本發(fā)明涉及物理電源技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種太陽電池集成式雙結(jié)二極管的結(jié)構(gòu)設計及制造方法。
背景技術(shù):
太陽電池在空間工作中,由于衛(wèi)星運動造成的陰影或者電池單體失效等原因,很容易造成電池陣帆板熱斑效應,破壞太陽電池。為了防止熱斑效應的產(chǎn)生,在單體太陽電池的正負極間并聯(lián)一個旁路二極管,避開問題電池,起到分流作用。對于空間太陽電池陣,旁路二極管必不可少,十分關(guān)鍵。
常用的空間用旁路二極管分為分體式和集成式,分體式旁路二極管與電池主體分別設計與制造,工序繁瑣;集成式能夠大大簡化生產(chǎn)制作的器件工藝流程和后期的貼片工藝,因此,集成式電池的需求日益增大。
目前,集成式二極管均采用多結(jié)結(jié)構(gòu)設計,通過干法或濕法刻蝕隔離旁路二極管和電池主體,保留了太陽電池主體的多結(jié)gainp/gaas/ge結(jié)構(gòu)。由于旁路二極管具有開啟電壓高、串聯(lián)電阻大等原因,容易造成工作中發(fā)熱量大使得二極管失效等技術(shù)問題。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明要解決的問題是提供一種太陽電池集成式雙結(jié)二極管的設計及制造方法,尤其適合于降低開啟電壓,降低內(nèi)阻,降低成本的gaas結(jié)旁路二極管。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種太陽電池集成式雙結(jié)二極管的結(jié)構(gòu)設計,三結(jié)gaas太陽電池與集成二極管在同一晶片上,所述集成式二極管為雙結(jié)結(jié)構(gòu),從上到下依次設置有上電極金屬層、gaas子電池、ge子電池、ge襯底和下電極金屬層。
還包括一種太陽電池集成式雙結(jié)二極管的制造方法,其特征在于:該方法包括以下步驟,
1)通過第一次光刻腐蝕工藝,將隔離區(qū)和二極管區(qū)域腐蝕至隧穿結(jié)層;
2)通過第二次光刻腐蝕工藝,將隔離區(qū)腐蝕至襯底層;
3)光刻、蒸鍍主體電池以及二極管上電極;
4)蒸鍍下電極;
5)通過劃片工藝劃成所需要的電池尺寸;
6)電池上表面蒸鍍減反射膜。
進一步的,所述光刻腐蝕中的光刻方式的步驟為涂光刻膠1500-2500r/m,85-95℃下烘烤10-20min;再進行曝光,時間為15-25s;顯影采用naoh溶液,溶度為0.8-1.2%,時間為15-25s;堅膜溫度為120-130℃,時間為20-25min。
進一步的,所述第一次光刻腐蝕中的腐蝕液包括腐蝕液f1和腐蝕液f2,所述腐蝕液f1為hcl溶液,所述腐蝕液f2為h3po4、h2o2和h2o的混合液,所述第二次光刻腐蝕中的腐蝕液為腐蝕液f3和腐蝕液f4,所述腐蝕液f3為hcl、h2o2和h2o的混合液,所述腐蝕液f4為hf、h2o2和h2o的混合液。
進一步的,所述腐蝕液f2中h3po4、h2o2和h2o的體積比為1:2:7,所述腐蝕液f3中hcl、h2o2和h2o的體積比為6:2:1,所述腐蝕液f4為hf、h2o2和h2o的體積比為2:1:7。
進一步的,所述第一次光刻腐蝕的腐蝕方式為依次使用所述腐蝕液f2腐蝕18-23s,所述腐蝕液f1腐蝕55-65s;所述第二次光刻腐蝕的腐蝕方式為進一步的,所述光刻上電極的光刻方式的步驟為涂光刻膠800-1300r/m,85-95℃下烘烤10-20min;再進行曝光,時間為25-40s;顯影時間為45-60s。
