本發(fā)明涉及顯示基板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板的制作方法及顯示基板。

背景技術(shù)：

目前，在制作OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機發(fā)光二極管)基板的工藝流程中，制作完像素定義層之后，像素定義層材料中的亞克力或聚酰亞胺材料沉積在下面，形成了像素定義層的下層；而像素定義層材料中的含氟樹脂材料則上浮至表面，形成了像素定義層的上層。

由于像素定義層的下層材料是親水性材料，而像素定義層的上層材料是疏水性材料，在制作完像素定義層之后，進行有機發(fā)光功能層的沉積工藝過程中，有機發(fā)光功能層的材料會因為浸潤的作用，而沿著下層的側(cè)面攀爬而上，直到遇到下層和上層之間的界面才會停止，這就使得有機發(fā)光功能層的形狀發(fā)生了彎曲，不再是均勻而平整的。同時，OLED基板中的各個有機發(fā)光功能層的制作都會有相同的問題，而這種厚薄的不均會導(dǎo)致像素內(nèi)部發(fā)光的不均勻(主要是像素邊緣區(qū)域的發(fā)光不均勻)，進而影響整個器件的發(fā)光性能。

綜上所述，現(xiàn)有的OLED基板的制作工藝流程中，在制作時有機發(fā)光功能層時會因為浸潤的作用而使其形狀發(fā)生彎曲，進而導(dǎo)致像素內(nèi)部邊緣區(qū)域的發(fā)光不均勻，影響整個器件的發(fā)光性能。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法及顯示基板，用以解決現(xiàn)有的OLED基板的制作工藝流程中，在制作時有機發(fā)光功能層會因為浸潤的作用而使其形狀發(fā)生彎曲，進而導(dǎo)致像素內(nèi)部邊緣區(qū)域的發(fā)光不均勻，影響整個器件的發(fā)光性能的問題。

本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法，包括：

在襯底基板的非顯示區(qū)域形成像素定義層，所述像素定義層包括位于上層的疏水層和位于下層的親水層；

在所述襯底基板的顯示區(qū)域形成有機發(fā)光功能層；

在所述像素定義層上形成僅覆蓋非顯示區(qū)域的遮擋膜層。

本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法，在制作顯示基板時，可以通過增加的遮擋膜層，遮住非顯示區(qū)域中造成發(fā)光不均勻的有機發(fā)光功能層的邊緣區(qū)域，進而改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象，提高了整個顯示基板的發(fā)光性能。

較佳的，在襯底基板的非顯示區(qū)域形成像素定義層，包括：

采用旋涂的方式，將預(yù)設(shè)比例的疏水性材料和親水性材料的混合材料涂到襯底基板上，形成混合材料的薄膜；

對所述混合材料的薄膜進行前烘、曝光和顯影處理，形成位于非顯示區(qū)域的薄膜；

對所述非顯示區(qū)域的薄膜進行后烘處理，形成像素定義層，所述像素定義層包括位于上層的疏水層和位于下層的親水層；

其中，所述預(yù)設(shè)比例為疏水性材料和親水性材料的比例不大于1：1。

較佳的，對所述非顯示區(qū)域的薄膜進行后烘處理，包括：

對所述非顯示區(qū)域的薄膜進行預(yù)設(shè)時長的熱處理，以使形成的像素定義層中疏水層的邊緣覆蓋預(yù)設(shè)范圍的親水層的邊緣；

其中，所述預(yù)設(shè)時長為使所述疏水層的材料往所述親水層的邊緣流動的最短時長；所述預(yù)設(shè)范圍為使所述顯示基板中像素內(nèi)部發(fā)光均勻的最小范圍。

較佳的，所述預(yù)設(shè)時長為30min-120min。

較佳的，在所述襯底基板的顯示區(qū)域形成有機發(fā)光功能層，包括：

采用噴墨打印的方式，在所述襯底基板的顯示區(qū)域形成有機發(fā)光功能層。

較佳的，所述有機發(fā)光功能層包括：空穴注入層，空穴傳輸層，電致發(fā)光層，電子傳輸層，以及有機電子注入層。

較佳的，在所述所述像素定義層上形成僅覆蓋非顯示區(qū)域的遮擋膜層，包括：

在所述像素定義層上形成覆蓋范圍大于所述非顯示區(qū)域范圍的遮擋膜層，并在退火工藝后，使最后形成的遮擋膜層僅覆蓋非顯示區(qū)域。

較佳的，所述遮擋膜層的材料與所述像素定義層的材料相同；或所述遮擋膜層的材料為疏水性材料。

較佳的，所述遮擋膜層的厚度為1微米-2微米。

本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板，包括：依次設(shè)置在襯底基板上的像素定義層、有機發(fā)光功能層和遮擋膜層；其中，

