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      有機發(fā)光二極管顯示面板的制作方法

      文檔序號:12160187閱讀:256來源:國知局
      有機發(fā)光二極管顯示面板的制作方法與工藝

      本發(fā)明是關于一種有機發(fā)光二極管顯示面板,尤指一種具有特殊結構像素界定層的有機發(fā)光二極管顯示面板。



      背景技術:

      有機發(fā)光二極管(OLED)面板具有:重量輕、厚度薄、亮度高、反應速度快、視角大、不需要背光源、制造成本低、及可彎曲等優(yōu)勢,而極具潛力可應用于各種光電裝置的顯示面板上,如手機面板、汽車面板、MP3面板上等。然而,有機發(fā)光二極管裝置卻具有不耐濕氣的缺點。

      在現在所發(fā)展的有機發(fā)光二極管面板中,為了提升面板的阻水性及氣密性,需外加阻水層或保護層以加強其顯示元件的阻水以及阻氧的特性,防止水氧滲入造成性能的惡化。然而,在形成阻水氧層的沉積工藝中,因內部可能有應力過度累積的情形,而對有機材料造成拉扯,而產生缺陷。特別是,當作為一可撓式有機發(fā)光二極管面板時,有機層的形變量更會增加,而導致有機層剝離發(fā)生機率提高。

      有鑒于此,目前亟需發(fā)展一種有機發(fā)光二極管顯示面板,其可提升有機層及其上方層別的附著力,以改善因內部應力或因撓曲產生的外加應力而導致膜層剝離的情形。



      技術實現要素:

      依據本發(fā)明的實施例,有機發(fā)光二極管顯示面板包括:一基板,具有一發(fā)光區(qū)及一非發(fā)光區(qū),其中該發(fā)光區(qū)上設有一第一電極層,而該非發(fā)光區(qū)上設有一像素界定層,且該像素界定層具有多個凹角結構;一有機層,設于該第一電極及該像素界定層上;以及一第二電極層,設于該有機層上;其中,該有機層于這些凹角結構處斷開不連續(xù)。

      在本發(fā)明實施例的顯示面板中,該像素界定層的一第一表面上可通過設有多個凸部或多個凹部,而達到前述的凹角結構;其中該第一表面為遠離該基板。其中,這些凸部或這些凹部具有一側壁及一底面,且該側壁及 該底面間具有一夾角,且該夾角介于40°至140°。此外,凸部或凹部的形狀并無特殊限制;當夾角介于40°至90°之間時,凸部或凹部于一剖面線上的形狀為正梯形;當夾角為90°時,凸部或凹部于一剖面線上的形狀為矩形;而當夾角介于90°至140°之間時,凸部或凹部于一剖面線上的形狀為倒梯形。

      在本發(fā)明實施例的顯示面板中,這些凸部或這些凹部的設置面積占該像素界定層的該第一表面面積的1%至50%;且其分布位置并不局限。

      在本發(fā)明實施例的顯示面板中,第二電極層上可視需求增加不同層別。在此,本發(fā)明實施例的顯示面板可還包括一接著層,設于該第二電極層上,且于這些凹角結構處連續(xù)未斷開;其中該接著層使用黏度為1至10000cps之間的材料經固化后所制得。該接著層的一部分附著于這些凸部或這些凹部的該側壁的一部分。

      在本發(fā)明實施例的顯示面板中,是將像素界定層設計成具有一特殊凹角結構,更具體而言,是將像素界定層設計成具有凹部或凸部的特殊結構。如此,接著層可形成于凹角結構的側壁,可降低有機層平行方向的滑移,抵抗有機層垂直方向的分離應力,加強接著層下方第二電極與有機層之間的附著力,進而提升整體膜層的附著力。

