藥液處理裝置制造方法
【專利摘要】將藥液處理裝置(S)構(gòu)成為：在從藥液罐(12)經(jīng)由噴淋配管(16)向噴淋嘴(14)輸送藥液(L)的過程中，從添加液罐(25)經(jīng)由添加液配管(26)向在噴淋配管(16)中流動的藥液(L)補(bǔ)充添加液(L2)，并將從噴淋嘴(14)供應(yīng)到被處理基板(W)的表面后的藥液(L)回收到藥液罐(12)中。
【專利說明】藥液處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對顯示面板、構(gòu)成顯示面板的基板、半導(dǎo)體晶片等被處理體的表面實施藥液處理的藥液處理裝置，特別涉及用于產(chǎn)品的低成本化和成品率提高的技術(shù)。

【背景技術(shù)】
[0002]受到近年來的市場中的顯示面板的迅速惡化，強(qiáng)烈要求用于削減半導(dǎo)體晶片、顯示面板的制造中的成本的對策、用于提高成品率的對策。特別是隨著顯示面板的大型化，由每張面板的破損帶來的制造成本不斷增大，針對減少顯示面板的破損的要求變得嚴(yán)格。
[0003]在顯示面板的制造中，在作為面板構(gòu)成構(gòu)件的有源矩陣基板、彩色濾光片基板的蝕刻處理、清洗處理等工序中，進(jìn)行如下:對該基板表面噴射從噴淋嘴噴射的藥液來實施規(guī)定的藥液處理。
[0004]進(jìn)行這種藥液處理的藥液處理裝置為如下構(gòu)成:將主液和添加液導(dǎo)入藥液罐并且用攪拌機(jī)將其攪拌后混合，將這樣生成的藥液送到噴淋嘴進(jìn)行藥液處理，將用完的藥液再次回收到藥液罐中使其循環(huán)，上述主液包含難以發(fā)生由于處理反應(yīng)、時間流逝造成的特性變化和由于揮發(fā)造成的濃度變化的成分，上述添加液包括易于發(fā)生這種特性變化、濃度變化的成分。
[0005]在如上所述的藥液處理裝置中，一般根據(jù)工序等預(yù)先決定使用藥液的壽命。例如有在達(dá)到了預(yù)先規(guī)定的使用次數(shù)(壽命計數(shù))時廢棄該藥液更換為新藥液的壽命計數(shù)方式、在經(jīng)過了預(yù)先規(guī)定的使用時間(壽命)時廢棄該藥液更換為新藥液的壽命方式。
[0006]為了降低顯示面板的制造成本，除了降低在上述藥液處理中使用的藥液單價，還需要削減藥液使用量、延長藥液的壽命或壽命計數(shù)(以下稱為藥液壽命)，與上述顯示面板的大型化、處理張數(shù)的增加相應(yīng)地，特別是削減藥液使用量和延長藥液壽命會進(jìn)行長期的工廠生產(chǎn)，而且非常影響產(chǎn)品成本。
[0007]由此，以往，為了防止由于藥液的特性變化、濃度變化造成的劣化并延長藥液壽命，在藥液處理的途中在藥液罐內(nèi)向藥液中適當(dāng)?shù)匮a(bǔ)充添加液，由此進(jìn)行藥液中的添加液成分的濃度的控制。在藥液的成分濃度控制中，原本就是在藥液處理的途中進(jìn)行添加液的正確量的添加，因此如何能快速且均勻地向藥液混合添加液是非常重要的。
[0008]在將蝕刻處理裝置舉為例子時，如果在沒有向作為藥液的蝕刻液均勻地混合添加液(例如鹽酸、硝酸、硫酸等)的階段用該蝕刻液進(jìn)行蝕刻處理，則成為由于過剩的蝕刻造成的圖案斷線、由于蝕刻不足造成的殘渣的原因。
[0009]因此，例如在專利文獻(xiàn)I中公開的藥液處理裝置中，在混合并供應(yīng)不同藥液的藥液供應(yīng)管中設(shè)置藥液混合部，并且該藥液混合部具備使藥液進(jìn)行超聲波振動的超聲波照射單元，利用該超聲波照射單元使配管內(nèi)的藥液進(jìn)行超聲波振動，由此促進(jìn)2種液體的混合。
[0010]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0011]專利文獻(xiàn)
[0012]專利文獻(xiàn)1:特開2007 - 173367號公報


【發(fā)明內(nèi)容】

[0013]發(fā)明要解決的問題
