專利名稱：晶體硅太陽能電池的板式pecvd鍍膜的在線吹掃裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種晶體硅太陽能電池PECVD工序板式鍍膜設(shè)備，具體涉及一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置。
背景技術(shù)：
太陽能作為一種清潔、可再生的能源，對(duì)它的利用一直被人們所關(guān)注。晶體硅太陽電池作為目前太陽能電池的主流，如何降低太陽能電池的成本，提高效率成為國內(nèi)外晶體硅太陽能電池研究的重點(diǎn)。在生產(chǎn)晶體硅太陽能電池的過程中， 硅片在鍍膜后疊放時(shí)鍍膜面存在著容易被氮化硅粉塵玷污，導(dǎo)致鍍膜面氮化硅粉塵難以清除的問題，不便于后序操作，增加了人力成本。

實(shí)用新型內(nèi)容實(shí)用新型目的本實(shí)用新型的目的是為了更好的解決鍍膜后硅片疊放時(shí)鍍膜面容易被粉塵玷污的問題，提供一種方便快捷的吹掃系統(tǒng)，便于后序操作，節(jié)約人力成本。技術(shù)方案本實(shí)用新型所述的一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，包括壓力調(diào)節(jié)閥、連接管路及風(fēng)刀，所述風(fēng)刀為中空結(jié)構(gòu)，且截面為梯形，所述連接管路的兩端分別和氣源及風(fēng)刀下底面的進(jìn)氣口連接，所述壓力調(diào)節(jié)閥設(shè)置在所述連接管路上，所述風(fēng)刀的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔，所述風(fēng)刀上底面的寬度與大于或等于待吹掃石墨載板的寬度。進(jìn)一步，所述風(fēng)刀上底面的氣孔分為三排，各排均勻排布，氣孔直徑為O. 1cm，氣孔間隔為O. 3cm。進(jìn)一步，所述風(fēng)刀的長度與待吹掃石墨載板的長度相等。進(jìn)一步，所述風(fēng)刀的材質(zhì)為聚四氟乙烯。為了保證了氣體在傳輸過程不受到任何污染，所述連接管路為二分之一英寸不銹鋼管。本裝置在不改變原有設(shè)備和工藝的前提下，在設(shè)備出料腔后安裝風(fēng)刀，上述的風(fēng)刀采用壓縮空氣做氣源，直接放置于工藝腔尾部，待吹掃石墨載板出口正上方，氣孔吹掃方向與待吹掃石墨載板成45°夾角。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比，其有益效果是1、解決了沉積在硅片上表面的氮化硅粉塵在硅片疊放時(shí)玷污到硅片鍍膜面，導(dǎo)致鍍膜面氮化硅粉塵難以清除的問題；2、本吹掃裝置安裝簡單，無需對(duì)原有設(shè)備進(jìn)行更改，節(jié)約空間；3、本吹掃裝置以壓縮空氣為氣源，無需單獨(dú)安裝輸送管路，可直接與其它設(shè)備的壓縮空氣管路共用；4、獨(dú)特的風(fēng)刀氣孔設(shè)計(jì)使吹掃氣體形成穩(wěn)定、均勻的氣流，對(duì)PECVD載板及載板上的硅片進(jìn)行吹掃，清除其表面的氮化硅粉塵，防止由于粉塵而污染、劃傷硅片表面。

[0011]圖I為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為所述風(fēng)刀的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面對(duì)本實(shí)用新型技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明，但是本實(shí)用新型的保護(hù)范圍不局限于所述實(shí)施例。如圖I所示為一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，包括壓力調(diào)節(jié)閥I、連接管路2及風(fēng)刀3，所述風(fēng)刀3采用聚四氟乙烯制作而成，所述連接管路2為二分之一英寸不銹鋼管，保障了吹掃裝置的氣密性及氣源輸出的穩(wěn)定性，所述風(fēng)刀3為中空結(jié)構(gòu)，且截面為梯形，所述連接管路2的兩端分別和氣源4及風(fēng)刀3下底面的進(jìn)氣口連接，所述壓力調(diào)節(jié)閥I設(shè)置在所述連接管路2上，壓力調(diào)節(jié)閥I可調(diào)節(jié)進(jìn)入吹掃裝置的壓縮空氣壓力，防止壓力過小不能將載板以及硅片上掉落的氮化硅粉塵清除，以及由于壓力過大而使硅片損壞或移位，所述風(fēng)刀3的上底面均勻設(shè)置有三排吹掃氣孔，氣孔直徑為 O. 1cm，氣孔間隔為O. 