所述像素定義層設(shè)置在非顯示區(qū)域；

所述有機發(fā)光功能層設(shè)置在顯示區(qū)域，且有部分有機發(fā)光功能層的材料攀爬到所述像素定義層上；

所述遮擋膜層僅設(shè)置在非顯示區(qū)域，且完全覆蓋所述部分有機發(fā)光功能層的材料。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法的步驟流程圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的一種設(shè)置有遮擋膜層的顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實施例提供的一種形成像素定義層的方法步驟流程圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的采用預(yù)設(shè)比例的混合材料制作的像素定義層的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明一部分實施例，并不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

其中，附圖中薄膜厚度和區(qū)域形狀不反映其真實比例，目的只是示意說明本發(fā)明的內(nèi)容。

本發(fā)明實施例提供的顯示基板，主要是針對OLED基板，是在現(xiàn)有的顯示基板的基礎(chǔ)上，對位于非顯示區(qū)域的像素定義層進行改進，在像素定義層上增加了遮擋膜層，可以遮住非顯示區(qū)域中造成發(fā)光不均勻的有機發(fā)光功能層的邊緣區(qū)域，進而改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象，提高了整個顯示基板的發(fā)光性能，在增加遮擋膜層的基礎(chǔ)上，還可以通過調(diào)節(jié)制作材料的組分和優(yōu)化退火工藝，進一步改善發(fā)光不均勻的現(xiàn)象。下面對其具體制作方法進行詳細的說明。

如圖1所示，為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法的步驟流程圖，具體可以采用如下步驟實現(xiàn)：

步驟101，在襯底基板的非顯示區(qū)域形成像素定義層，像素定義層包括位于上層的疏水層和位于下層的親水層；

步驟102，在襯底基板的顯示區(qū)域形成有機發(fā)光功能層；

步驟103，在像素定義層上形成僅覆蓋非顯示區(qū)域的遮擋膜層。

本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法，先制作像素定義層和有機發(fā)光功能層，之后再制作僅覆蓋非顯示區(qū)域的遮擋膜層，進而可以通過制作的遮擋膜層，遮住非顯示區(qū)域中造成發(fā)光不均勻的有機發(fā)光功能層的邊緣區(qū)域，改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象。

在具體實施時，可以不限定制作像素定義層和有機發(fā)光功能層的具體方式，只要是在制作完有機發(fā)光功能層之后，再在非顯示區(qū)域制作遮擋膜層即可。

由于本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法，主要是針對在制作時有機發(fā)光功能層會因為浸潤的作用而使其形狀發(fā)生彎曲，進而導(dǎo)致像素內(nèi)部邊緣區(qū)域的發(fā)光不均勻現(xiàn)象，而一般是在采用噴墨打印的方式制作有機發(fā)光功能層時，容易出現(xiàn)有機發(fā)光功能材料因為浸潤的作用，攀爬到非顯示區(qū)域的像素定義層上的現(xiàn)象。較佳的，步驟102包括：采用噴墨打印的方式，在襯底基板的顯示區(qū)域形成有機發(fā)光功能層。

具體的，上述有機發(fā)光功能層可以為任意的組成發(fā)光層的膜層，較佳的，有機發(fā)光功能層包括：空穴注入層，空穴傳輸層，電致發(fā)光層，電子傳輸層，以及有機電子注入層。由于在制作有機發(fā)光功能層時，每一個膜層都有可能因為浸潤的作用攀爬到非顯示區(qū)域的像素定義層上，為了使遮擋膜層更好的遮住發(fā)光不均勻的部分，因而需要制作完有機發(fā)光功能層之后，再制作遮擋膜層。