進一步的,所述蒸鍍上電極為在低真空條件下依次蒸鍍au、ag和au的復合薄膜,所述復合薄膜的厚度為4.9-5.1μm。
進一步的,所述蒸鍍下電極為在低真空條件下依次蒸鍍au、ge、ag和au的復合薄膜,所述復合薄膜的厚度為4.9-5.1μm。
進一步的,所述電池上表面制成減反射膜為在高真空條件下依次蒸鍍?nèi)趸伜腿趸X的復合薄膜,所述三氧化二鈦膜的厚度為40nm-50nm;所述三氧化二鋁膜的厚度為70nm-80nm。
本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是:
1.降低開啟電壓
旁路二極管的功能之一是正向?qū)ㄐ?,只要當二極管加上的正向電壓大于開啟電壓時,二極管實現(xiàn)正向?qū)?。而開啟電壓的大小跟本身材料和pn結(jié)內(nèi)電場有關(guān),過往的集成式二極管是由ge結(jié)、gaas結(jié)、gainp結(jié)以及多種材料構(gòu)成,開啟電壓為2ⅴ~3ⅴ,大大增大了其開啟電壓,本發(fā)明的集成式二極管只采用ge結(jié)與gaas結(jié)雙結(jié)結(jié)構(gòu),其開啟電壓只有1.5ⅴ左右,有益于并聯(lián)電池在出現(xiàn)故障之時,及時導通旁路二極管,避免出現(xiàn)更大的電池傷害。
2.降低內(nèi)阻
旁路二級管在導通工作時,其發(fā)熱量是跟熱阻有很大的關(guān)系,熱阻越小,發(fā)熱量就越小,散熱效果也就越好,相應的工作溫度也就越低,即可避免或減小了因過熱導致的二極管失效的可能性。一般集成式旁路二極管主要由ge結(jié)、gaas結(jié)、gainp結(jié)等多結(jié)構(gòu)成,其熱阻是多種材料內(nèi)阻、結(jié)電阻、各結(jié)之間的面接觸電阻等多個串聯(lián)阻值之和;本發(fā)明的集成式旁路二極管由gaas結(jié)和ge結(jié)構(gòu)成,降低了其熱阻值,進而大大降低旁路二極管被熱擊穿的風險。
3.降低成本
本發(fā)明利用了主體電池外延結(jié)構(gòu),而不是通過增加外延工藝實現(xiàn)旁路二極管的構(gòu)造,本發(fā)明取得了降低開啟電壓、降低內(nèi)阻的有益效果,減少了外延的費用,大大降低了電池的使用成本。
附圖說明
圖1是本發(fā)明集成式旁路二極管與其它類剖面結(jié)構(gòu)差異圖
其中,圖1a為一般集成式二極管的剖面圖,圖1b為本發(fā)明集成式雙結(jié)式旁路二極管的剖面圖,101-ge襯底,102-ge子電池,103-gaas子電池,104-gainp子電池,105-上電極金屬層(au/ag/au),106-下電極金屬層(au/ge/ag/au)
圖2是本發(fā)明集成式旁路二極管太陽電池剖面結(jié)構(gòu)示意圖
其中,a-太陽電池,b-隔離槽,c-二極管,201-ge襯底(p),202-ge外延層(n+),203-第一隧道二極管,204-gaas子電池,205-第二隧道二極管,206-gainp子電池,207-gaas帽子層,208-上電極金屬層(auagau),209-減反射膜,210-下電極金屬層(augeagau)
圖3是本發(fā)明集成式旁路二極管太陽電池正面俯視圖
其中,3-a-旁路二極管區(qū),301-上電極金屬au/ag/au,302-雙結(jié)二極管,303-隔離槽
圖4是本發(fā)明集成式雙結(jié)旁路二極管太陽電池制造流程
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施例做詳細說明。