3cm，保證壓縮空氣形成均勻、穩(wěn)定的氣流，防止由于氣流不均勻引起的碎片、翹片，所述風(fēng)刀3上底面的寬度與長度與待吹掃石墨載板的寬度與長度相等。硅片經(jīng)過鍍膜后從下料腔傳出，在其傳出位置安裝此吹掃裝置，所述風(fēng)刀3安裝于石墨載板出口正上方10-20cm處,風(fēng)刀3與石墨載板保持平行,氣孔吹掃方向與石墨載板行進(jìn)方向成45°，將該吹掃裝置固定與設(shè)備出口處，壓縮空氣的輸出口與連接管路2相連，氣體經(jīng)壓力調(diào)節(jié)閥I輸送至風(fēng)刀3，氣體經(jīng)風(fēng)刀3均勻吹向石墨載板，達(dá)到在石墨載板的傳輸過程中清除其表面的氮化硅粉塵的目的。如上所述，盡管參照特定的優(yōu)選實(shí)施例已經(jīng)表示和表述了本實(shí)用新型，但其不得解釋為對(duì)本實(shí)用新型自身的限制。在不脫離所附權(quán)利要求定義的本實(shí)用新型的精神和范圍前提下，可對(duì)其在形式上和細(xì)節(jié)上作出各種變化。
權(quán)利要求1.一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，其特征在于，包括壓カ調(diào)節(jié)閥(I)、連接管路(2)及風(fēng)刀(3)，所述風(fēng)刀(3)為中空結(jié)構(gòu)，且截面為梯形，所述連接管路(2)的兩端分別和氣源(4)及所述風(fēng)刀(3)下底面的進(jìn)氣ロ連接，所述壓カ調(diào)節(jié)閥(I)設(shè)置在所述連接管路(2)上，所述風(fēng)刀(3)的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔，所述風(fēng)刀(3)上底面的寬度大于或等于待吹掃石墨載板的寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，其特征在于，所述風(fēng)刀(3)上底面的吹掃氣孔均勻分為三排，氣孔直徑為O. 1cm，氣孔間隔為O.3cm0
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，其特征在于，所述風(fēng)刀(3)的長度與待吹掃石墨載板的長度相等。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，其特征在于，所述風(fēng)刀(3)的材質(zhì)為聚四氟こ烯。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，其特征在于，所述連接管路(2)為二分之一英寸不銹鋼管。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種晶體硅太陽能電池的板式PECVD鍍膜的在線吹掃裝置，其特征在于，包括壓力調(diào)節(jié)閥(1)、連接管路(2)及風(fēng)刀(3)，所述風(fēng)刀(3)為中空結(jié)構(gòu)，且截面為梯形，所述連接管路(2)的兩端分別和氣源(4)及所述風(fēng)刀(3)下底面的進(jìn)氣口連接，所述連接管路(2)上設(shè)置有所述壓力調(diào)節(jié)閥(1)，所述風(fēng)刀(3)的上底面均勻設(shè)置有若干吹掃氣孔，所述風(fēng)刀(3)上底面的寬度與大于或等于待吹掃石墨載板的寬度；本實(shí)用新型解決了沉積在硅片上表面的氮化硅粉塵在硅片疊放時(shí)玷污到硅片鍍膜面，導(dǎo)致鍍膜面氮化硅粉塵難以清除的問題。
文檔編號(hào)H01L31/18GK202610326SQ201220230910
公開日2012年12月19日 申請(qǐng)日期2012年5月22日 優(yōu)先權(quán)日2012年5月22日
發(fā)明者胡俊濤, 勾憲芳, 姜利凱, 王鵬, 曹華斌, 宋愛珍 申請(qǐng)人:中節(jié)能太陽能科技有限公司