一種基于基板陣列測試的異物處理系統(tǒng)及其處理方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了所述系統(tǒng)包括移動支架、控制器、和設(shè)置于移動支架上的調(diào)制器、吸附裝置，吸附裝置和調(diào)制器分別與移動支架滑動配合連接，調(diào)制器上設(shè)有光學(xué)感應(yīng)裝置，光學(xué)感應(yīng)裝置和吸附裝置均與控制器電性連接；光學(xué)感應(yīng)裝置用于對基板進行光學(xué)異物檢測，控制器用于接收光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號；控制器中運行有異物判斷模塊，異物判斷模塊根據(jù)光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，控制器啟動吸附裝置對異物進行吸附。本發(fā)明通過在調(diào)制器上僅設(shè)置一組光學(xué)感應(yīng)裝置，即可對基板上的異物進行檢測，通過吸附裝置對基板上所存在的異物進行清除處理，實現(xiàn)對基板各位置處的光學(xué)異物檢測，可實現(xiàn)全面監(jiān)控檢測，避免了調(diào)制器和基板受到異物劃傷。
【專利說明】
一種基于基板陣列測試的異物處理系統(tǒng)及其處理方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種基于基板陣列測試的異物處理系統(tǒng)及其處理方法。

【背景技術(shù)】
[0002]在陣列測試中調(diào)制器(modulator)下表面膜層距離玻璃基板僅有50um,玻璃基板上出現(xiàn)硬物易劃傷調(diào)制器下表面膜層?，F(xiàn)有技術(shù)的解決方案是在調(diào)制器(modulator)上加裝一個吹氣裝置，將玻璃基板上可能出現(xiàn)的異物吹走，避免大顆粒異物劃傷調(diào)制器(modulator)下表面膜層,不能實現(xiàn)對基板的全面監(jiān)控,異物清除效率低下。
[0003]中國專利文獻CN 1910745A公開了一種基板吸附裝置及基板貼合裝置，用于檢測致使基板損傷的異物混入，如圖1所示，基板吸附裝置包括:具有用于保持基板清潔的吸附面2’的工作臺1’;設(shè)置在工作臺1’的吸附面2’上的多個吸附口 3’；以及通過排氣通路與吸附口 3’連接的真空泵4’。此外，還包括檢測排氣通路內(nèi)的壓力的壓力傳感器5’，在工作臺1’的除設(shè)置吸附口 3’的位置以外的區(qū)域形成有在工作臺1’的吸附面2’和工作臺1’的側(cè)面都開放的多個泄露槽6’。上述專利文獻是通過在基板工作臺1’的吸附面2’上設(shè)置多個吸附口 3’，通過排氣通路與吸附口 2’連接的真空泵4’來吸附異物，同時通過所設(shè)置的壓力傳感器5’來檢測排氣通路內(nèi)的壓力大小，根據(jù)壓力大小檢測有無異物，并確定出存在異物的位置，其結(jié)構(gòu)復(fù)雜，需要對各個吸附口 2’進行壓力傳感器5’的布置，成本較高。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，減少調(diào)制器損失的風(fēng)險，簡化異物檢測結(jié)構(gòu)。本發(fā)明提供了一種基于基板陣列測試的異物處理系統(tǒng)及其處理方法。
[0005]所述技術(shù)方案如下:
[0006]一方面本發(fā)明提供了所述系統(tǒng)包括移動支架、控制器、和設(shè)置于所述移動支架上的調(diào)制器、吸附裝置，所述吸附裝置和調(diào)制器分別與所述移動支架滑動配合連接，所述調(diào)制器上設(shè)有光學(xué)感應(yīng)裝置，所述光學(xué)感應(yīng)裝置和吸附裝置均與所述控制器電性連接；所述光學(xué)感應(yīng)裝置用于對基板進行光學(xué)異物檢測，所述控制器用于接收所述光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號；所述控制器中運行有異物判斷模塊，所述異物判斷模塊根據(jù)所述光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，所述控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。
[0007]所述的光學(xué)感應(yīng)裝置包括一光學(xué)信號發(fā)射端和一光學(xué)信號接收端，所述光學(xué)信號發(fā)射端和光學(xué)信號接收端水平間隔設(shè)置于所述調(diào)制器的同一外側(cè)面上，所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號與基板平面平行，所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號與基板平面的距離為40-45 μ m。