[0014]在現(xiàn)有構(gòu)成的藥液處理裝置中，在藥液罐中用攪拌機(jī)將藥液和添加液混合，但攪拌能力不足，到均勻地保持液罐內(nèi)的藥液中的添加液成分的濃度較費時間，由此，藥液處理的處理速度被限制，因此處理效率惡化。
[0015]另外，在專利文獻(xiàn)I的藥液處理裝置中，除了一般的裝置構(gòu)成之外，還具備超聲波照射單元，因此這部分使裝置構(gòu)成變得復(fù)雜，并且裝置本身的價格高。
[0016]本發(fā)明是鑒于該點而完成的，其目的在于以簡單的裝置構(gòu)成使添加液在藥液中快速且充分地混合，抑制發(fā)生由于藥液處理造成的不良并且改善該處理的處理效率。
[0017]用于解決問題的方案
[0018]為了達(dá)到上述目的，在本發(fā)明中，利用對噴淋嘴等藥液供應(yīng)單元輸送藥液的配管的中途部補(bǔ)充添加液。
[0019]具體地，本發(fā)明將對被處理體的表面實施藥液處理的藥液處理裝置作為對象提出以下解決方案。
[0020]S卩，第I發(fā)明的特征在于，
[0021]具備:
[0022]藥液處理槽，被處理體被搬入到上述藥液處理槽；
[0023]添加液罐，其儲存添加液；
[0024]藥液供應(yīng)單元，其設(shè)于上述藥液處理槽的內(nèi)部，送出包括上述添加液的成分的藥液，將該藥液從上方供應(yīng)到上述被處理體的表面；
[0025]藥液罐，其設(shè)于上述藥液供應(yīng)單元的下方，儲存從上述藥液供應(yīng)單元供應(yīng)到被處理體的藥液；
[0026]第I配管，其連接上述藥液罐和上述藥液供應(yīng)單元，將上述藥液罐的藥液輸送到上述藥液供應(yīng)單元；以及
[0027]第2配管，其連接上述添加液罐和上述第I配管，將上述添加液罐的添加液補(bǔ)充到在上述第I配管中流動的藥液。
[0028]根據(jù)該第I發(fā)明，在從藥液罐經(jīng)由第I配管向藥液供應(yīng)單元輸送藥液的過程中，向在該第I配管中流動的藥液補(bǔ)充添加液，因此該補(bǔ)充的添加液在第I配管的內(nèi)部利用藥液的流速快速地被攪拌。由此，能使添加液在藥液中快速且充分地混合。這樣，本發(fā)明即使不具備如專利文獻(xiàn)I公開的超聲波照射單元那樣的特別的攪拌單元，也能以簡單的裝置構(gòu)成在藥液中使添加液快速且充分地混合，能抑制發(fā)生由于藥液處理造成的不良并且改善該處理的處理效率。
[0029]根據(jù)第I發(fā)明的藥液處理裝置，第2發(fā)明的特征在于，
[0030]還具備檢測單元,上述檢測單元在由上述藥液供應(yīng)單元送出藥液的范圍內(nèi)檢測上述被處理體的存在，
[0031]在利用上述檢測單元沒有檢測到上述被處理體的存在時，向在上述第I配管中流動的藥液補(bǔ)充上述添加液，在利用上述檢測單元檢測到上述被處理體的存在時，停止向在上述第I配管中流動的藥液補(bǔ)充上述添加液。
[0032]根據(jù)該第2發(fā)明，僅在由藥液供應(yīng)單元送出藥液的范圍內(nèi)不存在被處理體的情況下，有選擇地向第I配管輸送添加液而向藥液補(bǔ)充添加液，因此剛被補(bǔ)充了添加液的藥液不會供應(yīng)到被處理體的表面，而暫時被回收到藥液罐，然后經(jīng)由第I配管再次輸送到藥液供應(yīng)單元。在該過程中，能使藥液和對其補(bǔ)充的添加液充分地混合。因此，即使添加液在藥液中難以混合，也能良好地抑制發(fā)生由于藥液處理造成的不良。
[0033]根據(jù)第I或第2發(fā)明的藥液處理裝置，第3發(fā)明的特征在于，
[0034]還具備清洗液罐，上述洗液罐儲存清洗液，
[0035]上述清洗液罐與上述第2配管連接，向上述第I配管輸送上述清洗液。
[0036]根據(jù)該第3發(fā)明，經(jīng)由第2配管從清洗液罐向第I配管輸送清洗液，使清洗液在規(guī)定時間內(nèi)在藥液供應(yīng)單元、藥液處理槽、藥液罐以及第I配管中循環(huán)，由此能清洗藥液處理裝置。而且，第2配管兼用作除了添加液之外還將清洗液從清洗液罐輸送到第I配管的配管，因此能簡化用于進(jìn)行藥液處理裝置的清洗的構(gòu)成。
