依據(jù)本發(fā)明的第一例示性主機(jī)的俯視平面圖。
圖3B為本發(fā)明所提供圖3A主機(jī)的第一替代實(shí)施例的俯視平面圖。
圖3C為本發(fā)明所提供圖3A主機(jī)的第二替代實(shí)施例的俯視平面圖。
圖4為圖3A的第一例示性主機(jī)的俯視平面圖，其具有四個(gè)耦接至該主機(jī)的大型處理室。
圖5A為本發(fā)明所提供第二例示性主機(jī)的俯視平面圖。
圖5B為本發(fā)明所提供圖5A主機(jī)的第一替代實(shí)施例的俯視平面圖。
圖5C為本發(fā)明所提供圖5A主機(jī)的第二替代實(shí)施例的俯視平面圖。
圖6為圖5A第二例示性主機(jī)的俯視平面圖，其具有五個(gè)耦接至該主機(jī)的處理室。
圖7A為本發(fā)明所提供第三例示性主機(jī)的俯視平面圖。
圖7B為本發(fā)明所提供圖7A主機(jī)的第一替代實(shí)施例的俯視平面圖。
圖7C為本發(fā)明所提供圖7A主機(jī)的第二替代實(shí)施例的俯視平面圖。
圖8A為一例示性通過室(pass through chamber)的俯視平面圖,其利用本發(fā)明一或多個(gè)間距物。
圖SB為本發(fā)明所提供一例示性延伸通過室的俯視平面圖。
圖9為本發(fā)明的一例示性負(fù)載鎖定室的俯視平面圖。
主要組件符號(hào)說明
100真空主機(jī) 101中心傳送處理室區(qū)
102a-f面 104a_b負(fù)載鎖定室
106工廠接口 108a_c基材載件
110主機(jī)機(jī)械臂200a_d大型處理室
300主機(jī) 400a_d大型處理室
303a 303b 間距物
502單一負(fù)載鎖定室504中心傳送區(qū)
506間距物 600a_e大型處理室
700主機(jī) 702第一主機(jī)段
704第二主機(jī)段 706a_b通過室
708a-f 7IOd 面
712a-b主機(jī)機(jī)械臂714中心傳送區(qū)
716中心傳送區(qū) 720間距物
802a第一間距物802b第二間距物
500 主機(jī)具體實(shí)施方式
本發(fā)明關(guān)于延伸主機(jī)設(shè)計(jì)，以讓其它及/或較大處理室可放置在主機(jī)周圍，同時(shí)維持對(duì)主機(jī)、處理室以及/或耦接至該主機(jī)的負(fù)載鎖定室的維護(hù)進(jìn)出口。
圖1為公知的可在半導(dǎo)體元件制造期間使用的真空主機(jī)100的俯視平面圖。該真空主機(jī)100包括一中心傳送處理室區(qū)101以及數(shù)個(gè)面102a-f，各適于耦接至處理室、負(fù)載鎖定室或其它處理室(例如，預(yù)清潔、烘烤、冷卻或度量或缺陷檢測(cè)室、或類似的)。雖然圖1 主機(jī)100圖標(biāo)具有六個(gè)面，但應(yīng)可理解也可采用較少或較多面。
在一般應(yīng)用期間，數(shù)個(gè)負(fù)載鎖定室104a_b是耦接至主機(jī)100，例如所示的面102e、 102f。工廠接口 106也可耦接至該負(fù)載鎖定室104a-b，且也可于工廠接口 106的負(fù)載端口 (未個(gè)別示出)接收基材載件108a-c。工廠接口 106內(nèi)的工廠接口機(jī)械臂(未個(gè)別示出) 其后可取得來自基材載件108a_c的基材,并將基材傳送至負(fù)載鎖定室104a_b (或?qū)碜载?fù)載鎖定室104a_b的基材傳送至基材載件108a_c)。半導(dǎo)體元件制造期間，主機(jī)機(jī)械臂110 可將基材傳送于該負(fù)載鎖定室104a-b以及耦接至該主機(jī)100 (例如，于面102a-d處)的任何制程或其它處理室。
圖2為圖1主機(jī)100的俯視平面圖，顯示四個(gè)耦接至主機(jī)100的大型處理室 200a-d。參照?qǐng)D1及圖2，于公知的主機(jī)100中，主機(jī)機(jī)械臂110是利用較傳送基材進(jìn)出處理室200a-d(耦接至主機(jī)100，如圖所示)為短的范圍將基材傳送進(jìn)出負(fù)載鎖定室104a、 104b ο
為增加負(fù)載鎖定室104a_b及處理室200a_d間的空地(例如，為了維修服務(wù))，負(fù)載鎖定室通常是一起旋轉(zhuǎn)(如圖所示)。然而，維修服務(wù)的情形在大型處理室(例如蝕刻室、 化學(xué)氣相沉積(CVD)室、原子層沉積(ALD)室、物理氣相沉積(PVD)室或類似的)配合主機(jī) 100應(yīng)用時(shí)才會(huì)·出現(xiàn)。例如，如圖2所示在四個(gè)大型處理室耦接至主機(jī)100時(shí)，主機(jī)100及 /或負(fù)載鎖定室104a_b可能就無法作為修服務(wù)、或維修存取可能會(huì)受限及/或不安全(例如，小于24英寸的SEMI標(biāo)準(zhǔn))。因此，只有將近三個(gè)大型處理室配合主機(jī)100使用。
