本實(shí)用新型是有關(guān)于一種吸附裝置，特別是有關(guān)于一種可透過吸嘴來調(diào)整面板工件于作業(yè)時(shí)所產(chǎn)生的翹曲面，使面板工件可平整貼附在平臺(tái)上，以利制程加工或進(jìn)行數(shù)據(jù)量測(cè)的吸附裝置。

背景技術(shù)：

晶圓（Wafer）是指硅半導(dǎo)體積體電路制作所用的硅晶片，并于其上制作積體電路（integrated circuit, IC），而積體電路的制作過程需要經(jīng)過數(shù)十甚至上百個(gè)步驟，如微影、蝕刻、化學(xué)沉積等等，而在進(jìn)行這些制程時(shí)，通常會(huì)將晶圓置于處理設(shè)備之中，與外界做一個(gè)隔絕，以提高制程的成功率，并防止制程中所產(chǎn)生的有害物質(zhì)外露。

以目前習(xí)知技術(shù)來說，晶圓在處理設(shè)備中以待制程處理時(shí)，將晶圓放置在設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)槽孔的平臺(tái)之上，并透過該些槽孔所產(chǎn)生的吸力來吸附固定晶圓，或者晶圓利用真空吸盤貼附于平臺(tái)，讓晶圓得以進(jìn)行加工處理的工序或進(jìn)行晶圓量測(cè)，然而，有些制程處理后的晶圓表面翹曲甚至嚴(yán)重扭曲，將它放置在平臺(tái)上并無法與該些槽孔緊密貼合，使得槽孔產(chǎn)生吸力無法將晶圓平整貼附于平臺(tái)上，如此一來將產(chǎn)生以下缺點(diǎn)：1、當(dāng)進(jìn)行量測(cè)作業(yè)時(shí)容易造成數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確。2、若要進(jìn)行加工作業(yè)時(shí)容易造成晶圓損壞。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題即在提供一種可透過吸嘴來調(diào)整面板工件于作業(yè)時(shí)所產(chǎn)生的翹曲面，使面板工件可平整貼附在平臺(tái)上，以利制程加工或數(shù)據(jù)量測(cè)的吸附裝置。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)手段如下所述。

提出一種吸附裝置，其包含：一平臺(tái)，其頂面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿至底面的槽孔；復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴，穿設(shè)于平臺(tái)的槽孔，且支撐吸嘴可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)縱向移動(dòng)以高于或低于平臺(tái)的頂面，復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴提供支撐一面板工件；復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴，穿設(shè)于平臺(tái)的槽孔，第一調(diào)整吸嘴可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)縱向移動(dòng)，以吸附并調(diào)整該面板工件；一抽真空模組，連結(jié)該復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴，抽真空模組經(jīng)控制執(zhí)行抽真空作業(yè)，以致復(fù)數(shù)個(gè)槽孔產(chǎn)生真空吸力； 一第一驅(qū)動(dòng)件，連接復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴，以驅(qū)動(dòng)支撐吸嘴進(jìn)行升降。

較佳地，當(dāng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴上升高于平臺(tái)的頂面以支撐面板工件后，第一驅(qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴下降以移動(dòng)面板工件至復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴的位置，并透過復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴吸附面板工件，以控制調(diào)整面板工件呈平坦?fàn)?，且第一?qū)動(dòng)件驅(qū)動(dòng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴下降，以致復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴低于平臺(tái)的頂面，而復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴接近于平臺(tái)的頂面。

較佳地，此吸附裝置更包含：一升降件，設(shè)置于平臺(tái)的一側(cè)；一連接件，連接升降件，且連接件透過升降件可活動(dòng)性地進(jìn)行升降位移；復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱，設(shè)置于連接件上；一壓環(huán)，可活動(dòng)性地受復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱吸附固定；復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴，設(shè)置于平臺(tái)的頂面，且復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴相對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴較靠近于平臺(tái)的周緣，第二調(diào)整吸嘴可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)縱向移動(dòng)，用以吸附壓環(huán)。其中，當(dāng)復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴吸附面板工件并下降接近于平臺(tái)的頂面時(shí)，連接件下降以將壓環(huán)移動(dòng)至復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴的位置，以透過復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴吸附壓環(huán)，而第二調(diào)整吸嘴下降至接近于平臺(tái)的頂面，進(jìn)而透過壓環(huán)壓制面板工件的周緣。

較佳地，此吸附裝置更包含復(fù)數(shù)個(gè)定位柱，設(shè)置于連接件上，且壓環(huán)更設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)穿孔，各穿孔分別提供各定位柱對(duì)應(yīng)穿入。

