本發(fā)明涉及一種多進口空腔加熱支撐架，屬于半導(dǎo)體薄膜沉積應(yīng)用及制造技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體設(shè)備在進行沉積反應(yīng)時往往需要使晶圓及腔室加熱或維持在沉積反應(yīng)所需要的溫度，所以加熱盤必需具備加熱結(jié)構(gòu)以滿足給晶圓預(yù)熱的目的。大多數(shù)半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備，在沉積過程中還會有等離子體參與沉積反應(yīng)，因等離子體能量的釋放以及化學(xué)氣體間反應(yīng)的能量釋放，加熱盤及晶圓的溫度會隨著射頻及工藝時間的增加溫度會不斷的上升，如果在進行相同溫度下的工藝，需要等待加熱盤降到相同的溫度后才能進行，這樣會耗費大量的時間，設(shè)備的產(chǎn)能相對比較低。如果晶圓和加熱盤的溫度升溫過快，晶圓和加熱盤的溫度會超出薄膜所需承受的溫度，致使薄膜失敗。

為了解決工藝過程中加熱盤溫升過快降溫慢而導(dǎo)致半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備熱交換效率及產(chǎn)能較低，晶圓溫度不夠均勻致使薄膜失敗的問題，我們需要有能夠自動調(diào)溫的裝置，來保證加熱盤的溫度。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明以解決上述問題為目的，提供了一種多進口空腔加熱支撐架，該支撐架采用支撐架上盤體與支撐架下盤體形成的空腔，并且利用媒介的循環(huán)進行冷卻和加熱，對支撐架進行溫度的控制。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用下述技術(shù)方案：

一種多進口空腔加熱支撐架，該加熱支撐架包括支撐架上盤體，支撐架下盤體，導(dǎo)流槽蓋板，陶瓷柱及陶瓷柱安裝螺母；所述支撐架上盤體的下盤面設(shè)有凸臺A，凸臺B，陶瓷柱孔及熱電偶孔，凸臺A與凸臺B形成環(huán)形溝槽，凸臺B上分布有三個導(dǎo)流口，為媒介流入腔體內(nèi)提供通道；所述陶瓷柱孔與熱電偶孔的外圍分別設(shè)有凸臺C和凸臺D；所述支撐架下盤體的上盤面上與上述陶瓷柱孔相對應(yīng)的位置設(shè)有螺紋孔，在上盤面靠近中心的位置設(shè)有媒介入口、媒介出口及與上述熱電偶孔位置相對應(yīng)的熱電偶安裝螺紋孔，還設(shè)有以媒介入口為中心分別向支撐架下盤體外圍開有的三個導(dǎo)流槽，每個導(dǎo)流槽的兩側(cè)分別有凸臺E，用于承載導(dǎo)流槽蓋板，每個導(dǎo)流槽的外端還設(shè)有終端孔，終端孔的位置在上述環(huán)形溝槽對應(yīng)的范圍內(nèi)；所述導(dǎo)流槽蓋板的外端設(shè)有與導(dǎo)流槽終端孔相對應(yīng)的導(dǎo)流槽蓋板端孔；

所述支撐架下盤體通過導(dǎo)流槽與導(dǎo)流槽蓋板焊接后再與支撐架上盤體通過真空釬焊進行焊接，然后將陶瓷柱安裝在陶瓷柱孔內(nèi)，再采用陶瓷柱安裝螺母通過螺紋孔對陶瓷柱進行固定形成空腔。

所述凸臺A、凸臺B、凸臺C與凸臺D的高度相等。

本發(fā)明的有益效果及特點在于：

本發(fā)明的多進口空腔加熱支撐架，通過循環(huán)媒介的自動控溫，可以實現(xiàn)對加熱支撐架溫度的自動調(diào)節(jié)，能夠精確的控制加熱支撐架的溫度。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的多進口空腔加熱支撐架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明支撐架上盤體的下盤面的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明支撐架下盤體的上盤面的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為辦發(fā)明的導(dǎo)流槽蓋板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合實施例進一步對本發(fā)明進行詳細(xì)說明，但發(fā)明保護內(nèi)容不局限于所述實施例：

如圖1-4所示，一種多進口空腔加熱支撐架，該加熱支撐架包括支撐架上盤體1，陶瓷柱2，導(dǎo)流槽蓋板3，支撐架下盤體4及陶瓷柱安裝螺母5；所述支撐架上盤體1的下盤面設(shè)有凸臺A21，凸臺B22，陶瓷柱孔7及熱電偶孔9，凸臺A21與凸臺B22形成環(huán)形溝槽8，凸臺B22上分布有三個導(dǎo)流口10，為媒介流入腔體內(nèi)提供通道；所述陶瓷柱孔7與熱電偶孔9的外圍分別設(shè)有凸臺C23和凸臺D24；所述支撐架下盤體4的上盤面上與上述陶瓷柱孔7相對應(yīng)的位置設(shè)有螺紋孔6，在上盤面靠近中心的位置設(shè)有媒介入口12、媒介出口11及與上述熱電偶孔9位置相對應(yīng)的熱電偶安裝螺紋孔15，還設(shè)有以媒介入口12為中心分別向支撐架下盤體4外圍開有的三個導(dǎo)流槽13，每個導(dǎo)流槽13的兩側(cè)分別有凸臺E31，用于承載導(dǎo)流槽蓋板3，每個導(dǎo)流槽13的外端還設(shè)有終端孔14，終端孔14的位置在上述環(huán)形溝槽8對應(yīng)的范圍內(nèi)；所述導(dǎo)流槽蓋板3的外端設(shè)有與終端孔14相對應(yīng)的導(dǎo)流槽蓋板端孔16；

所述支撐架下盤體4上的導(dǎo)流槽13與導(dǎo)流槽蓋板3焊接后再與 支撐架上盤體1通過真空釬焊進行焊接，然后將陶瓷柱2安裝在陶瓷柱孔7內(nèi)，再采用陶瓷柱安裝螺母5通過螺紋孔6對陶瓷柱2進行固定形成空腔。所述凸臺A21、凸臺B22、凸臺C23與凸臺D24的高度相等。

使用時，支撐架上盤體1與支撐架下盤體4形成空腔，然后將媒介通過媒介入口12通入，經(jīng)過導(dǎo)流槽13，由導(dǎo)流槽終端孔14流入環(huán)形溝槽8中，再由導(dǎo)流口10流入空腔中，然后由媒介出口11流出，利用媒介對該加熱支撐架進行冷卻或加熱，利用媒介的循環(huán)，對加熱支撐架進行溫度的控制。