一種真空斷路器的滅弧室的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種真空斷路器的滅弧室，包括真空滅弧室本體，包括動(dòng)蓋板，瓷殼、動(dòng)電導(dǎo)桿、靜電導(dǎo)桿、屏蔽筒，蓋板，所述瓷殼上端與動(dòng)蓋板相連接，瓷殼下端與蓋板相連接，所述瓷殼內(nèi)壁設(shè)有屏蔽筒，所述動(dòng)電導(dǎo)桿與靜電導(dǎo)桿在豎直方向同軸布置，動(dòng)蓋板的內(nèi)壁上均勻設(shè)有至少一個(gè)傳感器，所述屏蔽筒中部設(shè)有吸附層，屏蔽筒內(nèi)壁設(shè)有吸附孔，所述吸附孔貫穿屏蔽筒的內(nèi)側(cè)壁直至吸附層表面。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，通過設(shè)置傳感器，能夠及時(shí)了解真空滅弧室內(nèi)的真空度參數(shù)，從而能夠了解真空斷路器的工作狀況；通過設(shè)置吸附層與吸附孔，能夠有效的吸收斷電過程中金屬導(dǎo)桿產(chǎn)生的金屬蒸汽和水蒸汽，保證了真空斷路器的工作效果。
【專利說明】一種真空斷路器的滅弧室
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型為電器元件領(lǐng)域，尤其涉及一種真空斷路器的滅弧室。
【背景技術(shù)】
[0002]真空斷路器因其滅弧介質(zhì)和滅弧后觸頭間隙的絕緣介質(zhì)都是高真空而得名。其具有體積小、重量輕、適用于頻繁操作、滅弧不用檢修的優(yōu)點(diǎn)，在配電網(wǎng)中應(yīng)用較為普及。真空斷路器中最核心的部件就是真空滅弧室，其真空滅弧室內(nèi)的真空電弧是依靠電極不斷地產(chǎn)生金屬蒸汽來維持的，因此，要熄滅真空電弧必須將電弧電流減小到一定程度，不足以維持電弧的時(shí)候才有可能將其熄滅，真空滅弧室切斷交流真空電弧成功與否，與觸頭之間弧區(qū)電流過零前的金屬蒸汽濃度密切相關(guān)。當(dāng)電流過零前弧區(qū)的金屬蒸汽濃度很小時(shí)，電弧在電流過零時(shí)不足以維持便熄滅；反之當(dāng)電流過零前弧區(qū)的金屬蒸汽濃度很大，在電流過零時(shí)仍足以維持，電弧便不會(huì)熄滅，
[0003]實(shí)際使用過程中需要真空滅弧室在斷電后及時(shí)熄滅電弧，同時(shí)真空短路器在使用過程中需要了解真空滅弧室的真空度，以保證滅弧的效果。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種真空斷路器的滅弧室。
[0005]本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0006]一種真空斷路器的滅弧室，包括真空滅弧室本體，所述真空滅弧室本體包括動(dòng)蓋板，瓷殼、動(dòng)電導(dǎo)桿、靜電導(dǎo)桿、屏蔽筒，蓋板，所述瓷殼上端與動(dòng)蓋板相連接，瓷殼下端與蓋板相連接，所述瓷殼內(nèi)壁設(shè)有屏蔽筒，所述動(dòng)電導(dǎo)桿與靜電導(dǎo)桿在豎直方向同軸布置，動(dòng)蓋板的內(nèi)壁上均勻設(shè)有至少一個(gè)傳感器，所述屏蔽筒中部設(shè)有吸附層，屏蔽筒內(nèi)壁設(shè)有吸附孔，所述吸附孔貫穿屏蔽筒的內(nèi)側(cè)壁直至吸附層表面。
[0007]作為優(yōu)選，所述吸附孔在屏蔽筒的內(nèi)壁上均勻布置。
[0008]作為優(yōu)選，所述吸附層的厚度為屏蔽筒厚度的二分之一
[0009]與現(xiàn)有的技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，通過設(shè)置傳感器，能夠及時(shí)了解真空滅弧室內(nèi)的真空度參數(shù)，從而能夠了解真空斷路器的工作狀況；通過設(shè)置吸附層與吸附孔，能夠有效的吸收斷電過程中金屬導(dǎo)桿產(chǎn)生的金屬蒸汽和水蒸汽，從而能夠及時(shí)的起到滅弧作用，保證了真空斷路器的工作效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。
[0012]請(qǐng)參閱圖1，圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]一種真空斷路器的滅弧室，包括真空滅弧室本體1，所述真空滅弧室本體I包括動(dòng)蓋板2，瓷殼3、動(dòng)電導(dǎo)桿4、靜電導(dǎo)桿5、屏蔽筒6，蓋板10，所述瓷殼3上端與動(dòng)蓋板2相連接，瓷殼3下端與蓋板10相連接，所述瓷殼3內(nèi)壁設(shè)有屏蔽筒6，所述動(dòng)電導(dǎo)桿4與靜電導(dǎo)桿5在豎直方向同軸布置,動(dòng)蓋板2的內(nèi)壁上均勻設(shè)有至少一個(gè)傳感器9,所述屏蔽筒6中部設(shè)有吸附層7，所述吸附層7的厚度為屏蔽筒6厚度的二分之一，屏蔽筒6內(nèi)壁設(shè)有吸附孔8，所述吸附孔8在屏蔽筒6的內(nèi)壁上均勻布置，吸附孔8貫穿屏蔽筒6的內(nèi)側(cè)壁直至吸附層7表面。
[0014]綜上，本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，通過設(shè)置傳感器，能夠及時(shí)了解真空滅弧室內(nèi)的真空度參數(shù)，從而能夠了解真空斷路器的工作狀況；通過設(shè)置吸附層與吸附孔，能夠有效的吸收斷電過程中金屬導(dǎo)桿產(chǎn)生的金屬蒸汽和水蒸汽，從而能夠及時(shí)的起到滅弧作用，保證了真空斷路器的工作效果。
[0015]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種真空斷路器的滅弧室，包括真空滅弧室本體(I)，所述真空滅弧室本體(I)包括動(dòng)蓋板(2)，瓷殼(3)、動(dòng)電導(dǎo)桿(4)、靜電導(dǎo)桿(5)、屏蔽筒(6)，蓋板(10)，所述瓷殼(3)上端與動(dòng)蓋板(2)相連接，瓷殼(3)下端與蓋板(10)相連接，所述瓷殼(3)內(nèi)壁設(shè)有屏蔽筒(6),所述動(dòng)電導(dǎo)桿(4)與靜電導(dǎo)桿(5)在豎直方向同軸布置,其特征在于,動(dòng)蓋板(2)的內(nèi)壁上均勻設(shè)有至少一個(gè)傳感器(9)，所述屏蔽筒(6)中部設(shè)有吸附層(7)，吸附層(7)的厚度為屏蔽筒(6)厚度的二分之一，屏蔽筒(6)內(nèi)壁設(shè)有吸附孔(8)，吸附孔(8)在屏蔽筒(6)的內(nèi)壁上均勻布置，吸附孔(8)貫穿屏蔽筒(6)的內(nèi)側(cè)壁直至吸附層(7)表面。
【文檔編號(hào)】H01H33/664GK203707012SQ201420091374
【公開日】2014年7月9日 申請(qǐng)日期:2014年3月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月3日
【發(fā)明者】屠勝博, 朱勝軍, 聶寅龍 申請(qǐng)人:浙江谷元電力科技有限公司