較佳地，此吸附裝置更包含一電控件，連接抽真空模組、第一驅(qū)動(dòng)件，電控件傳送控制命令至抽真空模組、第一驅(qū)動(dòng)件，以致分別執(zhí)行其對(duì)應(yīng)的功能作業(yè)。

較佳地，復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴及復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴分別可呈環(huán)狀排列設(shè)置，以分別形成有至少一環(huán)列。

較佳地，第一調(diào)整吸嘴及第二調(diào)整吸嘴可為可撓性材料所制，以致第一調(diào)整吸嘴及第二調(diào)整吸嘴分別可活動(dòng)性地調(diào)整吸附面的方向。

較佳地，第一調(diào)整吸嘴及第二調(diào)整吸嘴舉例來說可為硅膠管。

較佳地，壓環(huán)舉例來說可由金屬材料所制。

較佳地，平臺(tái)設(shè)有至少一開槽，而該開槽可為至少一連續(xù)的環(huán)槽，或該開槽可為至少一不連續(xù)的環(huán)槽。

另一種吸附裝置，包含：一平臺(tái)，其頂面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿至底面的槽孔；復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴，穿設(shè)于該平臺(tái)的槽孔，且該支撐吸嘴可活動(dòng)性地相對(duì)該平臺(tái)縱向移動(dòng)以高于或低于該平臺(tái)的頂面，該復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴提供支撐一面板工件；至少一開槽，設(shè)于該平臺(tái)，而該開槽貫穿該平臺(tái)；一升降件，設(shè)置于該平臺(tái)的一側(cè)； 一連接件，連接該升降件，且該連接件透過該升降件可活動(dòng)性地進(jìn)行升降位移；復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱，設(shè)置于該連接件上；一壓環(huán)，其可活動(dòng)性地受該復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱吸附固定；復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴，設(shè)置于該平臺(tái)的槽孔；一抽真空模組，連結(jié)該復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴，該抽真空模組經(jīng)控制執(zhí)行抽真空作業(yè)，以致該復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴產(chǎn)生真空吸力；一第一驅(qū)動(dòng)件，連接該復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴，以驅(qū)動(dòng)該支撐吸嘴進(jìn)行升降。

本實(shí)用新型所產(chǎn)生的技術(shù)效果：可透過吸嘴來調(diào)整面板工件于作業(yè)時(shí)所產(chǎn)生的翹曲面，使面板工件可平整貼附在平臺(tái)上，以利制程加工或數(shù)據(jù)量測(cè)。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型的吸附裝置的示意圖。

圖2為本實(shí)用新型的吸附裝置于作動(dòng)時(shí)的第一示意圖。

圖3為本實(shí)用新型的吸附裝置于作動(dòng)時(shí)的第二示意圖。

圖4a為本實(shí)用新型的吸附裝置于作動(dòng)時(shí)的第三示意圖。

圖4b為圖4a的局部放大示意圖。

圖5a為本實(shí)用新型的吸附裝置于作動(dòng)時(shí)的第四示意圖。

圖5b為圖5a的局部放大示意圖。

圖6a為本實(shí)用新型的吸附裝置于作動(dòng)時(shí)的第五示意圖。

圖6b為圖6a的局部放大示意圖。

圖6c為本實(shí)用新型的局部立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7a為本實(shí)用新型的吸附裝置于作動(dòng)時(shí)的第六示意圖。

圖7b為圖7a的局部放大示意圖。

圖8a為本實(shí)用新型的吸附裝置第二實(shí)施例于作動(dòng)時(shí)的第一示意圖。

圖8b為本實(shí)用新型的吸附裝置第二實(shí)施例于作動(dòng)時(shí)的第二示意圖。

圖8c為本實(shí)用新型的吸附裝置第二實(shí)施例于作動(dòng)時(shí)的第三示意圖。

圖8d為本實(shí)用新型的吸附裝置第二實(shí)施例于作動(dòng)時(shí)的第四示意圖。

圖號(hào)說明：

1 平臺(tái)

11 槽孔

12 開槽

200面板工件

2 支撐吸嘴

3 第一調(diào)整吸嘴

4 抽真空模組

5 第一驅(qū)動(dòng)件

7 升降件

8 連接件

9 磁性柱

10 壓環(huán)

