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      圖像傳感器的制作方法

      文檔序號(hào):11521966閱讀:251來源:國(guó)知局
      圖像傳感器的制造方法與工藝

      本發(fā)明涉及,尤其涉及一種降低電源噪聲的圖像傳感器。



      背景技術(shù):

      圖像傳感器是數(shù)字?jǐn)z像頭的重要組成部分,是一種將光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換成電學(xué)信號(hào)的設(shè)備,它被廣泛地應(yīng)用在數(shù)碼相機(jī)、移動(dòng)終端、便攜式電子裝置和其他電子光學(xué)設(shè)備中。圖像傳感器按照元件的不同,可分為ccd(chargecoupleddevice,電荷耦合元件)和cmos(complementarymetaloxidesemiconductor,互補(bǔ)型金屬氧化物半導(dǎo)體元件)圖像傳感器兩大類。ccd圖像傳感器除了大規(guī)模應(yīng)用于數(shù)碼相機(jī)外,還廣泛應(yīng)用于攝像機(jī)、掃描儀、以及工業(yè)領(lǐng)域等。而cmos圖像傳感器由于其高度集成化、低功率損耗和局部像素可編程隨即讀取、速度快、成本低等優(yōu)點(diǎn),可適用于數(shù)碼相機(jī)、pc攝像機(jī)、移動(dòng)通信產(chǎn)品等領(lǐng)域。

      隨著圖像傳感器的持續(xù)快速的發(fā)展,促進(jìn)了其進(jìn)一步的小型化和集成。ccd圖像傳感器和cmos圖像傳感器都是采用光電轉(zhuǎn)換區(qū)域,一般采用光電二極管(photodiodeorphotodetector)收集入射光,并將其轉(zhuǎn)換為能夠進(jìn)行圖像處理的光電荷?,F(xiàn)有的cmos圖像傳感器中,若干個(gè)像素單元組成的像素陣列接收入射光,收集光子。像素單元往往采用3t、4t或5t的結(jié)構(gòu),以4t為例,由轉(zhuǎn)移晶體管(transfertransistor、tx)、復(fù)位晶體管(resettransistor、rst)、源跟隨晶體管(source-followertransistor、sf)、行選通管(rowselectortransistor、rsel),基本的工作原理為:通過光電轉(zhuǎn)換形成光生載流子,產(chǎn)生模擬信號(hào),通過對(duì)像素陣列的行選通并進(jìn)行列讀取,讀出每列的模擬信號(hào),進(jìn)行后續(xù)的運(yùn)算增益放大、模數(shù)轉(zhuǎn)換等信號(hào)處理過程。

      在實(shí)際工作中像素的源跟隨晶體管供電電源的噪聲會(huì)通過電容耦合到像素單元的浮置擴(kuò)散區(qū)fd上,接著通過信號(hào)通路被放大,模數(shù)轉(zhuǎn)換(ad)轉(zhuǎn)換之后體現(xiàn)到輸出數(shù)據(jù)上,影響圖像信噪比。一般做法是為像素電路單獨(dú)做一個(gè)低壓差線性穩(wěn)壓電路(lowdropoutregulator,ldo),以減小外部供電電源噪聲對(duì)圖像質(zhì)量的影響。采用ldo的同時(shí),需要提高源跟隨晶體管的閾值電壓,從而在降低漏極電壓的同時(shí)不會(huì)導(dǎo)致源跟隨晶體管進(jìn)入線性區(qū),然而,提高閾值電壓會(huì)導(dǎo)致源跟隨晶體管的噪聲增加。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本發(fā)明的目的在于提供一種圖像傳感器,解決現(xiàn)有技術(shù)中源跟隨晶體管電源引入噪聲的技術(shù)問題。

