1.一種氧化物薄膜的制備方法,其特征在于,包括:
涂布前烘成膜步驟:將含有化學(xué)活性組分的有機(jī)溶液進(jìn)行涂布和前烘形成薄膜,其中,所述化學(xué)活性組分中包括重氮萘醌感光樹脂;
掩膜曝光步驟:在所述薄膜上進(jìn)行掩膜,未掩膜的所述薄膜在曝光后用堿性溶液除去;
氧化物薄膜形成步驟:將掩膜部分經(jīng)高能紫外線照射和臭氧處理后,經(jīng)燒結(jié)固化形成氧化物薄膜。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述重氮萘醌感光樹脂包括式I所示的化合物;
其中,R1和R2各自獨(dú)立地選自:
n為0、1、2或3,m為0、1、2、或3,且n+m≤3;
x為0、1、2或3,y為0、1、2、或3,且x+y≤3。
3.如權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述重氮萘醌感光樹脂選自下述化合物中的一種:
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在所述掩膜曝光步驟中,在365nm紫外光輻照下進(jìn)行曝光。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述氧化物薄膜包括:ITO薄膜、IZO薄膜、IGZO薄膜、ZnON薄膜、ZnO薄膜、ZIZO薄膜和IGZTO薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,當(dāng)所述氧化物薄膜為IZO薄膜時,
所述化學(xué)活性組分包括以重量份計的:10-50份重氮萘醌感光樹脂、50-90份成膜樹脂、20-50份乙酰丙酮銦和5-10質(zhì)量份ZnCl2。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制備方法,其特征在于,當(dāng)所述氧化物薄膜為IGZO時,
所述化學(xué)活性組分包括以重量份計的:10-50份重氮萘醌感光樹脂、50-90份成膜樹脂、20-50份乙酰丙酮銦、10-20份Ga(NO3)3.H2O和5-10份ZnCl2。
8.一種根據(jù)權(quán)利要求1~7任一所述制備方法得到的氧化物薄膜。
9.一種薄膜晶體管的制備方法,其特征在于,該制備方法包括權(quán)利要求1~7任一所述氧化物薄膜的制備步驟。
10.一種薄膜晶體管,其特征在于,該薄膜晶體管包括權(quán)利要求1~7任一所述制備方法得到的氧化物薄膜。