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      光電裝置的制作方法

      文檔序號(hào):11161567閱讀:來源:國知局
      技術(shù)總結(jié)
      本發(fā)明公開了一種光電裝置,所述光電裝置包括半導(dǎo)體結(jié)構(gòu),所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)包括p型有源區(qū)和n型有源區(qū)。所述半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)僅由一個(gè)或多個(gè)超晶格構(gòu)成,其中每個(gè)超晶格由多個(gè)單位晶胞構(gòu)成。每個(gè)單位晶胞包括至少兩個(gè)不同的基本單晶層。

      技術(shù)研發(fā)人員:P.阿塔納科維奇
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:希拉納集團(tuán)有限公司
      文檔號(hào)碼:201580027680
      技術(shù)研發(fā)日:2015.04.06
      技術(shù)公布日:2017.05.10

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