圖3A為本發(fā)明第一例示性主機(jī)300的俯視平面圖。相較于第I及2圖的公知的主機(jī)100，主機(jī)300為向前「伸展」至工廠接口 106。例如，主機(jī)300可伸展至主機(jī)機(jī)械臂 110的最大范圍(或至其它適當(dāng)距離)。于至少一實(shí)施例中，當(dāng)將基材傳送進(jìn)出負(fù)載鎖定室 104a-b時(shí)，主機(jī)300會(huì)延伸以便增加主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍約10英寸(相較于公知的主機(jī)100內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍)。如圖3A所示，主機(jī)300是通過增加主機(jī)300側(cè)壁中面102c、102d的長度來伸展，而使中心傳送區(qū)301的尺寸有些許增加。
通過伸展主機(jī)300，四個(gè)大型處理室可設(shè)在主機(jī)300周圍，并仍做安全的維護(hù)。例如，圖4為第一例示性主機(jī)300的俯視平面圖，其具有四個(gè)耦接至主機(jī)300的大型處理室 400a-d。維護(hù)存取因此而改善且安全，甚至在使用全尺寸處理室時(shí)亦然。例如，耦接至面 102c或102d的處理室及工廠接口 106之間可以進(jìn)行維護(hù)。于相同實(shí)施例中，也可使用SEMI 標(biāo)準(zhǔn)存取規(guī)范，例如24英寸或更大的存取尺寸。
通過將主機(jī)300伸展一個(gè)不會(huì)超過主機(jī)機(jī)械臂110范圍限制的范圍，就不會(huì)因改變主機(jī)設(shè)計(jì)而大幅增加成本。例如，使用在公知的主機(jī)100內(nèi)的相同主機(jī)機(jī)械臂110、狹縫閥、負(fù)載鎖定室等仍可使用在伸展的主機(jī)300內(nèi)。
參照?qǐng)D3B，此外或者可通過將間距物303a放置在面102e及負(fù)載鎖定室104a之間及/或?qū)㈤g距物303b放置在面102f及負(fù)載鎖定室104b之間，以增加處理室400a及/或 400b以及工廠接口 106間額外距離的方式(參照?qǐng)D4)而達(dá)到較大的維護(hù)進(jìn)出口范圍。間距物303a-b可包括，例如通道或可延伸于主機(jī)300及負(fù)載鎖定室104a及/或104b間的類似結(jié)構(gòu)。類似間距物303a-b也可用于負(fù)載鎖定室104a及/或104b及工廠接口 106之間， 如圖3C所示(例如，約6英寸至8英寸長的片狀金屬或類似通道)。
負(fù)載鎖定室104a及/或104b的本體長度另外或者可增加，以增加處理室400a及 /或400b以及工廠接口 106間的額外面積。使用間距物及/或延伸的負(fù)載鎖定室本體長度可增加主機(jī)300及工廠接口 106間的距離，并提供較大的維護(hù)進(jìn)出口。
圖5A為本發(fā)明第二例示性主機(jī)500的俯視平面圖。相較于圖1及圖2的公知的主機(jī)100，主機(jī)500的單一面102d (形成在主機(jī)側(cè)壁中)會(huì)向前「延伸」至工廠接口 106，如圖所示。主機(jī)500的面102d可伸展，例如，伸展至主機(jī)機(jī)械臂110的最大范圍(或至任何其它適當(dāng)距離)。于至少一實(shí)施例中，主機(jī)500的面102d會(huì)伸展，以在傳送基材進(jìn)出主機(jī) 500使用的單一負(fù)載鎖定室502時(shí)，能使主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍增加約10英寸(相較于公知的主機(jī)100內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂110的擴(kuò)展范圍)。應(yīng)注意的是，主機(jī)500的中心傳送區(qū) 504相較于公知的主機(jī)100并未明顯增加尺寸。