[0037]發(fā)明效果
[0038]根據(jù)本發(fā)明，利用向藥液供應(yīng)單元輸送藥液的送液配管的中途部向藥液補(bǔ)充添加液，由此能以簡單的裝置構(gòu)成使添加液在藥液中快速且充分地混合，抑制發(fā)生由于藥液處理造成的不良并且改善該處理的處理效率。其結(jié)果是，能減少被處理體的破損，實現(xiàn)該被處理體所構(gòu)成的產(chǎn)品的低成本化并且提高成品率。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0039]圖1是示出實施方式I的蝕刻處理裝置的概略構(gòu)成的示意圖。
[0040]圖2是示出實施方式I的蝕刻處理槽和與其關(guān)聯(lián)的構(gòu)成的示意圖。
[0041]圖3是示出實施方式I的蝕刻處理槽內(nèi)部的構(gòu)成的示意圖。
[0042]圖4是從下側(cè)示出實施方式I的蝕刻噴淋器的構(gòu)成的示意圖。
[0043]圖5是示出實施方式2的蝕刻處理槽內(nèi)部的構(gòu)成的示意圖。

【具體實施方式】
[0044]以下，基于附圖詳細(xì)地說明本發(fā)明的實施方式。此外，本發(fā)明不限于以下的各實施方式。
[0045]《發(fā)明的實施方式I》
[0046]在該實施方式I中，作為本發(fā)明的藥液處理裝置的一例說明蝕刻處理裝置S。
[0047]本實施方式的蝕刻處理裝置S用于例如在制作構(gòu)成液晶顯示裝置等的顯示面板的有源矩陣基板時在作為底基板的絕緣性基板上形成配線、電極、半導(dǎo)體層等圖案。
[0048]作為該蝕刻處理裝置S的處理對象的被處理基板(被處理體)W例如是一邊為100mm?3200mm程度的大小的矩形平板狀的玻璃基板。此外,該被處理基板W可以是一張顯示面板的大小，也可以是多張顯示面板的母基板的大小。
[0049]蝕刻處理裝置S的構(gòu)成
[0050]圖1是示出蝕刻處理裝置S的概略構(gòu)成的示意圖。
[0051]蝕刻處理裝置S是對被處理基板W的表面實施濕蝕刻處理的裝置。該蝕刻處理裝置S如圖1所示，具備:作為連續(xù)設(shè)置的藥液處理槽的蝕刻處理槽10、清洗槽30以及干燥槽35 ;以及作為搬運單元的搬運線40，其搬運被處理基板W使其在該各槽10、30、35內(nèi)和各槽10、30、35之間移動。以下將被處理基板W的搬運方向100簡稱為基板搬運方向100。
[0052]蝕刻處理槽10構(gòu)成為:對搬入到槽10內(nèi)的被處理基板W的表面供應(yīng)蝕刻液L作為藥液來實施蝕刻處理。清洗槽30構(gòu)成為:與蝕刻處理槽10的基板搬運方向100的下游側(cè)相鄰配置，將進(jìn)行了蝕刻處理的被處理基板W的表面置于純水等清洗水中進(jìn)行清洗。另夕卜，干燥槽35構(gòu)成為:與清洗槽30的基板搬運方向100的下游側(cè)相鄰配置，利用氣刀、熱風(fēng)等使殘留于進(jìn)行了清洗處理的被處理基板W的表面的水分快速干燥。
[0053]搬運線40構(gòu)成為:輥單元43在水平方向并排設(shè)置有多個(在后面參照的圖2和圖3中示出)。該多個輥單元43包括由旋轉(zhuǎn)軸41軸支撐的作為旋轉(zhuǎn)體的多個搬運輥42，以旋轉(zhuǎn)軸41的軸向成為與基板搬運方向100正交的方向的方式沿著基板搬運方向100按等間隔相互水平配置，將被處理基板W以其被處理面朝向蝕刻處理槽10的上方的姿勢水平搬運。
[0054]此外，搬運線40可以構(gòu)成為:作為細(xì)長圓筒狀的旋轉(zhuǎn)體的搬運輥代替輥單元43在水平方向并排設(shè)置有多個，只要是能搬運被處理基板W的裝置即可，沒有特別限定。
[0055]上述搬運線40以經(jīng)過形成于上述各槽10、30、35的搬入口和搬出口(未圖示)并貫通蝕刻處理裝置S的方式設(shè)置，將被處理基板W從蝕刻處理裝置S的外部搬入到內(nèi)部，并在使其按順序經(jīng)由蝕刻處理槽10、清洗槽30以及干燥槽35進(jìn)行搬運后，搬出到該處理裝置S的外部。