[0008]所述調(diào)制器的各個外側(cè)面均設(shè)有一所述光學(xué)感應(yīng)裝置，所述光學(xué)感應(yīng)裝置卡置于所述調(diào)制器上。
[0009]所述的光學(xué)感應(yīng)裝置包括一光學(xué)信號發(fā)射端、一光學(xué)信號接收端和至少一全反射鏡，所述光學(xué)信號發(fā)射端與所述光學(xué)信號接收端分別水平設(shè)置于所述調(diào)制器的兩外側(cè)面上；所述全反射鏡設(shè)置于所述調(diào)制器的外側(cè)面上，且與所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號相對應(yīng)，用于將所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號水平反射至所述光學(xué)信號接收端。
[0010]所述調(diào)制器為具有方形橫截面或矩形橫截面的倒梯形結(jié)構(gòu)，所述全反射鏡包括三個90度全反射鏡，其分別設(shè)置于所述調(diào)制器相鄰兩側(cè)面的連接處；所述光學(xué)信號發(fā)射端與所述光學(xué)信號接收端呈90°水平設(shè)置，且分別對應(yīng)設(shè)置于所述調(diào)制器的相鄰兩側(cè)面上；所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號經(jīng)三個所述全反射鏡依次反射后進入所述光學(xué)信號接收端。
[0011]所述吸附裝置包括:空氣過濾吸附端、真空抽吸端和壓縮氣體注入端；所述空氣過濾吸附端設(shè)置于所測基板的上方，所述空氣過濾器吸附端分別與所述的真空抽吸端和壓縮氣體注入端通過管路連接。
[0012]所述的光學(xué)感應(yīng)裝置為激光感應(yīng)器。
[0013]另一方面，本發(fā)明還提供了一種基于基板陣列測試的異物處理方法，所述方法包括以下步驟:通過安裝于調(diào)制器上的光學(xué)感應(yīng)裝置對基板進行光學(xué)掃描，并將感應(yīng)信號傳輸至控制器；控制器中的異物判斷模塊根據(jù)感應(yīng)信號對基板上是否存在異物作出判斷；若光學(xué)感應(yīng)裝置檢測到基板上存在異物，控制器控制吸附裝置移至異物所在位置，并對異物進行吸附；吸附結(jié)束后吸附裝置歸復(fù)原位。
[0014]所述的通過安裝于調(diào)制器上的光學(xué)感應(yīng)裝置對基板進行光學(xué)掃描，并將光學(xué)信號傳輸至控制器，其具體方法是:光學(xué)感應(yīng)裝置中的光學(xué)信號發(fā)射端向基板表面發(fā)射光學(xué)信號，光學(xué)信號經(jīng)基板表面反射后由光學(xué)信號接收端接收信號，光學(xué)信號接收端將所接收到的光學(xué)信號信息傳輸至控制器。
[0015]所述的控制器中的異物判斷模塊根據(jù)光學(xué)信號對基板上是否存在異物作出判斷，其具體方法是:光學(xué)信號接收端接收到光學(xué)信號發(fā)射端的光學(xué)信號時，異物判斷模塊判斷基板上不存在異物；光學(xué)信號接收端未接收到光學(xué)信號發(fā)射端的光學(xué)信號時，異物判斷模塊判斷基板上存在異物。
[0016]本發(fā)明提供的技術(shù)方案帶來的有益效果是:
[0017]本發(fā)明通過在調(diào)制器上安裝光學(xué)感應(yīng)裝置，同時還安裝有吸附裝置和控制器，光學(xué)感應(yīng)裝置通過光學(xué)信號的傳輸對基板上是否存在異物作出檢測，控制器中的異物判斷模塊根據(jù)所述光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。本發(fā)明通過對光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號是否被光學(xué)信號接收端接收來判斷基板上是否存在異物，若存在異物，所發(fā)出的光學(xué)信號會被異物阻擋，從而使得光學(xué)信號接收端無法接收到光學(xué)信號，進而判斷基板上存在異物，然后通過吸附裝置對異物進行吸附即可完成，結(jié)構(gòu)簡單易行，不需要在工作臺上成型復(fù)雜的泄漏槽和吸附口結(jié)構(gòu)，簡化了工作臺結(jié)構(gòu)，降低了運營成本；通過調(diào)制器的移動對基板各處進行光學(xué)異物檢測，獲取基板異物，從而避免了調(diào)制器和基板受到異物劃傷。