本發(fā)明對這種具有雙結(jié)結(jié)構(gòu)設計的集成式旁路二極管進行制作工藝說明。圖4是依據(jù)集成式雙結(jié)旁路二極管太陽電池制造流程順序并結(jié)合圖1、圖2與圖3進行工藝詳細說明。本發(fā)明只針對集成式雙結(jié)旁路二極管,與主體太陽電池有關(guān)的結(jié)構(gòu)設計、電極工藝、減反射膜工藝、劃片等工藝和一般工藝類似。
如圖1b所示,一種太陽電池集成式雙結(jié)二極管的結(jié)構(gòu)設計,集成式二極管為雙結(jié)結(jié)構(gòu),從上到下依次設置有上電極金屬層、gaas子電池、ge子電池、ge襯底和下電極金屬層,如圖1a所示,普通集成式二極管的結(jié)構(gòu)為多結(jié)結(jié)構(gòu),從上到下依次為上電極金屬層、gainp子電池、gaas子電池、ge子電池、電池主體和下電極金屬層。
如圖4所示,一種太陽電池集成式雙結(jié)二極管的制造方法,該方法包括以下步驟,
1)依據(jù)三結(jié)外延結(jié)構(gòu)在ge襯底201上依次生長ge子電池202、第一隧道二極管203、gaas子電池204、第二隧道二極管205、gainp子電池206、gaas帽子層207;
2)經(jīng)過第一次光刻腐蝕去除隔離環(huán)區(qū)域以及二極管pn結(jié)區(qū)域上的gainp結(jié)子電池206、gaas帽子層207的外延層,腐蝕至隧穿結(jié);
3)經(jīng)過第二次光刻腐蝕依次去除隔離環(huán)的gaas帽子層207、gainp子電池206、第二隧道二極管205、gaas子電池204、第一隧道二極管203、ge結(jié)子電池202,腐蝕至ge襯底201;
4)光刻、蒸鍍上電極;
5)蒸鍍下電極;
6)通過劃片工藝,將圓片劃成所需要的電池尺寸;
7)電池上表面制成減反射膜;
依據(jù)三結(jié)外延結(jié)構(gòu)依次生長ge子電池102、gaas子電池103、gainp子電池104。利用了主體電池外延結(jié)構(gòu),而不是通過增加外延工藝實現(xiàn)旁路二極管的構(gòu)造,通過將多結(jié)結(jié)構(gòu)變?yōu)殡p結(jié)結(jié)構(gòu),實現(xiàn)了開啟電壓降低、內(nèi)阻降低的有益效果,減少了外延的費用,大大降低了電池的使用成本。
通過第一次光刻圖形,濕法腐蝕去除隔離環(huán)區(qū)域以及二極管pn結(jié)區(qū)域上的gainp結(jié)子電池206、gaas帽子層207的外延層,腐蝕至隧穿結(jié)205,此步驟即可完成集成式旁路二極管保留雙結(jié)結(jié)構(gòu)的目的。第一次光刻腐蝕工藝,應準備帶有二極管c區(qū)域圖形的光刻版,腐蝕液f1和腐蝕液f2,腐蝕液f1為hcl溶液,腐蝕液f2為h3po4、h2o2和h2o的混合液,它們的體積比為1:2:7。第一次光刻方式的步驟為涂光刻膠1500-2500r/m,85-95℃下烘烤10-20min;再進行曝光,時間為15-25s;顯影采用naoh溶液,溶度為0.8-1.2%,時間為15-60s。堅膜溫度為120-130℃,時間為20-25min。第一次光刻腐蝕的腐蝕方式為依次使用腐蝕液f2腐蝕18-23s,腐蝕液f1腐蝕55-65s;最后去膠處理。