通過僅伸展主機(jī)500的面102d，五個(gè)大型處理室便可設(shè)于主機(jī)500周圍，且仍能安 全維護(hù)。例如，圖6為第二例示性主機(jī)500的俯視平面圖，其具有五個(gè)耦接至主機(jī)500的大型處理室600a_e。即便在利用全尺寸處理室時(shí)，也可改善并安全進(jìn)行維護(hù)存取。例如， 耦接至面102d及工廠接口 106間的處理室也可進(jìn)行維護(hù)。于某些實(shí)施例中，也可利用例如 24英寸或更大存取范圍的SEMI標(biāo)準(zhǔn)存取規(guī)范。
應(yīng)注意的是，面102c或者也可在面102d維持不延伸的同時(shí)進(jìn)行伸展。于這樣的實(shí)施例中，負(fù)載鎖定室502是耦接至面102e，且可于，例如，耦接至面102c的處理室及工廠接口 106間進(jìn)行維護(hù)。
通過將主機(jī)500伸展一個(gè)不會(huì)超過主機(jī)機(jī)械臂110范圍限制的范圍，就不會(huì)因改變主機(jī)500設(shè)計(jì)而大幅增加成本。例如,使用在公知的主機(jī)100內(nèi)的相同主機(jī)機(jī)械臂110、 狹縫閥、負(fù)載鎖定室等仍可使用在伸展的主機(jī)300內(nèi)。
如圖5A所不,負(fù)載鎖定室502是以類似圖3A負(fù)載鎖定室104a_b的相同方式(例如，旋轉(zhuǎn)約5至10度，不過也可使用其它旋轉(zhuǎn)角度)做旋轉(zhuǎn)。圖5A的主機(jī)500甚至在將五個(gè)大型(全尺寸)處理室耦接至主機(jī)500時(shí)，也可進(jìn)行維護(hù)。延伸主機(jī)及負(fù)載鎖定室旋轉(zhuǎn)的結(jié)合便可增加維修服務(wù)性。
于進(jìn)一步范例中，當(dāng)所有處理室并行操作時(shí)(例如，實(shí)施相同制程)，使用五個(gè)處理室面會(huì)較使用四個(gè)面有25%多的產(chǎn)量。對(duì)連續(xù)制程而言，便可具有額外產(chǎn)量的改進(jìn)。例如，典型金屬蝕刻制程是利用兩個(gè)蝕刻室及兩個(gè)剝除室。各蝕刻室通常有一剝除室約三分的二的產(chǎn)量(例如，蝕刻室20片晶片/小時(shí)對(duì)剝除室30片晶片/小時(shí))。通過使用所有五個(gè)面，額外的蝕刻室即可耦接至主機(jī)500，進(jìn)而具有三個(gè)蝕刻室及兩個(gè)剝除室。三個(gè)蝕刻室及兩個(gè)剝除室的使用在與其它主機(jī)配置中使用兩個(gè)蝕刻室及兩個(gè)剝除室的比較后，呈現(xiàn) 50%的產(chǎn)量增加。
此外，或者也可通過將間距物506放置于面102f及負(fù)載鎖定室502間而達(dá)到較大的維護(hù)進(jìn)出口范圍，以于處理室600d及工廠接口 106間增加額外空間(參見圖6)。間距物506可包括，例如通道或可延伸于主機(jī)500及負(fù)載鎖定室502之間的類似結(jié)構(gòu)。類似的間距物也可以用在負(fù)載鎖定室502及工廠接口 106之間，如圖5C所示(例如，長約6英寸至8英寸的金屬片或類似通道)。
另或者也可增加負(fù)載鎖定室502本體長度，以于處理室600d及工廠接口 106間形成額外空間。使用間距物及/或延伸的負(fù)載鎖定室本體長度可增加主機(jī)500及工廠接口 106間的距離，并提供較大的維護(hù)服務(wù)范圍。
圖7A為本發(fā)明第三例示性主機(jī)700的俯視平面圖。第三主機(jī)700包括耦接至第二主機(jī)段704 (如，低真空輸入段段)的第一主機(jī)段702 (如，高真空區(qū)段)。第一及第二主機(jī)段702、704經(jīng)由通過室706a-706b耦接。第一主機(jī)段702包括數(shù)個(gè)面708a_f (形成在該主機(jī)的第一側(cè)壁中)以及第二主機(jī)段704，其包括數(shù)個(gè)面710a-f (形成在該主機(jī)的第二側(cè)壁中)。各主機(jī)段702、704包括一主機(jī)機(jī)械臂712a、712b。
如圖7A所示，第一主機(jī)段702類似圖3A-C及圖4的主機(jī)300。亦即，第一主機(jī)段 702的面708c及708d是向前「伸展」至工廠接口 106 (如圖所示)。第一主機(jī)段702的面 708c、708d可伸展，例如，伸展至第一主機(jī)機(jī)械臂712a的最大范圍(或至其它適當(dāng)距離)。 在至少一實(shí)施例中，第一主機(jī)段702的面708c、708d會(huì)伸展以使第一主機(jī)機(jī)械臂712a的范圍在傳送基材進(jìn)出通過室706a、706b時(shí)可增加約10英寸(相較于公知的主機(jī)內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂的范圍)。如前述通過伸展第一主機(jī)段702，四個(gè)大型處理室便可設(shè)在第一主機(jī)段702周圍，并安全地作維護(hù)。