101 穿孔

20 第二調(diào)整吸嘴

40 定位柱

50 電控件。

具體實(shí)施方式

請(qǐng)參閱圖1，其為本實(shí)用新型的吸附裝置的示意圖。本實(shí)用新型的吸附裝置可透過吸嘴來吸附固定面板工件，并透過吸嘴來調(diào)整面板工件的翹曲面使其得以呈平坦化的方式放置在平臺(tái)之上，該面板工件為呈薄平的片體，可為晶圓或玻璃面板，當(dāng)然不限于此。本實(shí)用新型第一實(shí)施例，此吸附裝置主要包含一平臺(tái)1、復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2、復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3、一抽真空模組4及一第一驅(qū)動(dòng)件5。平臺(tái)1的頂面設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿至底面的槽孔11，而抽真空模組4設(shè)置于平臺(tái)1的底面下方并對(duì)應(yīng)該些槽孔11，當(dāng)抽真空模組4經(jīng)控制以執(zhí)行抽真空作業(yè)時(shí)，可使得復(fù)數(shù)個(gè)槽孔11產(chǎn)生真空吸力，進(jìn)而可透過該真空吸力來吸附面板工件。復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2設(shè)置于平臺(tái)1，且該些支撐吸嘴2經(jīng)由第一驅(qū)動(dòng)件5的驅(qū)動(dòng)可進(jìn)行升降，以可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)1縱向移動(dòng)以高于或低于平臺(tái)1的頂面，進(jìn)而可透過復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2來支撐面板工件。復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3設(shè)置于平臺(tái)1的頂面，第一調(diào)整吸嘴3可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)1縱向移動(dòng)，可吸附面板工件，較佳地，該些第一調(diào)整吸嘴3呈環(huán)狀排列設(shè)置，以分別形成有至少一環(huán)列，且一個(gè)第一調(diào)整吸嘴3可對(duì)應(yīng)設(shè)置在平臺(tái)1的一個(gè)槽孔11中，但不以此為限。

進(jìn)一步，如圖6c所示，該平臺(tái)1設(shè)有至少一開槽12，而該開槽12可為至少一連續(xù)的環(huán)槽，或該開槽12可為至少一不連續(xù)的環(huán)槽，而抽真空模組4設(shè)置于對(duì)應(yīng)該開槽12。當(dāng)抽真空模組4經(jīng)控制以執(zhí)行時(shí)，可使得復(fù)數(shù)個(gè)開槽12產(chǎn)生真空吸力，進(jìn)而可透過該真空吸力來吸附面板工件。

更進(jìn)一步地，此吸附裝置還可包含有一升降件7、一連接件8、復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱9、一壓環(huán)10、復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20及一電控件50。升降件7設(shè)置于平臺(tái)1的一側(cè)，連接件8連接升降件7，且連接件8透過升降件7可活動(dòng)性地進(jìn)行升降位移。復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱9設(shè)置于連接件8上，該些磁性柱9可用以活動(dòng)性地吸附固定壓環(huán)10。復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20設(shè)置于平臺(tái)1的頂面，且復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20相對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3較靠近于平臺(tái)1的周緣，較佳地，該些第二調(diào)整吸嘴20呈環(huán)狀排列設(shè)置，以分別形成有至少一環(huán)列，且一個(gè)第二調(diào)整吸嘴20可對(duì)應(yīng)設(shè)置在平臺(tái)1的一個(gè)槽孔11中，但不以此為限；第二調(diào)整吸嘴20可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)1縱向移動(dòng)，進(jìn)而可透過該些第二調(diào)整吸嘴20來吸附壓環(huán)10，并透過壓環(huán)10來壓制面板工件的周緣。電控件50連接抽真空模組4、第一驅(qū)動(dòng)件5，電控件50傳送控制命令至抽真空模組4、第一驅(qū)動(dòng)件5，以致執(zhí)行其對(duì)應(yīng)的功能作業(yè)?；蛘?，再進(jìn)一步地，此吸附裝置還可更包含復(fù)數(shù)個(gè)定位柱40，設(shè)置于連接件8上，且壓環(huán)10更設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)穿孔101，各穿孔101分別提供各定位柱40對(duì)應(yīng)穿入，以便壓環(huán)10可透過該些穿孔101與該些定位柱40來進(jìn)行快速定位以吸附至磁性柱9上。

在上述中，第一調(diào)整吸嘴3及第二調(diào)整吸嘴20可為可撓性材料所制，舉例來說，第一調(diào)整吸嘴3及第二調(diào)整吸嘴20可為硅膠管，以致第一調(diào)整吸嘴3及第二調(diào)整吸嘴20分別可活動(dòng)性地調(diào)整吸附面的方向，藉此來達(dá)到面板工件曲面調(diào)整的目的，以及藉由第一調(diào)整吸嘴3為可撓性的硅膠管，當(dāng)該些第一調(diào)整吸嘴3透過抽真空作業(yè)時(shí)，第一調(diào)整吸嘴3實(shí)時(shí)收縮而下降，以可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)1縱向移動(dòng)，進(jìn)而可透過該第一調(diào)整吸嘴3吸附并調(diào)整面板工件，以使面板工件可呈平坦的狀態(tài)。另外，壓環(huán)10舉例來說可由金屬材料所制，但不以此為限。

