本發(fā)明涉及透明導(dǎo)電膜的生產(chǎn)制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法及柔性導(dǎo)電膜。

背景技術(shù)：

透明導(dǎo)電膜是一種具備導(dǎo)電功能的薄膜，透明導(dǎo)電膜因其具有重量輕、可變形、不易碎等優(yōu)點(diǎn)廣泛的應(yīng)用于液晶顯示器、太陽能電池、微電子ito導(dǎo)電膜玻璃、光電子和各種光學(xué)領(lǐng)域。

傳統(tǒng)技術(shù)中通常采用ito作為透明導(dǎo)電膜運(yùn)用在光電子器件中，但由于其柔性差，完全不適合作為制備柔性透明導(dǎo)電膜的材料，納米銀線導(dǎo)電膜為目前常用的一種導(dǎo)電膜形式，其具備較好的導(dǎo)電性，透光率和優(yōu)異的彎折性，是最有潛力替代ito的材料，因此在現(xiàn)有技術(shù)中得到廣泛的應(yīng)用。

現(xiàn)有技術(shù)制備納米銀線導(dǎo)電膜時需要重復(fù)浸泡納米銀線與熱壓過程，工藝較繁瑣，工作效率低下。且每次重復(fù)操作之后，其結(jié)合面均會形成一個光學(xué)界面，累加起來，從而會很大程度上降低導(dǎo)電膜的光透過率。另外一種方法是涂敷納米銀線漿料于pet基材上，采用這種方式成型的透明導(dǎo)電膜缺乏表面保護(hù)，納米銀線層易脫落，且膜表面容易被刮傷，影響導(dǎo)電膜的質(zhì)量。

此外，現(xiàn)有技術(shù)中制作納米銀線導(dǎo)電膜的基材是類似于ito導(dǎo)電膜的硬化薄膜，即通過在硬化薄膜之上涂布納米銀線，在經(jīng)過烘干工序形成納米銀線導(dǎo)電膜；此種方法與ito濺射不同，但是選用基材類似，所以存在光透過率低，霧度高，附著力低，生產(chǎn)效率低等問題。

通過涂布納米銀線在硬化膜基材上成型導(dǎo)電膜的工藝需要選擇很好的硬 化膜基材，增加了導(dǎo)電膜的厚度，生產(chǎn)工藝增加，成本增大，成型的導(dǎo)電膜柔性差，不利于整體柔性導(dǎo)電膜性能提高。

現(xiàn)有技術(shù)中公開的一種納米銀線透明導(dǎo)電膜的生產(chǎn)方法(專利號：201410229462.0)，該文件中使用傳統(tǒng)涂布法制備納米銀線，導(dǎo)電膜所需的基材以現(xiàn)有基材為基礎(chǔ)，經(jīng)涂布不同基材以及調(diào)節(jié)不同涂布液配方制備，其厚度為81-500μm，厚度較大，不易折彎，柔性差。

因此，鑒于以上問題，有必要提出一種新型的導(dǎo)電膜及其成型方法，使導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，在工藝上實(shí)現(xiàn)簡化，薄膜整體實(shí)現(xiàn)減薄，增加光透過率，減低霧度，提高生產(chǎn)效率，降低成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法及柔性導(dǎo)電膜，通過采用擠出工藝成型柔性基材層，使導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，在成型柔性基材層的同時涂布柔性導(dǎo)電層，在工藝上實(shí)現(xiàn)簡化，提高了生產(chǎn)效率，降低成本。成型柔性導(dǎo)電膜時可以進(jìn)行雙向拉伸，使得薄膜整體實(shí)現(xiàn)減薄，增加光透過率，減低霧度。

根據(jù)本發(fā)明的目的提出的一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法，采用擠出工藝成型柔性基材層，并且在成型柔性基材層時同步制備柔性導(dǎo)電層，具體成型步驟如下：

s1：將成型基材層所需的光學(xué)薄膜顆粒進(jìn)行熔融處理，后采用螺桿擠出機(jī)將熔融狀態(tài)下的基材層材料均勻擠出，形成薄膜狀柔性基材層；

s2：對成型的柔性基材層先經(jīng)過縱向拉伸或橫向拉伸處理；

s3：制備底涂層膠水，并在膠水中分散納米銀線；

s4：采用涂布機(jī)將混合有納米銀線的膠水均勻涂布于上述成型的柔性基材層的上下側(cè)表面上，形成柔性導(dǎo)電層，柔性基材層與柔性導(dǎo)電層組合形成所述的柔性導(dǎo)電膜；

s5：對涂布完成后的柔性導(dǎo)電膜進(jìn)行橫向拉伸或縱向拉伸處理，以形成薄膜狀柔性導(dǎo)電膜；

s6：將成型的柔性導(dǎo)電膜放入干燥箱內(nèi)進(jìn)行干燥處理，最終形成可彎曲的柔性導(dǎo)電膜。

優(yōu)選的，所述柔性基材層的材料為pet、cop、coc、pi、pmma或pc。

優(yōu)選的，所述底涂層膠水為丙烯酸類樹脂，所述納米銀線均勻的分散于所述底涂層膠水中。

一種柔性導(dǎo)電膜，采用所述的柔性導(dǎo)電膜的加工方法成型，所述柔性導(dǎo)電膜包括柔性基材層與涂布設(shè)置于所述柔性基材層上下表面上的柔性導(dǎo)電層。所述柔性導(dǎo)電膜能夠彎曲。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電膜的厚度小于等于50μm。