于第二主機(jī)段704，主機(jī)段704的單一面710d會(huì)向前「伸展」至工廠接口 106 (如圖所示)。第二主機(jī)段704的面710d可伸展，例如，伸展至第二主機(jī)機(jī)械臂712b的最大范圍(或至任何適當(dāng)距離)。在至少一實(shí)施例中，第二主機(jī)段704的面710d會(huì)伸展，以在配合主機(jī)700傳送基材進(jìn)出單一負(fù)載鎖定室502時(shí)，使主機(jī)機(jī)械臂712b的擴(kuò)展能增加約10英寸(相較于公知的主機(jī)內(nèi)主機(jī)機(jī)械臂的擴(kuò)展范圍)。通過僅伸展第二主機(jī)段704的面710d， 五個(gè)大型處理室便可設(shè)在第二主機(jī)段704周圍，且仍可安全地維護(hù)。
經(jīng)由使用伸展主機(jī)段702、704，主機(jī)700可提供大型全尺寸處理室總共七個(gè)面。第一主機(jī)段702的中心傳送區(qū)714比第二主機(jī)段704的中心傳送區(qū)716略長。
此外或者也可通過將間距物720 (示于圖7B)安置在面710f及負(fù)載鎖定室502之間，以于任何耦接至面710d的處理室及工廠接口 106之間形成額外空間。間距物720可包括，例如通道或可延伸于第一主機(jī)702及通過室706a、706b間的類似結(jié)構(gòu)。間距物也可用于通過室706a、706b以及第二主機(jī)段704之間。
圖8A為本發(fā)明第一通過室706a的例示性實(shí)施例的俯視平面圖，其具有相耦接的第一間距物802a以及第二間距物802b。該第二通過室706b可為類似配置。
通過室706a及/或706b的本體長度另或者也可增加。例如，圖8B為第二通過室 706b的例示性實(shí)施例，其具有依本發(fā)明伸展的本體區(qū)804。然其它本體部分也可作伸展。該第一通過室706a可作類似配置。
另或者也可增加負(fù)載鎖定室502的本體長度，以于耦接至面710d的任一處理室及工廠接口 106間形成額外空間。例如，圖9繪示依據(jù)本發(fā)明具有本體區(qū)902延伸的負(fù)載鎖定室的例示性實(shí)施例。然其它本體區(qū)也可作延伸。該負(fù)載鎖定室104a-b也可作類似延伸。 使用間距物及/或延伸的負(fù)載鎖定室本體長度可增加主機(jī)700 (或500)及工廠接口 106間的距離，并提供較大的維護(hù)進(jìn)出口范圍。
前文說明僅揭示本發(fā)明例示性實(shí)施例 。熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)可立即了解，前文所揭示設(shè)備及方法的變化皆落于本發(fā)明涵蓋范圍內(nèi)。例如，主機(jī)300、500及或主機(jī)段 702、704可包括比六個(gè)更多或更少的面。因此，雖然本發(fā)明是以例示實(shí)施例做說明，但應(yīng)了解其它實(shí)施例也應(yīng)落入本發(fā)明范圍內(nèi)，且其范圍應(yīng)由權(quán)利要求所界定。
權(quán)利要求
1.一種的主機(jī)，包括 側(cè)壁，界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)； 數(shù)個(gè)面，形成于該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及 間距物，耦接到所述面的至少一個(gè)，該間距物適于讓該主機(jī)能耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，并同時(shí)提供對(duì)該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
2.如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該間距物適于將負(fù)載鎖定室耦接至該主機(jī)。
3.如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該間距物適于將通過室耦接至該主機(jī)。
