一種efd型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，包括偏心毛坯結(jié)構(gòu)，偏心毛坯結(jié)構(gòu)包括芯柱、邊腿和底座，芯柱設(shè)于底座中心一側(cè)，邊腿設(shè)于底座兩端，底座底部的邊腿部分位置分別設(shè)有凹槽Ⅰ和凹槽Ⅱ，底座底部上設(shè)有凹槽Ⅲ和凹槽Ⅳ。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn)：可以有效的解決EFD型磁芯的變形問(wèn)題，大幅度的提高了EFD型磁芯的成品合格率。
【專利說(shuō)明】
一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及一種Ero型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，屬于電子產(chǎn)品技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]Ero型磁芯具有較低的結(jié)構(gòu)高度和較高的功率傳輸密度，是目前平面型電子變壓器較多選用的磁芯，由于其偏心結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)，極其容易變形(變形的情況如圖1所示，在主視圖中a與a’的差值可達(dá)0.5mm以上，還會(huì)出現(xiàn)如圖2中虛線所示的彎曲變形和圖3中虛線所示的芯柱變形等)，影響磁芯的質(zhì)量和客戶的裝配使用，所以制造工藝難度較大，利用常規(guī)的磁芯制造工藝設(shè)計(jì)無(wú)法解決其各種變形的狀態(tài)，需要從毛坯的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上加以研究解決。
[0003]Ero型毛坯的常規(guī)設(shè)計(jì)如下圖4-9所示，其中常規(guī)1(圖4-6)的設(shè)計(jì)方法為最基本的設(shè)計(jì)，毛坯的底部為平整設(shè)計(jì)(見(jiàn)圖5，該種設(shè)計(jì)對(duì)于EFD型毛坯成型時(shí)的各部分的密度控制的要求很高，而在實(shí)際操作中很難將其控制好，磁芯的成品合格率很低。常規(guī)2(圖7-9)的設(shè)計(jì)是在毛坯底部加一凹槽，具體位置如常規(guī)2中的圖8所示為:遠(yuǎn)離芯柱一側(cè)中心位置，長(zhǎng)度為芯柱長(zhǎng)度(即C尺寸=A尺寸)，寬度為磁芯寬度減去芯柱寬度(S卩D尺寸=B尺寸一B’尺寸)，深度F為0.1mm左右。對(duì)于圖2中的所示的芯柱變形現(xiàn)象有所改善，但無(wú)法改善a與a’的差值達(dá)0.5mm以上及彎曲變形的現(xiàn)象。
[0004]因此，應(yīng)該提供一種新的技術(shù)方案解決上述問(wèn)題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型提供一種Ero型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)。
[0006]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:
[0007]—種Ero型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，包括偏心毛坯結(jié)構(gòu)，偏心毛坯結(jié)構(gòu)包括芯柱、邊腿和底座，芯柱設(shè)于底座中心一側(cè)，邊腿設(shè)于底座兩端，底座底部的邊腿部分位置分別設(shè)有凹槽I和凹槽π，底座底部上設(shè)有凹槽m和凹槽IV。
[0008]上述技術(shù)方案的有關(guān)內(nèi)容解釋如下:
[0009]上述技術(shù)方案中，凹槽m和凹槽IV連接形成τ形狀。
[0010]進(jìn)一步的技術(shù)方案，凹槽I和凹槽Π的長(zhǎng)度F等于邊腿寬度E，凹槽I和凹槽Π的寬度等于偏心毛坯結(jié)構(gòu)的寬度B，凹槽I和凹槽Π的深度G為0.03-0.06mm。
[0011]優(yōu)選的，凹槽m的長(zhǎng)度c與芯柱長(zhǎng)度A相等，凹槽m的寬度D為偏心毛坯結(jié)構(gòu)寬度B減去芯柱寬度B’，凹槽m的深度I為0.08-0.12mm。
[0012]優(yōu)選的，凹槽IV的長(zhǎng)度H為芯柱長(zhǎng)度A的一半，凹槽IV的寬度L尺寸為芯柱的寬度B’，凹槽IV的深度為0.17-0.22mm。