優(yōu)選的，所述柔性基材層的厚度為5μm-125μm。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電層的厚度為5nm-1000nm。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電層的厚度為5nm-500nm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明公開的柔性導(dǎo)電膜的加工方法及柔性導(dǎo)電膜的優(yōu)點(diǎn)是：

通過采用擠出工藝成型柔性基材層，使導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，在成型柔性基材層的同時采用涂布機(jī)將混合有納米銀線的膠水均勻涂布于上柔性基材層上形成柔性導(dǎo)電層，實(shí)現(xiàn)柔性基材層與柔性導(dǎo)電膜一步制備，在工藝上實(shí)現(xiàn)簡化，提高了生產(chǎn)效率，降低成本。

成型柔性導(dǎo)電膜時可以進(jìn)行雙向拉伸，使得薄膜整體實(shí)現(xiàn)減薄，增加光透過率，減低霧度。

此外，將納米銀線均勻分散于膠水中后涂布于柔性基材層的表面，提高柔性基材層的附著力，避免納米銀線脫落及表面被刮傷等問題，提高柔性導(dǎo)電膜的質(zhì)量。

采用本發(fā)明中的方法制備出的柔性導(dǎo)電膜厚度小于等于50μm，此導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，可應(yīng)用柔性顯示、柔性觸摸屏、柔性照明、柔性光伏。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明公開的柔性導(dǎo)電膜的成型工藝圖1。

圖2為本發(fā)明公開的柔性導(dǎo)電膜的成型工藝圖2。

圖3為本發(fā)明公開的柔性導(dǎo)電膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中的數(shù)字或字母所代表的相應(yīng)部件的名稱：

1、柔性基材層2、柔性導(dǎo)電層3、涂布頭

具體實(shí)施方式

現(xiàn)有技術(shù)制備納米銀線導(dǎo)電膜時需要重復(fù)浸泡納米銀線與熱壓過程，工藝較繁瑣，工作效率低下。且每次重復(fù)操作之后，其結(jié)合面均會形成一個光學(xué)界面，累加起來，從而會很大程度上降低導(dǎo)電膜的光透過率。另外一種方法是涂敷納米銀線漿料于pet基材上，采用這種方式成型的透明導(dǎo)電膜缺乏表面保護(hù)，納米銀線層易脫落，且膜表面容易被刮傷，影響導(dǎo)電膜的質(zhì)量。此外，現(xiàn)有技術(shù)種制作納米銀線導(dǎo)電膜的基材是類似于ito導(dǎo)電膜的硬化薄膜，即通過在硬化薄膜之上涂布納米銀線，在經(jīng)過烘干工序形成納米銀線導(dǎo)電膜； 此種方法與ito濺射不同，但是選用基材類似，所以存在光透過率低，霧度高，附著力低，生產(chǎn)效率低等問題。

本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供了一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法及柔性導(dǎo)電膜，通過采用擠出工藝成型柔性基材層，使導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，在成型柔性基材層的同時涂布柔性導(dǎo)電層，在工藝上實(shí)現(xiàn)簡化，提高了生產(chǎn)效率，降低成本。成型柔性導(dǎo)電膜時可以進(jìn)行雙向拉伸，使得薄膜整體實(shí)現(xiàn)減薄，增加光透過率，減低霧度。

根據(jù)本發(fā)明的目的提出的一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法，采用擠出工藝成型柔性基材層，并且在成型柔性基材層時同步制備柔性導(dǎo)電層，具體成型步驟如下：

s1：將成型基材層所需的光學(xué)薄膜顆粒進(jìn)行熔融處理，后采用螺桿擠出機(jī)將熔融狀態(tài)下的基材層材料均勻擠出，形成薄膜狀柔性基材層；

s2：對成型的柔性基材層先經(jīng)過縱向拉伸或橫向拉伸處理；

s3：制備底涂層膠水，并在膠水中分散納米銀線；

s4：采用涂布機(jī)將混合有納米銀線的膠水均勻涂布于上述成型的柔性基材層的上下側(cè)表面上，形成柔性導(dǎo)電層，柔性基材層與柔性導(dǎo)電層組合形成所述的柔性導(dǎo)電膜；

s5：對涂布完成后的柔性導(dǎo)電膜進(jìn)行橫向拉伸或縱向拉伸處理，以形成薄膜狀柔性導(dǎo)電膜；

s6：將成型的柔性導(dǎo)電膜放入干燥箱內(nèi)進(jìn)行干燥處理，最終形成可彎曲的柔性導(dǎo)電膜。

優(yōu)選的，所述柔性基材層的材料為pet、cop、coc、pi、pmma或pc。

優(yōu)選的，所述底涂層膠水為丙烯酸類樹脂，所述納米銀線均勻的分散于所述底涂層膠水中。

一種柔性導(dǎo)電膜，采用所述的柔性導(dǎo)電膜的加工方法成型，所述柔性導(dǎo)電膜包括柔性基材層與涂布設(shè)置于所述柔性基材層上下表面上的柔性導(dǎo)電層，所述柔性導(dǎo)電膜能夠彎曲。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電膜的厚度小于等于50μm。