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0019]圖1是專利文獻CN 1910745A中公開的異物處理結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2是本發(fā)明所提供的異物處理系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖3是圖2中所示的第一種光學(xué)感應(yīng)裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖4是提供的第二種光學(xué)感應(yīng)裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖5是提供的第三種光學(xué)感應(yīng)裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖6是提供的第四種光學(xué)感應(yīng)裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖7是本發(fā)明所提供的異物感知流程圖；
[0026]圖8是圖2中的吸附裝置結(jié)構(gòu)簡圖。
[0027]圖中:
[0028]1’ -工作臺；2’ -吸附面；3’ -吸附口 ；4’ -真空泵；5’ -壓力傳感器；6’ -泄漏槽；1-移動支架；2_調(diào)制器；3_吸附裝置，31-空氣過濾吸附端；32_壓縮氣體注入端；33_真空抽吸端；4_基板；5_檢測平臺；6_光學(xué)感應(yīng)裝置，61-光學(xué)信號發(fā)射端，62-光學(xué)信號接收端，63-全反射鏡；7_光學(xué)信號。

【具體實施方式】
[0029]為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實施方式作進一步地詳細(xì)描述。
[0030]如圖2所示，本發(fā)明提供了一種基于基板陣列測試的異物處理系統(tǒng)，包括移動支架1和設(shè)置于移動支架上1的調(diào)制器2，調(diào)制器2與移動支架1滑動配合連接，用于對位于其下方的基板4進行掃描，系統(tǒng)還包括設(shè)置于調(diào)制器2上的光學(xué)感應(yīng)裝置6、吸附裝置3和控制器，光學(xué)感應(yīng)裝置6和吸附裝置3均與控制器電連接；吸附裝置3設(shè)置于移動支架1上，二者采用滑動配合連接。光學(xué)感應(yīng)裝置6用于對基板4進行光學(xué)異物檢測，控制器用于接收光學(xué)感應(yīng)裝置6的感應(yīng)信號；控制器中運行有異物判斷模塊，異物判斷模塊根據(jù)光學(xué)感應(yīng)裝置6的感應(yīng)信號對基板4上是否存在異物作出判斷；若基板4上存在異物，控制器啟動吸附裝置3對異物進行吸附。
[0031]其中的光學(xué)感應(yīng)裝置6可以采用以下幾種結(jié)構(gòu):
[0032]圖3所示為本發(fā)明所提供的一種光學(xué)感應(yīng)裝置6結(jié)構(gòu)示意圖，其中的光學(xué)感應(yīng)裝置6包括光學(xué)信號發(fā)射端61和光學(xué)信號接收端62，光學(xué)信號發(fā)射端61和光學(xué)信號接收端62均設(shè)置于調(diào)制器2的同一外側(cè)面上；光學(xué)信號發(fā)射端61所發(fā)出的光學(xué)信號7與基板4平面平行，光學(xué)信號發(fā)射端61所發(fā)出的光學(xué)信號7與基板4平面的距離為40-45 μ m。調(diào)制器2帶動光學(xué)感應(yīng)裝置6移動，同時位于一側(cè)面上的光學(xué)感應(yīng)裝置6會對基板4進行光學(xué)檢測，可以是光學(xué)感應(yīng)裝置6沿著基板4長度方向進行檢測，光學(xué)信號發(fā)射端61和光學(xué)信號接收端62之間的距離為基板4的寬度尺寸；本發(fā)明優(yōu)選采用的光學(xué)感應(yīng)裝置6為激光感應(yīng)器。
[0033]圖4所示為本發(fā)明所提供的另一種光學(xué)感應(yīng)裝置6結(jié)構(gòu)，與圖3不同的是:在調(diào)制器2的兩個相對面上各設(shè)置一個光學(xué)感應(yīng)裝置6，這樣可對基板4進行更加細(xì)致的檢測；當(dāng)然也可將調(diào)制器2的幾個外側(cè)面上均設(shè)置一光學(xué)感應(yīng)裝置6，當(dāng)調(diào)制器2隨著移動支架1移動時，位于調(diào)制器2幾個側(cè)面上的光學(xué)感應(yīng)裝置6同時對基板4進行檢測，檢測效率更高，這里就不再贅述。
[0034]圖5所示為本發(fā)明所提供的第三種光學(xué)感應(yīng)裝置6結(jié)構(gòu)，與圖3和圖4不同的是，光學(xué)信號發(fā)射端61所發(fā)出的光學(xué)信號7環(huán)繞整個調(diào)制器2的外側(cè)面，光學(xué)信號7通過三個90度全反射鏡63進行多次反射后最終被一個光學(xué)信號接收端62接收，此種結(jié)構(gòu)方式可以對基板4同時進行多個位置檢測，檢測效率高。當(dāng)然也可以是光學(xué)信號發(fā)射端61所發(fā)出的光學(xué)信號7經(jīng)過調(diào)制器2的部分外側(cè)面，即采用半環(huán)繞或部分環(huán)繞方式，如圖6所示，這里就不再贅述。