      為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種圖像傳感器,包括:陣列分布于半導(dǎo)體襯底中的多個(gè)像素單元,每個(gè)像素單元包括:復(fù)位晶體管,所述復(fù)位晶體管的源極連接選擇電壓;源跟隨晶體管,所述源跟隨晶體管的漏極連接工作電壓;所述半導(dǎo)體襯底連接負(fù)電壓。

      可選的,所述半導(dǎo)體襯底連接-2.0v~0v的負(fù)電壓。

      可選的,還包括:噪聲濾除電路,所述噪聲濾除電路提供所述工作電壓至所述源跟隨晶體管的漏極。

      可選的,所述源跟隨晶體管的漏極連接1.0v~2.0v的工作電壓。

      可選的,所述噪聲濾除電路為低壓差線性穩(wěn)壓電路。

      可選的,所述噪聲濾除電路提供所述選擇電壓至所述復(fù)位晶體管的源極,所述復(fù)位晶體管的源極連接1.0v~2.0v的選擇電壓。

      可選的,還包括:設(shè)置于所述源跟隨晶體管的溝道區(qū)靠近柵極氧化層內(nèi)表面的第一n型摻雜區(qū)域。

      可選的,還包括:依次設(shè)置于所述源跟隨晶體管的溝道區(qū)沿柵極氧化層向內(nèi)的p型摻雜區(qū)域和第二n型摻雜區(qū)域。

      相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明的圖像傳感器具有以下有益效果:

      本發(fā)明中,圖像傳感器包括陣列分布于半導(dǎo)體襯底中的多個(gè)像素單元,每個(gè)像素單元包括:復(fù)位晶體管,所述復(fù)位晶體管的源極連接選擇電壓;源跟隨晶體管,所述源跟隨晶體管的漏極連接工作電壓;所述半導(dǎo)體襯底連接負(fù)電壓,提高源跟隨晶體管的閾值電壓,降低源跟隨晶體管漏極所需的工作電壓,從而降低圖像傳感器的電源噪聲。

      此外,源跟隨晶體管的溝道采用埋溝道,進(jìn)一步提高源跟隨晶體管的閾值電壓,從而降低源跟隨晶體管漏極所需的工作電壓。

      附圖說明

      圖1為本發(fā)明一實(shí)施例中像素單元排布的示意圖;

      圖2為本發(fā)明一實(shí)施例中的像素單元的電路結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明。但是本發(fā)明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實(shí)施,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣,因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施的限制。

      其次,本發(fā)明利用示意圖進(jìn)行詳細(xì)描述,在詳述本發(fā)明實(shí)施例時(shí),為便于說明,所述示意圖只是實(shí)例,其在此不應(yīng)限制本發(fā)明保護(hù)的范圍。

      為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更為明顯易懂,以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的圖像傳感器進(jìn)行詳細(xì)描述。

      參考圖1中所示,本發(fā)明提供一種圖像傳感器,圖像傳感器包括陣列分布于半導(dǎo)體襯底10中的多個(gè)像素單元11以及連接于陣列分布的像素單元周圍的外圍電路,像素單元11用于感應(yīng)光信號(hào),并將光信號(hào)轉(zhuǎn)成電信號(hào),并通過外圍電路輸出。參考圖2所示,每個(gè)像素單元11包括復(fù)位晶體管rst、源跟隨晶體管sf、轉(zhuǎn)移晶體管tx及一光電二極管pd,其中,所述復(fù)位晶體管rst的源極連接選擇電壓sel,漏極連接源跟隨晶體管sf的柵極,柵極連接復(fù)位信號(hào),所述源跟隨晶體管sf的漏極連接工作電壓vdd,源極連接輸出信號(hào)線pxd,轉(zhuǎn)移晶體管tx的源極連接光電二極管pd,漏極連接源跟隨晶體管sf的柵極。