步驟103中，在像素定義層上形成僅覆蓋非顯示區(qū)域的遮擋膜層，可以對像素邊緣發(fā)光不均勻的區(qū)域進行遮擋，以解決像素邊緣區(qū)域發(fā)光不均勻的問題。如圖2所示，為本發(fā)明實施例提供的一種設(shè)置有遮擋膜層的顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖；其中，201為襯底基板，202為像素定義層，2021為疏水層，2022為親水層，203為有機發(fā)光功能層，204為遮擋膜層。

具體的，在制作有機發(fā)光功能層時，有機發(fā)光功能層的材料會因為浸潤作用攀爬到像素定義層的邊緣上，造成有機發(fā)光功能層的外圍比較厚、中間比較薄，進而導(dǎo)致像素內(nèi)部發(fā)光不均勻，而這種物理層面的不均勻以及像素發(fā)光的不均勻主要發(fā)生于像素的邊緣區(qū)域。因此，本發(fā)明實施例在制作完有機發(fā)光功能層后，再在非顯示區(qū)域制作一層遮擋膜層，對像素邊緣區(qū)域的發(fā)光不均勻區(qū)域進行遮擋，僅露出像素中間的發(fā)光均勻區(qū)域，從而使像素內(nèi)部的發(fā)光趨于均勻。

在具體實施時，在襯底基板的非顯示區(qū)域形成像素定義層的方式有很多種，如圖3所示，為本發(fā)明實施例提供的一種形成像素定義層的方法步驟流程圖，較佳的，步驟101具體可以采用如下步驟實現(xiàn)：

步驟1011，采用旋涂的方式，將預(yù)設(shè)比例的疏水性材料和親水性材料的混合材料涂到襯底基板上，形成混合材料的薄膜；其中，預(yù)設(shè)比例為疏水性材料和親水性材料的比例不大于1：1；

步驟1012，對混合材料的薄膜進行前烘、曝光和顯影處理，形成位于非顯示區(qū)域的薄膜；

步驟1013，對非顯示區(qū)域的薄膜進行后烘處理，形成像素定義層，像素定義層包括位于上層的疏水層和位于下層的親水層。

本發(fā)明實施例在制作像素定義層時，主要采用旋涂、前烘、曝光、顯影和后烘的方式進行制作，可以通過對制作像素定義層的混合材料中疏水性材料和親水性材料的比例進行優(yōu)化，進一步改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象。一般現(xiàn)有技術(shù)中親水性材料較多，而疏水性材料較少；本發(fā)明實施例采用預(yù)設(shè)比例的混合材料，即降低了其中親水性材料的比例，提高其中疏水性材料的比例，但預(yù)設(shè)比例必須為疏水性材料和親水性材料的比例不大于1：1。

具體的，采用預(yù)設(shè)比例混合材料經(jīng)過旋涂、前烘、曝光、顯影工藝之后，形成非顯示區(qū)域的薄膜，再對非顯示區(qū)域的薄膜進行后烘出來，使其形成包括疏水層和親水層的像素定義層。

在像素定義層制作完成后，疏水層的厚度將會有所上升，而親水層的厚度將會有所下降。因此，當制作有機發(fā)光功能層時，其所能攀爬的高度受到了限制，整個有機發(fā)光功能層邊緣的彎曲受到了抑制，膜層的均勻性以及整個顯示基板的發(fā)光性均會得到提升。

如圖4所示，為本發(fā)明實施例提供的采用預(yù)設(shè)比例的混合材料制作的像素定義層的結(jié)構(gòu)示意圖。假設(shè)圖2為采用現(xiàn)有技術(shù)中混合材料制作的像素定義層，則圖4相比于圖2，其疏水層2021的厚度有所上升，而親水層2022的厚度有所下降，有機發(fā)光功能層的材料攀爬后的高度d也有所下降。

除了可以通過對制作像素定義層的混合材料中疏水性材料和親水性材料的比例進行優(yōu)化，改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象外，還可以對后烘處理工藝進行優(yōu)化，較佳的，步驟1013包括：對非顯示區(qū)域的薄膜進行預(yù)設(shè)時長的熱處理，以使形成的像素定義層中疏水層的邊緣覆蓋預(yù)設(shè)范圍的親水層的邊緣；其中，預(yù)設(shè)時長為使疏水層的材料往親水層的邊緣流動的最短時長；預(yù)設(shè)范圍為使顯示基板中像素內(nèi)部發(fā)光均勻的最小范圍。較佳的，預(yù)設(shè)時長為30min-120min。