[0035]圖3至圖6中所采用的調(diào)制器2優(yōu)選采用倒梯形結(jié)構(gòu)，其下端開口尺寸小于上端尺寸，調(diào)制器2的橫截面呈矩形或方形結(jié)構(gòu)。當(dāng)然，也才采用其它結(jié)構(gòu)橫截面，比如三角形坐寸。
[0036]其中的吸附裝置3通過控制器控制運動軌跡，如圖8所示，包括:空氣過濾吸附端31、真空抽吸端33和壓縮氣體注入端32，空氣過濾吸附端31分別與真空抽吸端33和壓縮氣體注入端32通過管路連接，其中的空氣過濾吸附端31位于所測基板4的正上方。如圖6所示，當(dāng)光學(xué)感應(yīng)裝置6感知到基板4上的異物時，控制器會啟動吸附裝置3進行吸附，吸附裝置3接收控制器傳輸來的異物位置坐標(biāo)信號，吸附裝置3移動至異物處，空氣過濾吸附端31對準(zhǔn)異物，同時真空抽吸端33實施真空抽吸，將異物吸附于空氣過濾吸附端31上并將其移除，真空抽吸端33停止抽吸，此時壓縮氣體注入端32將壓縮氣體通過管路注入到空氣過濾吸附端31處，將所吸附的異物吹出，并復(fù)位，從而實現(xiàn)對基板4異物的抽吸和自清理過程，凈理效率高。
[0037]本發(fā)明還提供了一種基于基板陣列測試的異物處理方法，結(jié)合圖2、圖5和圖7，所述方法包括以下步驟:
[0038]【101】通過安裝于調(diào)制器2上的光學(xué)感應(yīng)裝置6對基板4進行光學(xué)掃描，并將感應(yīng)信號傳輸至控制器。
[0039]將基板4置于檢測平臺5上，光學(xué)感應(yīng)裝置6的中光學(xué)信號發(fā)射端61發(fā)射光學(xué)信號7，光學(xué)信號7經(jīng)全反射鏡63反射后由光學(xué)信號接收端62接收信號，光學(xué)信號接收端62將所接收到的感應(yīng)信號傳輸至控制器。
[0040]【102】控制器中的異物判斷模塊根據(jù)感應(yīng)信號對基板4上是否存在異物作出判斷。
[0041]光學(xué)信號接收端62接收到光學(xué)信號發(fā)射端61的光學(xué)信號7時，異物判斷模塊判斷基板4上不存在異物；光學(xué)信號接收端62未接收到光學(xué)信號發(fā)射端61的光學(xué)信號7時，異物判斷模塊判斷基板4上存在異物。
[0042]【103】若光學(xué)感應(yīng)裝置6檢測到基板4上存在異物，控制器控制吸附裝置3移至異物所在位置，并對異物進行吸附；吸附裝置3上的空氣過濾吸附端31移至異物處，真空抽吸端33進行抽真空處理，異物在真空抽吸的作用下吸附于空氣過濾吸附端31處，空氣過濾吸附端31移出基板4，通過啟動壓縮氣體注入端32的壓縮空氣，對空氣過濾吸附端31進行吹氣，將吸附于空氣過濾吸附端31端面上的異物吹出。
[0043]【104】吸附結(jié)束后吸附裝置3沿著移動支架1歸復(fù)原位，調(diào)制器2繼續(xù)進行對檢測平臺5上的基板4進行掃描動作。
[0044]本發(fā)明通過移動支架1帶動調(diào)制器2對基板4進行掃描，位于調(diào)制器2上的光學(xué)感應(yīng)裝置6可以對基板4進行無縫檢測，通過光學(xué)感應(yīng)方式實現(xiàn)對基板4上異物的檢測與剔除，方便快捷，避免了調(diào)制器2和基板4受到異物劃傷。同時，本發(fā)明不需要在工作臺上成型復(fù)雜的泄漏槽和吸附口結(jié)構(gòu)，降低了運營成本。
[0045]上述本發(fā)明實施例序號僅僅為了描述，不代表實施例的優(yōu)劣。
[0046]以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種基于基板陣列測試的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括移動支架、控制器和設(shè)置于所述移動支架上的調(diào)制器、吸附裝置，所述吸附裝置和調(diào)制器分別與所述移動支架滑動配合連接，所述調(diào)制器上設(shè)有光學(xué)感應(yīng)裝置，所述光學(xué)感應(yīng)裝置和吸附裝置均與所述控制器電性連接；所述光學(xué)感應(yīng)裝置用于對基板進行光學(xué)異物檢測，所述控制器用于接收所述光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號；所述控制器中運行有異物判斷模塊，所述異物判斷模塊根據(jù)所述光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)信號對基板上是否存在異物作出判斷；若基板上存在異物，所述控制器啟動所述吸附裝置對異物進行吸附。