[0056]本發(fā)明的蝕刻處理裝置S在上述蝕刻處理槽10、清洗槽30以及干燥槽35中、特別是在蝕刻處理槽10和與其關(guān)聯(lián)的構(gòu)成上具有特征，因此以下一邊參照圖2?圖4 一邊詳述它們的構(gòu)成。
[0057]圖2是示出蝕刻處理槽10和與其關(guān)聯(lián)的構(gòu)成的示意圖。圖3是示出蝕刻處理槽10內(nèi)部的構(gòu)成的示意圖。
[0058]在蝕刻處理槽10中，如圖3所示，分別在基板搬運方向100的上游端設(shè)有搬入口10a，在該方向100的下游端設(shè)有搬出口 10b。并且，在該搬入口 1a和搬出口 1b之間，構(gòu)成上述搬運線40的多個輥單元43在水平方向并排設(shè)置有多個。
[0059]在該蝕刻處理槽10的下方，如圖2和圖3所示設(shè)置有儲存槽11。在該儲存槽11的內(nèi)部設(shè)有:藥液罐12，其儲存主液LI和添加液L2混合后的蝕刻液L ;以及連通路11a，其使該藥液罐12和蝕刻處理槽10連通。
[0060]連通路I Ia在上下方向延伸，上端與蝕刻處理槽10的下部連接，另一方面，下端與藥液罐12的上部連接，使從后述的蝕刻噴淋器13噴灑而積存在蝕刻處理槽10的底面的蝕刻液L利用自重流到藥液罐12內(nèi)。藥液罐12將經(jīng)過該連通路Ila流入的蝕刻液L臨時儲存。
[0061]在將金屬用蝕刻液用作上述蝕刻液L的情況下，作為上述主液LI使用例如氟酸、硝酸、磷酸、鹽酸、草酸、鹽酸、硫酸等各種酸，作為上述添加液L2使用例如與在主液LI中使用的酸為相同種類但濃度不同的酸與有機(jī)物等穩(wěn)定劑的混合液。此外，在主液LI的水分易于氣化的情況下，優(yōu)選將包含水分較多的液體用作添加液L2。
[0062]另外，在蝕刻處理槽10內(nèi)部的搬運線40的上方設(shè)置有蝕刻噴淋器13，蝕刻噴淋器13對利用輥單元43水平搬運的被處理基板W的表面從上方噴射供應(yīng)蝕刻液L。
[0063]圖4是從下側(cè)示出蝕刻噴淋器13的構(gòu)成的示意圖。
[0064]蝕刻噴淋器13如圖4所示，具備:作為第I配管的噴淋配管16，其用于供應(yīng)蝕刻液L ；以及作為藥液供應(yīng)單元的多個噴淋嘴14，其噴灑通過該噴淋配管16供應(yīng)的蝕刻液L。
[0065]上述噴淋配管16具備:主管16a，其在與基板搬運位置對應(yīng)的部位的側(cè)方沿著基板搬運方向100延伸；以及多個分支管16b,其分別與該主管16a連結(jié),從該主管16a向與基板搬運方向100正交的方向突出。
[0066]如圖2所示，主管16a與上述藥液罐12連接，使該藥液罐12與各分支管16b進(jìn)而與設(shè)于該分支管16b的各噴淋嘴14連通。主管16a的一端側(cè)與藥液罐12連接，且在另一端側(cè)連結(jié)著各分支管16b。
[0067]在該主管16a中設(shè)有:供液泵17，其用于經(jīng)由噴淋配管16從藥液罐12向噴淋嘴14輸送蝕刻液L ;流量調(diào)節(jié)閥18，其調(diào)節(jié)在主管16a內(nèi)流動的蝕刻液L的流量；以及流量計19，其測量在主管16a內(nèi)流動的蝕刻液L的流量。由此，蝕刻處理裝置S能用流量計19監(jiān)視利用供液泵17在主管16a內(nèi)輸送的蝕刻液L的流量，并能根據(jù)需要用流量調(diào)節(jié)閥18調(diào)節(jié)在該管16a內(nèi)輸送的蝕刻液L的流量。
[0068]分支管16b以位于搬運中的被處理基板W的上方的方式在基板搬運方向100上隔開等間隔地配設(shè)在與基板搬運位置對應(yīng)的部位，相對于主管16a形成梳齒狀。該各分支管16b可以固定于主管16a，也可以構(gòu)成為能繞軸轉(zhuǎn)動而使后述的噴淋嘴14進(jìn)行擺動動作。