      附圖說明

      圖1A至1E為本發(fā)明實施例1的顯示面板的制作流程剖面示意圖。

      圖1F及1G為本發(fā)明實施例1的顯示面板的部分放大圖。

      圖2為本發(fā)明實施例1的顯示面板的基板上方結構示意圖。

      圖3A至3D為本發(fā)明實施例2的顯示面板的制作流程剖面示意圖。

      圖3E及3F為本發(fā)明實施例2的顯示面板的部分放大圖。

      圖4A為本發(fā)明實施例3的顯示面板的部分放大圖。

      圖4B為本發(fā)明實施例4的顯示面板的部分放大圖。

      圖5A為本發(fā)明實施例5的顯示面板的部分放大圖。

      圖5B為本發(fā)明實施例6的顯示面板的部分放大圖。

      圖6A至6B為本發(fā)明實施例7的顯示面板的制作流程剖面示意圖。

      圖6C及6D為本發(fā)明實施例7的顯示面板的部分放大圖。

      圖7A至7B為本發(fā)明實施例8的顯示面板的制作流程剖面示意圖。

      圖7C及7D為本發(fā)明實施例8的顯示面板的部分放大圖。

      【符號說明】

      11 基板 11a 基板表面

      12 第一電極層 13 光刻膠層

      131 像素界定層 131a 第一表面

      14 光刻膠層 141,1411,1412 凸部

      141a,142a,171b 側壁 141b,142b 底面

      142 凹部 15 有機層

      16 第二電極層 17 接著層

      171a 頂面 18,182 保護層

      19 平坦層 20 對側基板

      A 發(fā)光區(qū) B 非發(fā)光區(qū)

      D 深度 H 高度

      T 厚度 θ1,θ2 夾角

      具體實施方式

      以下通過特定的具體實施例說明本發(fā)明的實施方式,本領域技術人員可由本說明書所揭示的內容輕易地了解本發(fā)明的其他優(yōu)點與功效。本發(fā)明也可以通過其他不同的具體實施例加以施行或應用,本說明書中的各項細節(jié)也可以針對不同觀點與應用,在不悖離本創(chuàng)作的精神下進行各種修飾與變更。

      再者,說明書與權利要求中所使用的序數例如“第一”、“第二”等的用詞,以修飾權利要求的元件,其本身并不含有及代表該請求元件有任何的前的序數,也不代表某一請求元件與另一請求元件的順序、或是制造方法上的順序,該些序數的使用僅用來使具有某命名的一請求元件得以和另一具有相同命名的請求元件能做出清楚區(qū)分。

      實施例1

      圖1A至1E為本實施例的顯示面板的制作流程剖面示意圖。首先,如圖1A所示,提供一基板11,其具有發(fā)光區(qū)A及非發(fā)光區(qū)B,其中,發(fā)光區(qū)A上設有一第一電極層12。而后,于基板11上以常用的涂布法形成一光刻膠層13,經曝光顯影后,則可于非發(fā)光區(qū)B上形成一像素界定層131, 如圖1B所示。在此,需說明的是,由于本技術主要特征在于像素界定層131的結構設計,故放大非發(fā)光區(qū)B的寬度并縮小發(fā)光區(qū)A的寬度;實際發(fā)光區(qū)A及非發(fā)光區(qū)B的大小,仍應以面板設計為準。

      在本實施例中,形成像素界定層131的光刻膠層13的材料,可為一正型光刻膠,其為一經曝光顯影后,曝光區(qū)域可被后續(xù)的清洗溶劑溶解帶走的材料,可為酚醛樹脂(phenol-formaldehyde resin)或環(huán)氧樹脂(epoxy resin),例如:Novolak、聚酰亞胺(PI;polyimide)、壓克力(Acrylic)樹脂、環(huán)烯烴聚合物(Cyclic Olefin Polymer,COP)。

      接著,如圖1C所示,于基板11上以常用的涂布法形成另一光刻膠層14,經曝光顯影后,則可于非發(fā)光區(qū)B上形成多個凸部141,如圖1D所示。在本實施例中,形成凸部141的光刻膠層14的材料,可為一負型光刻膠,其為一經曝光顯影后,曝光區(qū)域不被后續(xù)清洗溶劑溶解帶走的材料,可為聚異戊二烯橡膠(polyisoprene rubber)、Novolak等。