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述的光學(xué)感應(yīng)裝置包括一光學(xué)信號發(fā)射端和一光學(xué)信號接收端，所述光學(xué)信號發(fā)射端和光學(xué)信號接收端水平間隔設(shè)置于所述調(diào)制器的同一外側(cè)面上，所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號與基板平面平行，所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號與基板平面的距離為40-45 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)制器的各個外側(cè)面均設(shè)有一所述光學(xué)感應(yīng)裝置，所述光學(xué)感應(yīng)裝置卡置于所述調(diào)制器上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述的光學(xué)感應(yīng)裝置包括一光學(xué)信號發(fā)射端、一光學(xué)信號接收端和至少一全反射鏡，所述光學(xué)信號發(fā)射端與所述光學(xué)信號接收端分別水平設(shè)置于所述調(diào)制器的兩外側(cè)面上；所述全反射鏡設(shè)置于所述調(diào)制器的外側(cè)面上，且與所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號相對應(yīng)，用于將所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號水平反射至所述光學(xué)信號接收端。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述調(diào)制器為具有方形橫截面或矩形橫截面的倒梯形結(jié)構(gòu)，所述全反射鏡包括三個90度全反射鏡，其分別設(shè)置于所述調(diào)制器相鄰兩側(cè)面的連接處；所述光學(xué)信號發(fā)射端與所述光學(xué)信號接收端呈90°水平設(shè)置，且分別對應(yīng)設(shè)置于所述調(diào)制器的相鄰兩側(cè)面上；所述光學(xué)信號發(fā)射端所發(fā)出的光學(xué)信號經(jīng)三個所述全反射鏡依次反射后進入所述光學(xué)信號接收端。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述吸附裝置包括:空氣過濾吸附端、真空抽吸端和壓縮氣體注入端；所述空氣過濾吸附端設(shè)置于所測基板的上方，所述空氣過濾器吸附端分別與所述的真空抽吸端和壓縮氣體注入端通過管路連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一所述的異物處理系統(tǒng)，其特征在于，所述的光學(xué)感應(yīng)裝置為激光感應(yīng)器。
8.一種基于基板陣列測試的異物處理方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟:通過安裝于調(diào)制器上的光學(xué)感應(yīng)裝置對基板進行光學(xué)掃描，并將感應(yīng)信號傳輸至控制器；控制器中的異物判斷模塊根據(jù)感應(yīng)信號對基板上是否存在異物作出判斷；若光學(xué)感應(yīng)裝置檢測到基板上存在異物，控制器控制吸附裝置移至異物所在位置，并對異物進行吸附；吸附結(jié)束后吸附裝置歸復(fù)原位。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的異物處理方法，其特征在于，所述的通過安裝于調(diào)制器上的光學(xué)感應(yīng)裝置對基板進行光學(xué)掃描，并將光學(xué)信號傳輸至控制器，其具體方法是:光學(xué)感應(yīng)裝置中的光學(xué)信號發(fā)射端向基板表面發(fā)射光學(xué)信號，光學(xué)信號經(jīng)基板表面反射后由光學(xué)信號接收端接收信號，光學(xué)信號接收端將所接收到的光學(xué)信號信息傳輸至控制器。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的異物處理方法，其特征在于，所述的控制器中的異物判斷模塊根據(jù)光學(xué)信號對基板上是否存在異物作出判斷，其具體方法是:光學(xué)信號接收端接收到光學(xué)信號發(fā)射端的光學(xué)信號時，異物判斷模塊判斷基板上不存在異物；光學(xué)信號接收端未接收到光學(xué)信號發(fā)射端的光學(xué)信號時，異物判斷模塊判斷基板上存在異物。
【文檔編號】H01L21/02GK104409395SQ201410659296
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2014年11月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月18日
【發(fā)明者】劉洋, 王麗君 申請人:昆山國顯光電有限公司