在具體實施時，在非顯示區(qū)域的薄膜形成之后，對其進行進一步的熱處理，由于疏水層中的材料(如含氟樹脂)的流動性較強，因此隨著熱處理的時長的延長，其中的疏水層中的材料會緩慢的向下流動，使得親水層側(cè)面的親水界面的高度逐漸降低，即覆蓋預(yù)設(shè)范圍的親水層的邊緣。

具體的，當像素定義層的寬度、高度、制作材料等參數(shù)的不同時，上述預(yù)設(shè)范圍的取值也不同，可以根據(jù)實際需要進行設(shè)置，在此并不限定具體的數(shù)值。

進一步的，在對非顯示區(qū)域的薄膜進行預(yù)設(shè)時長的熱處理之后，再制作有機發(fā)光功能層，就能夠控制其材料向像素定義層中的親水層攀爬的高度，抑制有機發(fā)光功能層的彎曲，使膜層的均勻性以及整個器件的發(fā)光性得到提升。

另外，現(xiàn)有技術(shù)中像素定義層的后烘處理的溫度及時長一般是采用230℃，30min；本發(fā)明實施例中后烘處理的時長應(yīng)高于這一數(shù)值，可選的范圍是30min-120min。

在具體實施時，在襯底基板的非顯示區(qū)域形成遮擋膜層的方式有很多種，例如可以采用制作像素定義層的工藝制作遮擋膜層，較佳的，步驟103包括：在像素定義層上形成覆蓋范圍大于非顯示區(qū)域范圍的遮擋膜層，并在退火工藝后，使最后形成的遮擋膜層僅覆蓋非顯示區(qū)域。

由于退火工藝中會揮發(fā)一些有機溶劑等，因而一般經(jīng)過退火工藝之后，膜層的覆蓋面積會略微縮小，為了使遮擋膜層更好的實現(xiàn)遮擋作用，在制作時，可以先在像素定義層上形成覆蓋范圍大于非顯示區(qū)域范圍的遮擋膜層，只要是退火之后形成的遮擋膜層僅覆蓋非顯示區(qū)域，不影響顯示基板正常顯示即可。

具體的，遮擋膜層的材料可以根據(jù)需要進行設(shè)置。為了節(jié)省制作成本和簡化制作工藝，較佳的，遮擋膜層的材料與像素定義層的材料相同。而為了更好的防止有機發(fā)光膜層的浸潤作用，較佳的，遮擋膜層的材料為疏水性材料。

另外，遮擋膜層的厚度可以根據(jù)像素定義層的厚度進行設(shè)置，為了不增加顯示基板的厚度，一般遮擋膜層的厚度不超過像素定義層的厚度，較佳的，遮擋膜層的厚度為1微米-2微米。

基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實施例還提供了一種通過上述方法制作的顯示基板，由于該顯示基板解決問題的原理與本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法相似，因此該顯示基板的實施可以參見方法的實施，重復(fù)之處不再贅述。

如圖2所示，為本發(fā)明實施例提供的通過上述方法制作的顯示基板的基本結(jié)構(gòu)示意圖；包括：依次設(shè)置在襯底基板201上的像素定義層202、有機發(fā)光功能層203和遮擋膜層204；其中，像素定義層202設(shè)置在非顯示區(qū)域；有機發(fā)光功能層203設(shè)置在顯示區(qū)域，且有部分有機發(fā)光功能層的材料攀爬到像素定義層上；遮擋膜層204僅設(shè)置在非顯示區(qū)域，且完全覆蓋部分有機發(fā)光功能層的材料。

綜上所述，本發(fā)明實施例提供的顯示基板的制作方法，在制作顯示基板時，可以通過增加的遮擋膜層，遮住非顯示區(qū)域中造成發(fā)光不均勻的有機發(fā)光功能層的邊緣區(qū)域，進而改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象，提高了整個顯示基板的發(fā)光性能。同時，本發(fā)明實施例還可以通過對制作像素定義層的混合材料中疏水性材料和親水性材料的比例進行優(yōu)化，或者是對制作像素定義層時后烘處理工藝進行優(yōu)化，從而進一步改善像素內(nèi)部發(fā)光不均勻的現(xiàn)象。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。