[0013]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0014]可以有效的解決EFD型磁芯的變形問(wèn)題，大幅度的提高了 EFD型磁芯的成品合格率。
【附圖說(shuō)明】

[0015]附圖1為現(xiàn)有技術(shù)的示意圖。
[0016]附圖2為圖1的仰視圖。
[0017]附圖3為圖1的俯視圖。
[0018]附圖4為現(xiàn)有技術(shù)常規(guī)I的示意圖。
[0019]附圖5為圖4的仰視圖。
[0020]附圖6為圖4的俯視圖。
[0021 ]附圖7為現(xiàn)有技術(shù)常規(guī)2的示意圖。
[0022]附圖8為圖7的仰視圖。
[0023]附圖9為圖7的俯視圖。
[0024]附圖10為本實(shí)用新型示意圖。
[0025]附圖11為圖10的仰視圖。
[0026]附圖12為圖10的俯視圖。
[0027]以上附圖中:1、芯柱;2、邊腿;3、底座;4、凹槽1;5、凹槽Π ;6、凹槽ΙΠ ;7、凹槽IV。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
[0029]實(shí)施例一:
[0030]如圖1-12所示，本實(shí)用新型的一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，包括偏心毛坯結(jié)構(gòu)，偏心毛坯結(jié)構(gòu)包括芯柱1、邊腿2和底座3，芯柱I設(shè)于底座3中心一側(cè)，邊腿2設(shè)于底座3兩端，底座3底部的邊腿2部分位置分別設(shè)有凹槽14和凹槽Π 5，底座3底部上設(shè)有凹槽ΙΠ6和凹槽IV7，凹槽ΙΠ6和凹槽IV7連接形成T形狀，凹槽14和凹槽Π 5的長(zhǎng)度F等于邊腿2寬度E，凹槽14和凹槽Π 5的寬度等于偏心毛坯結(jié)構(gòu)的寬度B，凹槽14和凹槽Π 5的深度G為0.03-0.06mm，凹槽ΙΠ6的長(zhǎng)度C與芯柱I長(zhǎng)度A相等，凹槽ΙΠ6的寬度D為偏心毛坯結(jié)構(gòu)寬度B減去芯柱I寬度B’，凹槽ΙΠ6的深度I為0.08-0.12mm，凹槽IV7的長(zhǎng)度H為芯柱I長(zhǎng)度A的一半，凹槽IV7的寬度L尺寸為芯柱I的寬度B’，凹槽IV7的深度為0.17-0.22mm，可以有效的解決EFD型磁芯的變形問(wèn)題，大幅度的提高了 EFD型磁芯的成品合格率。
[0031]上述實(shí)施例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，包括偏心毛坯結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述偏心毛坯結(jié)構(gòu)包括芯柱、邊腿和底座，所述芯柱設(shè)于底座中心一側(cè)，所述邊腿設(shè)于底座兩端，所述底座底部的邊腿部分位置分別設(shè)有凹槽I和凹槽π，所述底座底部上設(shè)有凹槽m和凹槽IV。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述凹槽ΙΠ和凹槽IV連接形成T形狀。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種Ero型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述凹槽I和凹槽Π的長(zhǎng)度F等于邊腿寬度E，所述凹槽I和凹槽Π的寬度等于偏心毛坯結(jié)構(gòu)的寬度B，所述凹槽I和凹槽Π的深度G為0.03-0.06mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述凹槽ΙΠ的長(zhǎng)度C與芯柱長(zhǎng)度A相等，所述凹槽III的寬度D為偏心毛坯結(jié)構(gòu)寬度B減去芯柱寬度B’，所述凹槽ΙΠ的深度I為0.08-0.12mm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種EFD型磁芯偏心毛坯結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述凹槽IV的長(zhǎng)度H為芯柱長(zhǎng)度A的一半，所述凹槽IV的寬度L尺寸為芯柱的寬度B’，所述凹槽IV的深度為.0.17-0.22mm。
【文檔編號(hào)】H01F41/02GK205723142SQ201620581106
【公開(kāi)日】2016年11月23日
【申請(qǐng)日】2016年6月13日
【發(fā)明人】顏茂山, 李前軍, 陳維兆, 袁翔, 邰阿強(qiáng), 王曉彬, 蔣柏平, 劉廣澤
【申請(qǐng)人】泰州茂翔電子器材有限公司