      而后,如圖1E所示,于基板11上再依次形成一有機層15、一第二電極層16,則形成有機發(fā)光二極管結構。接著,于機發(fā)光二極管結構上依次形成一接著層17、一保護層18及一平坦層19,并經與一對側基板20對組后,則完成本實施例的有機發(fā)光二極管顯示面板。

      圖1F為圖1E所圈起的區(qū)域的部分放大圖。如圖1E及1F所示,本實施例的顯示面板包括:一基板11,具有發(fā)光區(qū)A及非發(fā)光區(qū)B,其中發(fā)光區(qū)A上設有一第一電極層12,而非發(fā)光區(qū)B上設有一像素界定層131,且像素界定層131具有由凸部141所形成的凹角結構(如圈起的區(qū)域所示);一有機層15,設于第一電極層12及像素界定層131上;以及一第二電極層16,設于有機層15上且有機層15夾置于第一電極層12及第二電極層16間。像素界定層131具有一第一表面131a,第一表面131a遠離基板11。凸部141和像素界定層131的第一表面131a,共同構成凹角結構。在此實施例中,有機層15及第二電極層16于凹角結構處斷開不連續(xù)。依據本發(fā)明其他實施例,有機層15于凹角結構處斷開不連續(xù),第二電極層16則可于凹角結構處為連續(xù)。

      更具體而言,如圖1F及1G所示,其中,圖1G為圖1F所圈起的凹角結構的放大圖,在本實施例的顯示面板中,像素界定層131的第一表面 131a上設有多個凸部141,且凸部141具有一側壁141a及一底面141b(在此,所謂的底面141b即為凸部141與像素界定層131接觸的表面),且側壁141a與底面141b間具有一夾角θ1,且該夾角θ1可介于40°至140°之間。在本實施例中,凸部141的側壁141a與底面141b間的夾角θ1介于90°至140°之間,故凸部141在一剖面線上成一倒梯形。一般而言,像素界定層131與下方層別的表面(在此,為基板表面11a)間的夾角θ2為小于40°;且若像素界定層131不具有凹角結構時,并不會產生有機層15及第二電極層16斷開不連續(xù)的情形。在本實施例中,通過凸部141和像素界定層131的第一表面131a形成凹角結構,故有機層15及第二電極層16于凹角結構處則會產生斷開不連續(xù)。

      在本實施例中,像素界定層131上的凹角結構,可提供一錨定力,不僅能降低平行方向滑移情況的發(fā)生機率,也能有效抵抗來自垂直方向的分離應力;同時,可增加像素界定層131與后續(xù)膜層間的接觸面積,以防止后續(xù)有機層15及第二電極層16與像素界定層131間附著力不佳,而產生因面板彎曲而有剝離的情形產生。此外,像素界定層131的凹角結構更可消除并提供相對抗力,以減少面板彎曲而產生的外加應力,使得元件的封裝效率及耐彎折性得以進一步提升,而還能應用于可撓式顯示面板中。

      在此,凸部141的尺寸并無特殊限制,可依設計而變更。例如,凸部141的高度H為像素界定層131的厚度T的0.1至5倍之間。又例如,凸部141的高度H可為0.1至10μm之間,例如,可為0.1至1μm,以達到形成有機層和第二電極層在凹角結構處為不連續(xù)。此外,如圖2所示,凸部141的設置位置并無特殊限制,可設于像素界定層131十字交叉的位置(如凸部1411所示),也可在非交叉(即,單純條狀部)的位置(如凸部1412所示)。再者,凸部141可平均分散設置于顯示面板的像素界定層131上。如圖2所示,凸部1411,1412的設置面積可為占像素界定層131的第一表面131a面積的1%至50%。依據本發(fā)明實施例,凸部的設置面積在前述范圍內,可加強有機發(fā)光二極管面板的剛性與耐彎折能力。在此,所謂的「凸部平均分散設置」,舉例而言,可為將每1至8個發(fā)光區(qū)作為一單位,且于此單位中設置至少一個凸部,但本發(fā)明并不局限于此。