第一實(shí)施例據(jù)以實(shí)際實(shí)施時(shí)，此吸附裝置在作動(dòng)以進(jìn)行面板工件200吸附及曲面調(diào)整時(shí)，抽真空模組4啟動(dòng)以使平臺(tái)1的槽孔11產(chǎn)生真空吸力，并可先經(jīng)由第一驅(qū)動(dòng)件5來驅(qū)動(dòng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2上升以高于平臺(tái)1的頂面，進(jìn)而透過該些支撐吸嘴2來支撐面板工件200，如圖2及圖3所示。接著，當(dāng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2支撐面板工件200后，第一驅(qū)動(dòng)件5驅(qū)動(dòng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2下降以移動(dòng)面板工件200至復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3的位置，以透過復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3來吸附面板工件200，如圖4a及圖4b所示，其中，在第一驅(qū)動(dòng)件5的驅(qū)動(dòng)下該些支撐吸嘴2可持續(xù)性地下降。由于支撐吸嘴2在支撐面板工件200并下降的過程中，該些第一調(diào)整吸嘴3藉由可撓性的硅膠管結(jié)構(gòu)及真空吸力，該些第一調(diào)整吸嘴3可變更吸附面的方向來配合面板工件200的翹曲以吸附住，以使面板工件200得以呈平坦?fàn)?，接續(xù)，復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2持續(xù)下降，同時(shí)復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3以收縮下降，以致復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2低于平臺(tái)1的頂面，而復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3接近于平臺(tái)1的頂面，讓面板工件200得以平整貼附在平臺(tái)1之上，如圖5a及圖5b所示，再者，并藉由抽真空作業(yè)的同時(shí)，使開槽12產(chǎn)生真空吸力，有助于克服呈不規(guī)則翹曲的面板工件200而能達(dá)到更平整貼附在平臺(tái)1的效益。

此外，面板工件200若為呈現(xiàn)嚴(yán)重扭曲者，透過上述結(jié)構(gòu)及步驟使面板工件200貼附于平臺(tái)1上，但面板工件200仍有部分周緣翹曲，可再藉由壓環(huán)10以壓制面板工件200周緣，使面板工件200整個(gè)面得以完全平貼于平臺(tái)1。據(jù)以，當(dāng)復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3吸附面板工件200并下降接近于平臺(tái)1的頂面時(shí)，連接件8下降以將壓環(huán)10移動(dòng)至復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20的位置，以透過復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20吸附壓環(huán)10，并且，復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20下降至接近于平臺(tái)1的頂面，進(jìn)而可利用壓環(huán)10來壓制面板工件200的周緣，以使面板工件200可達(dá)到更佳的平整化，如圖6a至圖6c所示。最后，連接件8上升以滯留壓環(huán)10于面板工件200上，以完成吸附裝置的整體作動(dòng)，如圖7a及圖7b所示，其中，抽真空模組4可在整體作動(dòng)結(jié)束后或是面板工件200經(jīng)第一調(diào)整吸嘴3調(diào)整后停止運(yùn)作，不予限制。

進(jìn)一步，該些支撐吸嘴2可連結(jié)抽真空模組4，啟動(dòng)抽真空作業(yè)使該些支撐吸嘴2具有吸力，當(dāng)面板工件200受移動(dòng)于接觸該些支撐吸嘴2時(shí)，即啟動(dòng)抽真空作業(yè)，該些支撐吸嘴2能實(shí)時(shí)支撐并吸附該面板工件200，尤其適用面板工件200為大尺寸徑面，或?yàn)檩^重的重量，可防止面板工件200滑動(dòng)移位而滑落受損壞。

本實(shí)用新型第二實(shí)施例如圖8a至圖8d所示，此吸附裝置主要包含一平臺(tái)1、復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2、至少一開槽12、一升降件7、一連接件8、復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱9、一壓環(huán)10及數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20、抽真空模組4及一第一驅(qū)動(dòng)件5。復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2設(shè)置于平臺(tái)1，且該些支撐吸嘴2經(jīng)由第一驅(qū)動(dòng)件5的驅(qū)動(dòng)可進(jìn)行升降，以可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)1縱向移動(dòng)以高于或低于平臺(tái)1的頂面，進(jìn)而可透過復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2來支撐面板工件，該平臺(tái)1設(shè)有至少一開槽12，而該開槽12可為至少一連續(xù)的環(huán)槽，或該開槽12可為至少一不連續(xù)的環(huán)槽，而抽真空模組4設(shè)置于對(duì)應(yīng)該開槽12。當(dāng)抽真空模組4經(jīng)控制以執(zhí)行時(shí)，可使得復(fù)數(shù)個(gè)開槽12產(chǎn)生真空吸力，進(jìn)而可透過該真空吸力來吸附面板工件。