4.如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該間距物適于讓該主機(jī)能耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，并同時(shí)提供對(duì)該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
5.如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，包括通過室，具有耦接至該通過室的第一間距物和第二間距物。
6.如權(quán)利要求1所述的主機(jī),包括 第一間距物，位于所述數(shù)個(gè)面中的第一面和第一負(fù)載鎖定室之間；以及第二間距物，位于所述數(shù)個(gè)面中的第二面和第二負(fù)載鎖定室之間，以形成處理室和工廠接口之間的額外空間。
7.如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，其中該間距物通過耦接于負(fù)載鎖定室和工廠接口之間而耦接至數(shù)個(gè)面中的第一面。
8.如權(quán)利要求1所述的主機(jī)，包括 第一間距物，通過耦接于第一負(fù)載鎖定室和工廠接口之間而耦接至所述數(shù)個(gè)面中的第一面；以及 第二間距物，通過耦接于第二負(fù)載鎖定室和所述工廠接口之間而耦接至所述數(shù)個(gè)面中的第二面。
9.一種半導(dǎo)體設(shè)備制造裝置，包括 工廠接口 ； 主機(jī)，具有界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)的側(cè)壁，以及形成于該側(cè)壁上的數(shù)個(gè)面，各適于耦接至處理室，所述數(shù)個(gè)面中的單一面延伸向所述工廠接口 ； 單一負(fù)載鎖定室，由所述主機(jī)使用，并耦接于所述主機(jī)和所述工廠接口之間；以及間距物，位于所述數(shù)個(gè)面中的面和所述單一負(fù)載鎖定室之間或者位于所述負(fù)載鎖定室和所述工廠接口之間。
10.一種用于在半導(dǎo)體設(shè)備制造期間所用的主機(jī)，包括 側(cè)壁，界定出適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)； 數(shù)個(gè)面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室，所述數(shù)個(gè)面中的至少一個(gè)包括延伸面；以及 間距物，耦接至所述至少一個(gè)面，所述間距物適于耦接至負(fù)載鎖定室和通過室中的一個(gè)并允許所述主機(jī)耦接至至少四個(gè)全尺寸處理室同時(shí)提供對(duì)該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口。
11.一種用于在半導(dǎo)體設(shè)備制造期間所用的主機(jī)，包括 側(cè)壁，界定出適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)； 數(shù)個(gè)面，形成在該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室，所述數(shù)個(gè)面中的至少一個(gè)包括延伸面；以及間距物，耦接至所述至少一個(gè)面，所述間距物適于耦接至負(fù)載鎖定室和通過室中的一個(gè)并允許所述 主機(jī)耦接至至少四個(gè)全尺寸處理室同時(shí)提供對(duì)該主機(jī)進(jìn)行維護(hù)的進(jìn)出口，且其中所述延伸面的長度大于所述不延伸的數(shù)個(gè)面。
全文摘要
于第一實(shí)施方式中，本發(fā)明提供用于半導(dǎo)體元件制造期間使用的主機(jī)。該第一主機(jī)包括(1)側(cè)壁，可界定適于容設(shè)機(jī)械臂的中心傳送區(qū)；(2)數(shù)個(gè)面，形成于該側(cè)壁上，各適于耦接至處理室；以及(3)延伸面，形成于該側(cè)壁上，可讓該主機(jī)能耦接到至少四個(gè)全尺寸處理室，同時(shí)提供該主機(jī)的維護(hù)進(jìn)出口。本發(fā)明亦揭示其它多種實(shí)施方式。
文檔編號(hào)H01L21/67GK103021908SQ20121039624
公開日2013年4月3日 申請(qǐng)日期2006年12月20日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月20日
發(fā)明者M·R·賴斯 申請(qǐng)人:應(yīng)用材料公司