      在本實施例中,僅以包含有第一電極層12、有機層15及第二電極層 16的有機發(fā)光二極管元件作為舉例,但本發(fā)明并不限于此;其他本技術領域常用的有機發(fā)光二極管元件均可應用于本發(fā)明的有機發(fā)光二極管顯示面板中,例如:包括電子傳輸層、電子注入層、空穴傳輸層、空穴注入層、及其他可幫助電子空穴傳輸結合的層的有機發(fā)光二極管元件均可應用于本發(fā)明中。例如,本實施例中的有機層15可包括有機發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層、空穴傳輸層、和空穴注入層。

      在本實施例中,基板11可為一透明軟性基板,如塑料基板;而對側基板20可為一透明硬性或軟性基板,如玻璃基板、塑料基板等。此外,第一電極層12可選用一反射電極、透明電極、或半透明電極,而第二電極層16可選用一透明電極、半透明電極、或反射電極。反射電極可為Ag、Ge、Al、Cu、Mo、Ti、Sn、A1Nd等所制成的電極;透明電極可為透明氧化物電極(TCO電極),如ITO電極或IZO電極;而半透明電極可為一金屬薄膜電極,如鎂銀合金薄膜電極、金薄膜電極、鉑薄膜電極、鋁薄膜電極等。此外,若需要,本實施例的第二電極層16可選用透明電極與半透明電極的復合電極,如:TCO電極與鉑薄膜電極的復合電極。

      如圖1E所示,本實施例的顯示面板還包括一接著層17,設于第二電極層16上。接著層17則可使用黏度為1至10000cps之間的材料經固化后所制得。接著層17的黏度,可依據工藝方式不同而選擇上有所差異,例如,若使用噴墨印刷(ink-jet printing)工藝,則黏度可為5-200cps。由于接著層17以具有高流動性的材料所制成,故可填入凸部141所形成的凹角結構(如圈起的區(qū)域所示)中,且于凹角結構處連續(xù)未斷開。在此,用以形成接著層17的材料可為:液態(tài)狀的封裝膠材。例如,接著層17包括壓克力(Acrylic)樹脂、環(huán)氧樹脂(Epoxy)、硅氧樹脂(Silicone)、或其混合物?;蛘?,接著層17的材料可為,通過將有機、無機、或有機無機材料以一定比例的溶劑所形成的形成溶液態(tài)的混合材料。此外,涂布用以形成接著層17材料的方法并無特殊限制,可為平面膠的貼附或涂布工藝,如:網版印刷、滴入式、狹縫涂布、噴嘴印刷、噴霧印刷、旋涂、微噴射、噴墨印刷等。

      經由前述工藝固化后所形成的接著層17,其具有較高附著力、低應力且高韌性耐彎折特性,并且可完整貼附且填充于凸部141所形成的凹角結 構(如圈起的區(qū)域所示)中,例如,部分的接著層17可附著于凸部141的側壁141a的一部分。如此,通過附著力強的接著層17,可降低在其下方有機層15平行方向的滑移,抵抗有機層15垂直方向的分離應力。因此,第二電極層16與有機層15之間的附著力可得以增加,防止第二電極層16、有機層15、及其他附著力較差的膜層的剝離現象發(fā)生,進而提升整體膜層的附著力。借此,即使可提升顯示面板產品的耐彎折性及可靠度,而更可有利于可撓性有機發(fā)光二極管顯示面板的應用。

      此外,如圖1E所示,本實施例的顯示面板還包括一保護層18,設于接著層17上。保護層18的目的主要用以阻擋水氣、氧氣侵入,以避免下方有機層15惡化,一般可稱阻水氧層。在此,可使用的材料如:金屬氧化物、金屬氟化物、金屬氮化物、金屬碳化物、金屬碳氮化物、金屬氮氧化物、金屬硼化物、金屬硼氧化物、金屬硅化物、硅氮氧化物、硅氮化物、及硅氧化物。例如,保護層18可為氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、二氧化鈦(TiO2)、氧化鋯(ZrO2)、氧化鋁(Al2O3)、氮化鋁(A1N)、或其組合。此外,保護層18于凹角結構處連續(xù)未斷開。在此,僅以單層保護層18作為示例,在本發(fā)明的其他實施例中,保護層18可具有由前述無機材料所形成的多層結構、或由有機材料及無機材料依次層疊所形成的多層結構,以提升元件的阻水氧能力。另外,本實施例的顯示面板可還包括一另一保護層182,位于接著層17之下,在接著層17和第二電極層16之間。依據本發(fā)明實施例,當選用的接著層17可能對于第二電極層16造成侵蝕現象時,則可在接著層17和第二電極層16之間形成保護層182,可防止接著層17與第二電極層16直接接觸可能造成的侵蝕現象,或是防止后續(xù)進行接著層17制備時,因為工藝環(huán)境改變而造成的水氣入侵情況。