通過第二次光刻圖形,采用濕法腐蝕依次去除隔離環(huán)c區(qū)域的gaas帽子層207、gainp子電池206、第二隧道二極管205、gaas子電池204、第一隧道二極管203、ge結(jié)子電池202,腐蝕至ge襯底201,見圖,此步驟即可完成集成式旁路二極管與主體電池分離的任務。第二次光刻腐蝕工藝,應準備帶有隔離環(huán)b區(qū)域圖形的光刻版,腐蝕液f3和腐蝕液f4,腐蝕液f3為hcl、h2o2和h2o的混合液,它們的體積比為6:2:1,腐蝕液f4為hf、h2o2和h2o的的混合液,它們的體積比為2:1:7。第二次光刻方式的步驟為涂光刻膠1500-2500r/m,85-95℃下烘烤10-20min;再進行曝光,時間為15-25s;顯影采用naoh溶液,溶度為0.8-1.2%,時間為15-25s。堅膜溫度為120-130℃,時間為20-25min。第二次光刻腐蝕的腐蝕方式為依次使用使用腐蝕液f3腐蝕25-30s,腐蝕液f4腐蝕30-35s。最后去膠處理。
通過光刻,為下一步蒸鍍電極做圖形準備。
準備帶有主體上電極圖形、集成二極管上電極301圖形的光刻版:涂光刻膠800-1300r/m,85-95℃下烘烤10-20min;再進行曝光,時間為25-40s;顯影時間為15-60s。
蒸鍍上電極為在低真空條件下依次蒸鍍au、ag和au的復合薄膜,復合薄膜的厚度為4.9-5.1μm。
蒸鍍下電極為在低真空條件下依次蒸鍍au、ge、ag和au的復合薄膜,復合薄膜的厚度為4.9-5.1μm。
如圖3所示,采用劃片機,依據(jù)電池的尺寸設置好程序,從操作屏幕上校準所劃電池的定位位置,校準完畢后,按start鍵,劃片機自動進行劃片。通過劃片工藝,將圓片劃成所需要的電池尺寸。
電池上表面制成減反射膜為在高真空條件下依次蒸鍍?nèi)趸伜腿趸X的復合薄膜,三氧化二鈦膜的厚度為40nm-50nm;三氧化二鋁膜的厚度為70nm-80nm。
本發(fā)明具有的優(yōu)點和積極效果是:
1.降低開啟電壓
旁路二極管的功能之一是正向?qū)ㄐ?,只要當二極管加上的正向電壓大于開啟電壓時,二極管實現(xiàn)正向?qū)?。而開啟電壓的大小跟本身材料和pn結(jié)內(nèi)電場有關(guān),過往的集成式二極管是由ge結(jié)、gaas結(jié)、gainp結(jié)以及多種材料構(gòu)成,開啟電壓為2ⅴ~3ⅴ,大大增大了其開啟電壓,本發(fā)明的集成式二極管只采用ge結(jié)與gaas結(jié)雙結(jié)結(jié)構(gòu),其開啟電壓只有1.5ⅴ左右,有益于并聯(lián)電池在出現(xiàn)故障之時,及時導通旁路二極管,避免出現(xiàn)更大的電池傷害。
2.降低內(nèi)阻
旁路二級管在導通工作時,其發(fā)熱量是跟熱阻有很大的關(guān)系,熱阻越小,發(fā)熱量就越小,散熱效果也就越好,相應的工作溫度也就越低,即可避免或減小了因過熱導致的二極管失效的可能性。一般集成式旁路二極管主要由ge結(jié)、gaas結(jié)、gainp結(jié)等多結(jié)構(gòu)成,其熱阻是多種材料內(nèi)阻、結(jié)電阻、各結(jié)之間的面接觸電阻等多個串聯(lián)阻值之和;本發(fā)明的集成式旁路二極管由gaas結(jié)和ge結(jié)構(gòu)成,降低了其熱阻值,進而大大降低旁路二極管被熱擊穿的風險。
3.降低成本
本發(fā)明利用了主體電池外延結(jié)構(gòu),而不是通過增加外延工藝實現(xiàn)旁路二極管的構(gòu)造,本發(fā)明取得了降低開啟電壓、降低內(nèi)阻的有益效果,減少了外延的費用,大大降低了電池的使用成本。
以上對本發(fā)明的實施例進行了詳細說明,但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例,不能被認為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進等,均應仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。