      本實(shí)施例中,所述半導(dǎo)體襯底10連接負(fù)電壓,所述半導(dǎo)體襯底10連接-2.0v~0v的負(fù)電壓,例如,半導(dǎo)體襯底10連接-1.0v的電壓。此外,本發(fā)明的圖像傳感器還包括噪聲濾除電路(圖中未示出),噪聲濾除電路連接至源跟隨晶體管sf的漏極,本實(shí)施例中,噪聲濾除電路可以為低壓差線性穩(wěn)壓電路,所述低壓差線性穩(wěn)壓電路提供所述工作電壓vdd至所述源跟隨晶體管sf的漏極。例如,所述源跟隨晶體管sf的漏極連接1.0v~2.0v的工作電壓。由于半導(dǎo)體襯底10連接負(fù)電壓,因此能夠提高源跟隨晶體管sf的閾值電壓,從而源跟隨晶體管sf的漏極電壓可以采用較小的電壓值。例如,當(dāng)半導(dǎo)體襯底接-1v的電壓時(shí),源跟隨晶體管sf漏極所需的工作電壓可以由-2.8v降低至-1.8v,即能夠降低半導(dǎo)體襯底連接的負(fù)電壓的值,從而降低由于電源信號(hào)中的引入的噪聲。

      同樣的,本發(fā)明的圖像傳感器中低壓差線性穩(wěn)壓電路的噪聲濾除電路還連接復(fù)位晶體管rst的源極,所述低壓差線性穩(wěn)壓電路提供選擇電壓至復(fù)位晶體管rst的源極,由于半導(dǎo)體襯底10連接負(fù)電壓,從而源跟隨晶體管sf的漏極電壓可以采用較小的電壓值。例如,所述復(fù)位晶體管rst的源極連接1.0v~2.0v的選擇電壓。

      進(jìn)一步的,本發(fā)明中還可以通過在源跟隨晶體管sf的溝道區(qū)區(qū)域設(shè)置埋溝道,用于提高源跟隨晶體管sf的閾值電壓。具體的,本實(shí)施例中的半導(dǎo)體襯底10為p型襯底,源跟隨晶體管設(shè)置于半導(dǎo)體襯底10中的n阱中,于所述源跟隨晶體管sf的溝道區(qū)靠近柵極氧化層內(nèi)表面設(shè)置第一n型摻雜區(qū)域,在源跟隨晶體管sf的溝道區(qū)區(qū)域設(shè)置埋溝道,提高源跟隨晶體管sf的閾值電壓,從而降低源跟隨晶體管所需的工作電壓,降低源跟隨晶體管電源電壓引入的電源噪聲。此外,本發(fā)明中設(shè)置埋溝道的方法并于限于設(shè)置該n型摻雜區(qū)域,在本發(fā)明的其他實(shí)施例中,依次于所述源跟隨晶體管sf的溝道區(qū)沿柵極氧化層向內(nèi)設(shè)置p型摻雜區(qū)域和第二n型摻雜區(qū)域,此亦在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

      綜上所述,本發(fā)明提供圖像傳感器中,包括陣列分布于半導(dǎo)體襯底中的多個(gè)像素單元,每個(gè)像素單元包括:復(fù)位晶體管,所述復(fù)位晶體管的源極連接選擇電壓;源跟隨晶體管,所述源跟隨晶體管的漏極連接工作電壓;所述半導(dǎo)體襯底連接負(fù)電壓,提高源跟隨晶體管的閾值電壓,降低源跟隨晶體管漏極所需的工作電壓,從而降低圖像傳感器的電源噪聲。

      此外,源跟隨晶體管的溝道采用埋溝道,進(jìn)一步提高源跟隨晶體管的閾值電壓,從而降低源跟隨晶體管漏極所需的工作電壓。

      本發(fā)明雖然已以較佳實(shí)施例公開如上,但其并不是用來限定本發(fā)明,任何本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),都可以利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出可能的變動(dòng)和修改,因此,凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容,依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾,均屬于本發(fā)明技術(shù)方案的保護(hù)范圍。

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