[0069]噴淋嘴14以向下方突出的方式設(shè)置在該各分支管16b的下側(cè)部分，并且以沿著分支管16b的突出方向排列的方式從該管16b的基端到頂端隔開等間隔地設(shè)有多個。該各噴淋嘴14經(jīng)由噴淋配管16、供液泵17、流量調(diào)節(jié)閥18以及流量計19與藥液罐12連通。在各噴淋嘴14的頂端，朝向下方設(shè)有噴出蝕刻液L的噴出口。
[0070]上述各噴淋嘴14相對于設(shè)于相鄰的分支管16b的噴淋嘴14在其排列方向錯開半齒距配置，作為整體構(gòu)成鋸齒排列。作為該噴淋嘴14，優(yōu)選采用例如蝕刻液L的噴射圖案成為圓形的全錐形類型的噴淋嘴。
[0071]此外，在噴淋嘴14中除了上述全錐形類型的噴淋嘴以外，也可以采用例如蝕刻液L的噴射圖案成為矩形的方形類型的噴淋嘴、該蝕刻液L的噴射圖案成為橢圓形狀的橢圓類型的噴淋嘴等。
[0072]另外，在蝕刻處理槽10的外部如圖2所示設(shè)置有:主液罐20，其儲存主液LI ;以及添加液罐25，其儲存添加液L2。
[0073]主液罐20和藥液罐12經(jīng)由主液配管21連接，彼此的內(nèi)部通過該主液配管21連通。主液配管21的一端側(cè)與主液罐20連接，且另一端側(cè)與藥液罐12連接。
[0074]在該主液配管21中設(shè)有:供液泵22，其用于從主液罐20經(jīng)由主液配管21向藥液罐12輸送主液LI ;流量調(diào)節(jié)閥23，其調(diào)節(jié)在主液配管21內(nèi)流動的主液LI的流量；以及流量計24，其測量在主液配管21內(nèi)流動的主液LI的流量。由此，蝕刻處理裝置S在藥液壽命結(jié)束而將藥液罐12內(nèi)的蝕刻液L全部廢棄、更換為新的蝕刻液L時，能對藥液罐12內(nèi)供應(yīng)規(guī)定量的主液LI。
[0075]添加液罐25和上述噴淋配管16的主管16a經(jīng)由作為第2配管的添加液配管26連接，彼此的內(nèi)部通過該添加液配管26連通。添加液配管26的一端側(cè)與添加液罐25連接，且另一端側(cè)與主管16a的中途部連結(jié)。
[0076]在該添加液配管26中設(shè)有:供液泵27，其用于從添加液罐25經(jīng)由該配管26向主管16a輸送添加液L2 ;流量調(diào)節(jié)閥28，其調(diào)節(jié)在該配管26內(nèi)流動的添加液L2的流量；以及流量計29，其測量在該配管26內(nèi)流動的添加液L2的流量。由此，蝕刻處理裝置S能用流量計29監(jiān)視利用供液泵27在添加液配管26內(nèi)輸送的添加液L2的流量，并能根據(jù)需要用流量調(diào)節(jié)閥28調(diào)節(jié)在該配管26內(nèi)輸送的添加液L2的流量。
[0077]上述供液泵17、22、27、流量調(diào)節(jié)閥18、23、28以及流量計19、24、29與控制系統(tǒng)
(未圖示)連接，由該控制系統(tǒng)控制各自的驅(qū)動。
[0078]根據(jù)上述構(gòu)成，在本實施方式的蝕刻處理裝置S中，將儲存在藥液罐12中的蝕刻液L經(jīng)由噴淋配管16向各噴淋嘴14輸送，從該各噴淋嘴14頂端的噴出口向搬運中的被處理基板W的表面噴射蝕刻液L，對該基板W表面實施蝕刻處理。從各噴淋嘴14噴出的蝕刻液L經(jīng)由位于蝕刻處理槽10下部的連通路Ila被回收到藥液罐12，在裝置S內(nèi)循環(huán)使用直至藥液壽命結(jié)束。
[0079]并且，在本實施方式的蝕刻處理裝置S中，在蝕刻液L從藥液罐12經(jīng)由噴淋配管16向各噴淋嘴14輸送的過程中，從添加液罐25經(jīng)由添加液配管26向在噴淋配管16內(nèi)流動的蝕刻液L補(bǔ)充添加液L2。由此，能利用在噴淋配管16內(nèi)流動的蝕刻液L的流速快速地攪拌添加液L2，并使添加液L2在蝕刻液L中快速且充分地混合。
