技術總結
本發(fā)明公開了一種廣泛適用的斑點束平行透鏡磁鐵邊界形狀設計方法，屬于半導體裝備領域。如圖1所示是斑點束平行透鏡磁鐵及斑點束線的俯視圖，斑點束平行透鏡磁鐵設計方法包括：1、平行透鏡入口焦點位置O點；2、束線中心軌跡上入口焦點與平行透鏡入口距離L；3、束線掃描角度θ；4、束線在平行透鏡中的偏轉半徑R；5、束線出平行透鏡期望的偏轉角度Θ；6、束線經(jīng)過平行透鏡后的期望束寬Δ；該設計方法的主要思想是，首先確定平行透鏡入口焦點位置O點后，給出束線中心軌跡上入口焦點與平行透鏡入口距離L及要求的束線掃描角度θ，根據(jù)這三個參量可求出平行透鏡磁鐵的入口邊界方程。同樣，根據(jù)束線在平行透鏡中的偏轉半徑R、束線出平行透鏡期望的偏轉角度Θ及束線經(jīng)過平行透鏡后的期望束寬Δ，根據(jù)這三個參量可求出平行透鏡磁鐵的出口邊界方程。

技術研發(fā)人員：王高騰
受保護的技術使用者：北京中科信電子裝備有限公司
文檔號碼：201510710366
技術研發(fā)日：2015.10.28
技術公布日：2017.05.10