      為精簡起見,以下本發(fā)明的其他實施例中,附圖中并未顯示在接著層17下方的保護層182。但以下實施例的顯示面板中,也可以包括在接著層17下方的保護層182。

      再者,如圖1E所示,本實施例的顯示面板還包括一平坦層19,設于保護層18上。在此,平坦層19的材料并無限定,可為一絕緣材料,只要利用適合的材料黏度并搭配可行的工藝方式即可達到所需的平坦化要求。

      實施例2

      圖3A至3D為本實施例的顯示面板的制作流程剖面示意圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例1相似,除了下述不同點。

      如圖3A及3B所示,在形成像素界定層131后,以一正型光刻膠于像素界定層131上形成多個凸部141,而形成于一剖面線上具有正梯形結構的凸部141,如圖3C所示;在此,適用于形成凸部141的正型光刻膠可使用與形成像素界定層131的正型光刻膠相同,故在此不再贅述。當使用正型光刻膠形成凸部141時,所形成的顯示面板結構如圖3D所示。

      圖3E為圖3F所圈起的區(qū)域的部分放大圖;而圖3F為圖3E所圈起的凹角結構的放大圖。不同于實施例1所形成的倒梯形凸部,本實施例形成正梯形凸部;其中凸部141具有一側壁141a及一底面141b(在此,所謂的底面141b即為凸部141與像素界定層131接觸的表面),且凸部141的側壁141a與底面141b間的夾角θ1介于40°至90°之間,故凸部141在一剖面線上成一正梯形。

      在此,像素界定層131與凸部141均由正型光刻膠所制成,其材料可相同或不同。

      實施例3

      圖4A為本實施例的顯示面板的部分放大圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例1相似,除了接著層17于一剖面線上具有一類似正梯形的外型,其中接著層17具有一頂面171a與兩側壁171b,此兩側壁171b與頂面171a連接且彼此間呈一鈍角。因此,當于接著層17上后續(xù)形成保護層18,保護層18也具有與接著層17相似的一類似正梯形的外型;相比于實施例1的具有一類似倒梯形的外型的保護層18而有一銳角,因本實施例的保護層18具有一類似正梯形的外型,故可避免如實施例1的保護層18于銳角處可能會有產生缺陷的機會。

      實施例4

      圖4B為本實施例的顯示面板的部分放大圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例2相似,除了接著層17于一剖面線上具有一類似正梯形的外型,其中接著層17具有一頂面171a與兩側壁171b,此兩側壁171b與頂面171a連接且彼此間呈一鈍角。

      實施例5

      圖5A為本實施例的顯示面板的部分放大圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例1相似,除了在形成接著層17后先形成一平坦層19,而后再形成保護層18。因此,在本實施例中,平坦層19設于接著層17及保護層18間。在此,形成保護層18后直接與對側基板20對組;然而,在本發(fā)明的其他實施例中,保護層18與對側基板20更可選擇性的增加其他層別,例如,另一平坦層。同樣的,因本實施例的保護層18不具有棱角,故可避免如實施例1的保護層18于銳角處可能會有產生缺陷的機會。

      實施例6

      圖5B為本實施例的顯示面板的部分放大圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例2相同,除了與實施例5相似,在形成接著層17后先形成一平坦層19,而后再形成保護層18。