[0080]另外，在本實施方式的蝕刻處理裝置S中，當(dāng)藥液壽命結(jié)束而更換藥液罐12內(nèi)的蝕刻液L時，在將到目前為止使用的蝕刻液L全部廢棄后，從主液罐20向藥液罐12內(nèi)供應(yīng)規(guī)定量的主液LI，然后，通過供液泵17的驅(qū)動將藥液罐12內(nèi)的主液LI經(jīng)由噴淋配管16向噴淋嘴14輸送，在該過程中，從添加液罐25經(jīng)由添加液配管26向在噴淋配管16中流動的主液LI供應(yīng)添加液L2，使該兩種液體L1、L2混合。并且，在將主液LI與添加液L2的混合液從噴淋嘴14向蝕刻處理槽10內(nèi)噴灑后，在規(guī)定時間內(nèi)執(zhí)行經(jīng)過連通路Ila后被回收到藥液罐12的循環(huán)。由此，在藥液罐12中儲存規(guī)定量的蝕刻液L，進(jìn)行藥液罐12內(nèi)的蝕刻液L的更換。
[0081]此外，也可以通過在將藥液罐12內(nèi)的蝕刻液L全部廢棄后與預(yù)先準(zhǔn)備的新的蝕刻液L簡單地更換來進(jìn)行該藥液罐12內(nèi)的蝕刻液L的更換。
[0082]飩刻處理方法
[0083]下面說明使用上述蝕刻處理裝置S制作有源矩陣基板時的蝕刻處理方法。
[0084]首先，將作為處理對象的在蝕刻處理裝置S中進(jìn)行了蝕刻處理的被處理基板W置于搬運線40進(jìn)行搬運，并從搬入口 1a搬入到蝕刻處理槽10。在此，置于搬運線40的被處理基板W是已經(jīng)實施了基板清洗處理、光致抗蝕劑涂敷處理、預(yù)烘焙處理、圖案曝光處理、顯影處理以及后烘焙處理并在其上表面形成有薄膜的基板。
[0085]當(dāng)被處理基板W被搬入蝕刻處理槽10時，控制系統(tǒng)動作，開始由蝕刻噴淋器13噴灑蝕刻液L。并且，在被處理基板W在蝕刻處理槽10內(nèi)從上游端搬運到下游端的期間，從蝕刻噴淋器13對被處理基板W的上表面噴射蝕刻液L來執(zhí)行濕蝕刻處理。
[0086]另外，在正在執(zhí)行蝕刻處理的期間，從添加液罐25經(jīng)由添加液配管26向噴淋配管16 (主管16a)補(bǔ)充添加液L2。由此，能抑制蝕刻液L的特性變化(劣化)而延長藥液壽命。此時，所補(bǔ)充的添加液L2在噴淋配管16的內(nèi)部利用蝕刻液L的流速快速地被攪拌，因此能使添加液L2在蝕刻液L中快速且充分地混合。
[0087]當(dāng)上述蝕刻處理完成且被處理基板W到達(dá)搬出口 1b時，被處理基板W經(jīng)過該搬出口 1b從蝕刻處理槽10被搬出，然后被搬入到相鄰的清洗槽30。
[0088]當(dāng)被處理基板W被搬入到清洗槽30時，設(shè)于清洗槽30的純水噴淋嘴工作，對被處理基板W的表面噴射純水，清洗殘留在該基板W表面的蝕刻液。這樣被清洗的被處理基板W從清洗槽30搬出，然后搬入到相鄰的干燥槽35。
[0089]當(dāng)被處理基板W被搬入到干燥槽35時，設(shè)于干燥槽35的氣刀工作，利用冷風(fēng)掃描被處理基板W的表面,或者設(shè)于該槽35中的烤箱工作,利用熱風(fēng)掃描被處理基板W的表面，由此,該基板W表面被快速干燥。
[0090]之后，表面被干燥的被處理基板W從干燥槽35搬出，完成蝕刻處理。
[0091]實施方式I的效果
[0092]根據(jù)該實施方式1，在從藥液罐12經(jīng)由噴淋配管16向噴淋嘴14輸送蝕刻液L的過程中向在噴淋配管16內(nèi)流動的蝕刻液L補(bǔ)充添加液L2，因此能使添加液L2在蝕刻液L中快速且充分地混合。由此，能用簡單的裝置構(gòu)成抑制發(fā)生由于蝕刻處理造成的不良，并且能改善該處理的處理效率。其結(jié)果是，能減少被處理基板W的破損，能實現(xiàn)該基板W所構(gòu)成的顯示面板的低成本化,并且能提高成品率。
[0093]《發(fā)明的實施方式2》
[0094]圖5是示出該實施方式2的蝕刻處理槽10內(nèi)部的構(gòu)成的示意圖。此外，在以后的各實施方式中，除了一部分構(gòu)成與上述實施方式I不同以外，關(guān)于蝕刻處理裝置S與上述實施方式I同樣地構(gòu)成，因此僅說明構(gòu)成不同的部分，相同的構(gòu)成部分轉(zhuǎn)移到基于圖1?圖4的上述實施方式I的說明中，省略其詳細(xì)的說明。