優(yōu)選的，所述柔性基材層的厚度為5μm-125μm。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電層的厚度為5nm-1000nm。

優(yōu)選的，所述柔性導(dǎo)電層的厚度為5nm-500nm。

下面將通過具體實(shí)施方式對本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請參見圖1與圖2，如圖所示，一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法，采用擠出工藝成型柔性基材層，并且在成型柔性基材層時同步制備柔性導(dǎo)電層，實(shí)現(xiàn)柔性基材層與柔性導(dǎo)電膜一步制備，在工藝上實(shí)現(xiàn)簡化，提高了生產(chǎn)效率，降低成本。

柔性導(dǎo)電膜的具體成型步驟如下：

s1：將成型基材層所需的光學(xué)薄膜顆粒進(jìn)行熔融處理，后采用螺桿擠出機(jī)將熔融狀態(tài)下的基材層材料均勻擠出，形成薄膜狀柔性基材層；

s2：對成型的柔性基材層先經(jīng)過縱向拉伸或橫向拉伸處理；

s3：制備底涂層膠水，并在膠水中分散納米銀線；

s4：采用涂布機(jī)將混合有納米銀線的膠水均勻涂布于上述成型的柔性基材層的上下側(cè)表面上，形成柔性導(dǎo)電層，柔性基材層與柔性導(dǎo)電層組合形成所述的柔性導(dǎo)電膜；

s5：對涂布完成后的柔性導(dǎo)電膜進(jìn)行橫向拉伸或縱向拉伸處理，以形成薄膜狀柔性導(dǎo)電膜；成型柔性導(dǎo)電膜時可以進(jìn)行雙向拉伸，使得薄膜整體實(shí)現(xiàn)減薄，增加光透過率，減低霧度；

s6：將成型的柔性導(dǎo)電膜放入干燥箱內(nèi)進(jìn)行干燥處理，最終形成可彎曲的柔性導(dǎo)電膜。

采用該方法制備出的柔性導(dǎo)電膜厚度小于等于50μm，此導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，可應(yīng)用柔性顯示、柔性觸摸屏、柔性照明、柔性光伏。

優(yōu)選的，柔性基材層的材料為pet(聚對苯二甲酸乙二醇酯)、cop光學(xué)材料、coc(環(huán)烯烴共聚物)、pi(聚酰亞胺)、pmma(聚甲基丙烯酸甲脂)或pc(聚碳酸酯)。

其中，底涂層膠水為丙烯酸類樹脂，納米銀線均勻的分散于底涂層膠水中。通過將納米銀線均勻分散于膠水中后涂布于柔性基材層的表面，提高柔性基材層的附著力，避免納米銀線脫落及表面被刮傷等問題，提高柔性導(dǎo)電膜的質(zhì)量。

請參見圖3，如圖所示，一種柔性導(dǎo)電膜，采用上述柔性導(dǎo)電膜的加工方法成型，柔性導(dǎo)電膜包括柔性基材層1與涂布設(shè)置于柔性基材層1上下表面上的柔性導(dǎo)電層2，柔性導(dǎo)電膜能夠彎曲。

其中，該柔性導(dǎo)電膜的厚度小于等于50μm，厚度較薄，有效增加光透過率，減低霧度。

柔性基材層的厚度為5μm-125μm。柔性導(dǎo)電層的厚度為5nm-1000nm。柔性導(dǎo)電層的厚度優(yōu)選為5nm-500nm。具體厚度參數(shù)根據(jù)需要而定，保證柔性導(dǎo)電膜的厚度小于等于50μm即可，在此不做限制。

本發(fā)明公開了一種柔性導(dǎo)電膜的加工方法及柔性導(dǎo)電膜，通過采用擠出工藝成型柔性基材層，使導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，在成型柔性基材層的同時采用涂布機(jī)將混合有納米銀線的膠水均勻涂布于上柔性基材層上形成柔 性導(dǎo)電層，實(shí)現(xiàn)柔性基材層與柔性導(dǎo)電膜一步制備，在工藝上實(shí)現(xiàn)簡化，提高了生產(chǎn)效率，降低成本。

成型柔性導(dǎo)電膜時可以進(jìn)行雙向拉伸，使得薄膜整體實(shí)現(xiàn)減薄，增加光透過率，減低霧度。

采用本發(fā)明中的方法制備出的柔性導(dǎo)電膜厚度小于等于50μm，此導(dǎo)電膜具備柔性耐彎曲性質(zhì)，可應(yīng)用柔性顯示、柔性觸摸屏、柔性照明、柔性光伏。

對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。