進(jìn)一步，升降件7設(shè)置于平臺(tái)1的一側(cè)，連接件8連接升降件7，且連接件8透過升降件7可活動(dòng)性地進(jìn)行升降位移。復(fù)數(shù)個(gè)磁性柱9設(shè)置于連接件8上，該些磁性柱9可用以活動(dòng)性地吸附固定壓環(huán)10。復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20設(shè)置于平臺(tái)1的頂面，且復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20相對(duì)復(fù)數(shù)個(gè)第一調(diào)整吸嘴3較靠近于平臺(tái)1的周緣，較佳地，該些第二調(diào)整吸嘴20呈環(huán)狀排列設(shè)置，以分別形成有至少一環(huán)列，且一個(gè)第二調(diào)整吸嘴20可對(duì)應(yīng)設(shè)置在平臺(tái)1的一個(gè)槽孔11中，但不以此為限；第二調(diào)整吸嘴20可活動(dòng)性地相對(duì)平臺(tái)1縱向移動(dòng)，進(jìn)而可透過該些第二調(diào)整吸嘴20來吸附壓環(huán)10，并透過壓環(huán)10來壓制面板工件的周緣。

而且，壓環(huán)10更設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)穿孔101，各穿孔101分別提供各定位柱40對(duì)應(yīng)穿入，以便壓環(huán)10可透過該些穿孔101與該些定位柱40來進(jìn)行快速定位以吸附至磁性柱9上。

第二實(shí)施例據(jù)以實(shí)際實(shí)施時(shí)，此吸附裝置在作動(dòng)以進(jìn)行面板工件吸附及曲面調(diào)整時(shí)，抽真空模組4啟動(dòng)以使平臺(tái)1的開槽12產(chǎn)生真空吸力，并可先經(jīng)由第一驅(qū)動(dòng)件5來驅(qū)動(dòng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2上升以高于平臺(tái)1的頂面，進(jìn)而透過該些支撐吸嘴2來支撐面板工件200。接著，第一驅(qū)動(dòng)件5驅(qū)動(dòng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2下降以移動(dòng)面板工件200至該開槽12的位置，以透過該開槽12來吸附面板工件200，其中，在第一驅(qū)動(dòng)件5的驅(qū)動(dòng)下該些支撐吸嘴2可持續(xù)性地下降低于平臺(tái)1的頂面。

此外，面板工件200若為呈現(xiàn)嚴(yán)重扭曲者，透過上述結(jié)構(gòu)及步驟使面板工件200貼附于平臺(tái)1上，但面板工件200仍有部分周緣翹曲，可再藉由壓環(huán)10以壓制面板工件200周緣，使面板工件200整個(gè)面得以完全平貼于平臺(tái)1。據(jù)以，當(dāng)復(fù)數(shù)個(gè)支撐吸嘴2支撐面板工件200并下降接近于平臺(tái)1的頂面時(shí)，連接件8下降以將壓環(huán)10移動(dòng)至復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20的位置，以透過復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20吸附壓環(huán)10，并且，復(fù)數(shù)個(gè)第二調(diào)整吸嘴20收縮下降至接近于平臺(tái)1的頂面，進(jìn)而可利用壓環(huán)10來壓制面板工件200的周緣，以使面板工件200可達(dá)到更佳的平整化。最后，連接件8上升以滯留壓環(huán)10于面板工件200上，以完成吸附裝置的整體作動(dòng)。

綜上所述，本實(shí)用新型的吸附裝置透過平臺(tái)上所設(shè)置的支撐吸嘴與調(diào)整吸嘴可克服面板工件被抽真空吸附時(shí)所造成的翹曲或扭曲，使得面板工件可平整貼附在平臺(tái)。另外還可進(jìn)一步利用壓環(huán)來壓制面板工件，使面板工件于平臺(tái)上可獲得更佳平整化的效果，以利對(duì)面板工件進(jìn)行制程加工或是進(jìn)行數(shù)據(jù)量測(cè)。當(dāng)然，該平臺(tái)可為圓形，或?yàn)榉叫?，或?yàn)槎嘟切?，或?yàn)椴灰?guī)則形。