[0095]本實施方式的蝕刻處理槽10構(gòu)成為:分別在搬入口 1a側(cè)的內(nèi)部上方設(shè)有對被處理基板W的搬入進(jìn)行檢測的搬入檢測傳感器50，另外在搬出口 1b側(cè)的內(nèi)部上方設(shè)有對被處理基板W的搬出進(jìn)行檢測的搬出檢測傳感器52，利用這兩個檢測傳感器50、52檢測被處理基板W相對于蝕刻處理槽10的搬入和搬出，并檢測在從噴淋嘴14供應(yīng)蝕刻液L的范圍內(nèi)是否存在被處理基板W。
[0096]搬入檢測傳感器50和搬出檢測傳感器52與控制系統(tǒng)連接?？刂葡到y(tǒng)無論是否由該兩個檢測傳感器50、52檢測到在蝕刻處理槽10內(nèi)存在被處理基板W，均使供液泵17驅(qū)動而從各噴淋嘴14連續(xù)地噴出蝕刻液L。
[0097]而且，控制系統(tǒng)在利用兩個檢測傳感器50、52沒有檢測到在蝕刻處理槽10內(nèi)存在被處理基板W時使供液泵27驅(qū)動，從添加液罐25向噴淋配管16輸送添加液L2，另一方面，在利用兩個檢測傳感器50、52檢測到在蝕刻處理槽10內(nèi)存在被處理基板W時使供液泵27停止，從而停止從添加液罐25向噴淋配管16輸送添加液L2。
[0098]這樣，在本實施方式的蝕刻處理裝置S中，在由搬運線40連續(xù)地搬運被處理基板W的期間，僅當(dāng)在蝕刻處理槽10內(nèi)不存在被處理基板W時，有選擇地向噴淋配管16輸送添加液L2，向在該配管16內(nèi)流動的蝕刻液L補(bǔ)充添加液L2，將補(bǔ)充了該添加液L2的蝕刻液L從噴淋嘴14噴出而使其原樣返回到藥液罐12。
[0099]實施方式2的效果
[0100]根據(jù)該實施方式2，僅在蝕刻處理槽10中不存在被處理基板W的情況下，有選擇地向噴淋配管16輸送添加液L2，向蝕刻液L補(bǔ)充添加液L，因此剛被補(bǔ)充了添加液L2的藥液L不會供應(yīng)到被處理基板W的表面，暫時被回收到藥液罐L，然后再次經(jīng)由噴淋配管16向各噴淋嘴14輸送，在該過程中，蝕刻液L和對其補(bǔ)充的添加液L2被充分地混合。因此，即使是蝕刻液L與添加液L2難以混合的液體，也能抑制發(fā)生由于蝕刻處理造成的不良。
[0101]《發(fā)明的實施方式3》
[0102]該實施方式3的蝕刻處理裝置S除了上述實施方式I的構(gòu)成之外，還具備儲存清洗液的清洗液罐(未圖示)。該清洗液罐構(gòu)成為:代替添加液罐25，或者能與添加液配管26連接。作為清洗液，例如使用純水、離子水、包含洗滌劑的溶液、將蝕刻液L成分的結(jié)晶溶解的酸類溶解液等。
[0103]由此，在例如希望使用與到目前為止使用的蝕刻液L不同的藥液的情況下，在已將處理裝置S停止而希望開始使用其的情況下，將與添加液配管26連接的罐從添加液罐25改為與清洗液罐連接，利用供液泵27的驅(qū)動使清洗液從清洗液罐經(jīng)由添加液配管26流到噴淋配管16，使該清洗液在規(guī)定時間內(nèi)在噴淋嘴14、蝕刻處理槽10、藥液罐12以及噴淋配管16中循環(huán)，由此能清洗蝕刻處理裝置S。
_4] 實施方式3的效果
[0105]根據(jù)該實施方式3，添加液配管26還兼用作從清洗液罐向噴淋配管16輸送清洗液的配管，因此能簡化用于進(jìn)行蝕刻處理裝置S的清洗的構(gòu)成。
[0106]以上說明了本發(fā)明優(yōu)選的實施方式，但本發(fā)明的技術(shù)范圍不限于上述各實施方式所記載的范圍。本領(lǐng)域技術(shù)人員可理解上述各實施方式是例示，在其各構(gòu)成要素、各處理工序的組合中還能有各種變形例，另外，該變形例也在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
[0107]例如，在上述各實施方式中，說明了采用對被處理基板W噴射蝕刻液L的多個噴淋嘴14作為藥液供應(yīng)單元的蝕刻處理裝置S，但作為藥液供應(yīng)單元，只要構(gòu)成為送出蝕刻液L等藥液并將該送出的藥液從上方供應(yīng)到被處理基板W即可，沒有特別限定。