      實施例7

      圖6A至6B為本實施例的顯示面板的制作流程剖面示意圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例1相似,除了下述不同點。

      如圖6A所示,在本實施例中,在形成像素界定層131后,則以圖案化工藝,如:多段刻蝕或是利用激光、等離子體轟擊等方式,形成一于一剖面線上呈現正梯形的凹部142,以取代實施例1的凸部。而后,再以與實施例1相同的方式,依次形成后續(xù)有機層15、第二電極層16、接著層17、保護層18及平坦層19,如圖6B所示。

      更具體而言,如圖6C及6D所示,其中,圖6D為圖6C所圈起的凹角結構的放大圖,在本實施例的顯示面板中,像素界定層131的一第一表面131a上設有多個凹部142,其中第一表面131a為遠離基板11的表面。凹部142具有一側壁142a及一底面142b,且側壁142a與底面142b間具有一夾角θ1,且該夾角θ1可介于40°至140°之間。在本實施例中,凹部142的側壁142a與底面142b間的夾角θ1介于40°至90°之間,故凹部142在一剖面線上成一倒梯形。在本實施例中,通過像素界定層131內的凹部142形成具有夾角θ1介于40°至140°之間的凹角結構,故有機層15及第二電極層16于凹角結構處則會產生斷開不連續(xù)。依據本發(fā)明其他實施例,有機層15于凹角結構處斷開不連續(xù),第二電極層16則可于凹角結構處為 連續(xù)。

      在此,凹部142的尺寸并無特殊限制,可依設計而變更。例如為,凹部142的深度D為像素界定層131的厚度T的5%至50%。此外,凹部142的設置位置及設置面積并無特殊限制,可依與實施例1相同的設置條件設置于像素界定層131上,故在此不再贅述。

      再者,在本實施例中,接著層17及保護層18則具有與實施例3的接著層類似結構。更詳細而言,如圖6C所示,接著層17填入凹部142中,且于一剖面線上具有一類似正梯形的外型。根據本發(fā)明實施例,接著層17可填入凹角結構中,部分的接著層17可附著于凹部142的側壁142a。接著層17具有一頂面171a與兩側壁171b,此兩側壁171b與頂面171a連接且彼此間呈一鈍角。因此,當于接著層17上后續(xù)形成保護層18,保護層18也具有與接著層17相似的一類似正梯形的外型。

      實施例8

      圖7A至7B為本實施例的顯示面板的制作流程剖面示意圖。本實施例的顯示面板的結構與制作流程與實施例7相似,除了下述不同點。

      在本實施例中,形成于一剖面線上具有倒梯形結構的凹部142,且形成手段與實施例7相同,故在此不再贅述。

      圖7C為圖7B所圈起的區(qū)域的部分放大圖;而圖7D為圖7C所圈起的凹角結構的放大圖。不同于實施例7所形成的正梯形凹部,本實施例形成倒梯形凹部;其中凹部142具有一側壁142a及一底面142b,且側壁142a與底面142b間具有一夾角θ1,且該夾角θ1可介于90°至140°之間,故凹部142在一剖面線上成一倒梯形。

      綜上所述,依據本發(fā)明實施例,通過像素界定層的凹角結構,使得有機層在凹角結構處為不連續(xù),接著層填入凹角結構處而為連續(xù)。如此,接著層可形成于凹角結構的側壁,可降低有機層平行方向的滑移,抵抗有機層垂直方向的分離應力,加強接著層下方第二電極與有機層之間的附著力,進而提升整體膜層的附著力。

      在本發(fā)明中,前述實施例所制得的顯示面板,也可以與本技術領域已知的觸控面板合并使用,而作為一觸控顯示設備。同時,本發(fā)明前述實施例所制得的顯示面板或觸控顯示設備,可應用于本技術領域已知的任何需 要顯示屏幕的電子裝置上,如顯示器、手機、筆記本電腦、攝影機、照相機、音樂播放器、移動導航裝置、電視等。

      上述實施例僅是為了方便說明而舉例而已,本發(fā)明所主張的權利范圍自應以權利要求所述為準,而非僅限于上述實施例。

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