[0108]另外，在上述各實施方式中，作為本發(fā)明的藥液處理裝置將蝕刻處理裝置S舉為例子進(jìn)行了說明，但本發(fā)明不限于此。本發(fā)明的藥液處理裝置除了例如蝕刻處理裝置S之夕卜，當(dāng)然還能應(yīng)用將洗滌劑或表面改性劑、抗蝕劑剝離液、其它酸性液體、堿性液體用作藥液的藥液處理裝置，只要是能一邊向藥液補(bǔ)充添加液一邊使該藥液在裝置內(nèi)循環(huán)而反復(fù)使用的處理裝置，就能廣泛地應(yīng)用。
[0109]工業(yè)h的可利用件
[0110]如以上說明的那樣，本發(fā)明針對一邊向藥液適當(dāng)?shù)匮a(bǔ)充添加液一邊對被處理體實施藥液處理的藥液處理裝置是有用的，特別是適于希望用簡單的裝置構(gòu)成使添加液在藥液中快速且充分地混合、抑制發(fā)生藥液處理的不良并且改善該處理的處理效率的藥液處理裝置。
[0111]附圖標(biāo)記說明
[0112]S 蝕刻處理裝置(藥液處理裝置)
[0113]L 蝕刻液(藥液)
[0114]LI 主液
[0115]L2添加液
[0116]W 被處理基板(被處理體)
[0117]10蝕刻處理槽(藥液處理槽)
[0118]1a搬入口
[0119]1b搬出口
[0120]11儲存槽
[0121]Ila連通路
[0122]12藥液罐
[0123]13 蝕刻噴淋器
[0124]14 噴淋嘴(藥液供應(yīng)單元)
[0125]16 噴淋配管(第I配管)
[0126]16a 主管
[0127]16b分支管
[0128]17、22、27 供液泵
[0129]18、23、28流量調(diào)節(jié)閥
[0130]19、24、29 流量計
[0131]20 主液罐
[0132]21 主液配管
[0133]25 添加液罐
[0134]26 添加液配管(第2配管)
[0135]30 清洗槽
[0136]35 干燥槽
[0137]40 搬運線
[0138]41 旋轉(zhuǎn)軸
[0139]42 搬運輥
[0140]43 輥單元
[0141]50 搬入檢測傳感器(檢測單元)
[0142]52 搬出檢測傳感器(檢測單元)
[0143]100基板搬運方向
【權(quán)利要求】
1.一種藥液處理裝置，其特征在于， 具備: 藥液處理槽，被處理體被搬入到上述藥液處理槽； 添加液罐，其儲存添加液； 藥液供應(yīng)單元，其設(shè)于上述藥液處理槽的內(nèi)部，送出包括上述添加液的成分的藥液，將該藥液從上方供應(yīng)到上述被處理體的表面； 藥液罐，其設(shè)于上述藥液供應(yīng)單元的下方，儲存從上述藥液供應(yīng)單元供應(yīng)到被處理體的藥液； 第I配管，其連接上述藥液罐和上述藥液供應(yīng)單元，將上述藥液罐的藥液輸送到上述藥液供應(yīng)單元；以及 第2配管，其連接上述添加液罐和上述第I配管，將上述添加液罐的添加液補(bǔ)充到在上述第I配管中流動的藥液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的藥液處理裝置，其特征在于， 還具備檢測單元，上述檢測單元在由上述藥液供應(yīng)單元送出藥液的范圍內(nèi)檢測上述被處理體的存在， 在利用上述檢測單元沒有檢測到上述被處理體的存在時，向在上述第I配管中流動的藥液補(bǔ)充上述添加液，在利用上述檢測單元檢測到上述被處理體的存在時，停止向在上述第I配管中流動的藥液補(bǔ)充上述添加液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的藥液處理裝置，其特征在于， 還具備清洗液罐，上述洗液罐儲存清洗液， 上述清洗液罐與上述第2配管連接，向上述第I配管輸送上述清洗液。
【文檔編號】H01L21/306GK104246989SQ201380019952
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2013年6月7日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月14日
【發(fā)明者】吉安健太朗, 多比良昌弘, 山本直義 申請人:夏普株式會社