本發(fā)明涉及電氣設(shè)備領(lǐng)域,特別涉及一種固封極柱。
背景技術(shù):
斷路器是指能夠關(guān)合、承載和開斷正?;芈窏l件下的電流,并能關(guān)合在規(guī)定的時(shí)間內(nèi)承載和開斷異?;芈窏l件下的電流的開關(guān)裝置。絕緣拉桿用于閉合或拉開高壓隔離開關(guān)。真空滅弧室,又名真空開關(guān)管,是中高壓電力開關(guān)的核心部件,其主要作用是,通過管內(nèi)真空優(yōu)良的絕緣性使中高壓電路切斷電源后能迅速熄弧并抑制電流,避免事故和意外的發(fā)生。絕緣拉桿與真空滅弧室是斷路器中的重要部件。
現(xiàn)有技術(shù)中,在多數(shù)斷路器中,真空滅弧室的絕緣外殼都是暴露在空氣中。真空滅弧室的絕緣外殼容易被自然環(huán)境中的粉塵,潮濕的空氣腐蝕,破壞。進(jìn)而影響真空滅弧室性能,進(jìn)而影響整個(gè)斷路器的性能。
而對(duì)于少部分真空滅弧室被密封的固封極柱來說,也存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜,體積較大,裝配復(fù)雜,成本較高等問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N固封極柱,該固封極柱的真空滅弧室4密封在絕緣座里面,避免外界環(huán)境對(duì)真空滅弧室4的影響。并且實(shí)現(xiàn)了真空滅弧室4與隔離開關(guān)和接地開關(guān)一體化,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,整體體積小。
為了達(dá)到上述的效果,本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N固封極柱,包括上絕緣座1、下絕緣座2、至少四個(gè)金屬觸頭3、真空滅弧室4、絕緣拉桿5、軟連接件6,
所述上絕緣座1與所述下絕緣座2相匹配;
各所述金屬觸頭3配合設(shè)置于所述上絕緣座1和所述下絕緣座2上。
所述下絕緣座2內(nèi)部設(shè)有真空滅弧室4;
所述真空滅弧室4分別與所述下絕緣座2上的其中一個(gè)所述金屬觸頭3和所述絕緣拉桿5連接;
所述軟連接件6分別與真空滅弧室4和所述下絕緣座2上的不同于所述其中一個(gè)所述金屬觸頭3的所述金屬觸頭3中的一個(gè)所述金屬觸頭3連接。
優(yōu)選的,所述上絕緣座1與所述上絕緣座1的金屬觸頭3與為一體式結(jié)構(gòu);
所述下絕緣座2與所述下絕緣座2的金屬觸頭3與為一體式結(jié)構(gòu)。
優(yōu)選的,所述上絕緣座1上的金屬觸頭3與所述下絕緣座2上的金屬觸頭3的數(shù)量相同;
其中,所述上絕緣座1上的金屬觸頭3包含高壓觸頭和接地觸頭;
所述下絕緣座2上的金屬觸頭3包含動(dòng)端觸頭和靜端觸頭;
所述高壓觸頭與所述靜端觸頭對(duì)應(yīng);所述接地觸頭與所述動(dòng)端觸頭;
所述的靜端觸頭與所述真空滅弧室4的一端固定連接。
優(yōu)選的,所述金屬觸頭3位于同一個(gè)圓上;
所述上絕緣座1上的所述金屬觸頭3與對(duì)應(yīng)的所述下絕緣座2上的所述金屬觸頭的連線經(jīng)過所述圓的圓心。
優(yōu)選的,所述絕緣拉桿5的中軸線與所述真空滅弧室4的中軸線重合。
優(yōu)選的,所述上絕緣座1與所述下絕緣座2固定連接。
本申請(qǐng)公開了一種固封極柱,包括上絕緣座1、下絕緣座2、至少四個(gè)金屬觸頭3、真空滅弧室4、絕緣拉桿5、軟連接件6,上絕緣座1與下絕緣座2相匹配,各金屬觸頭3配合設(shè)置于上絕緣座1和所述下絕緣座2上,下絕緣座2內(nèi)部設(shè)有真空滅弧室4,真空滅弧室4分別與下絕緣座2上的其中一個(gè)金屬觸頭3和絕緣拉桿5連接,軟連接件6分別與真空滅弧室4和下絕緣座2上的不同于其中一個(gè)金屬觸頭3的金屬觸頭3中的一個(gè)金屬觸頭3連接。該固封極柱實(shí)現(xiàn)了真空滅弧室4與隔離開關(guān)和接地開關(guān)一體化,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,整體體積小。并且,該固封極柱的真空滅弧室4密封在絕緣座里面,避免外界環(huán)境對(duì)真空滅弧室4的影響。
附圖說明
為了更清楚地說明本申請(qǐng)的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本申請(qǐng)實(shí)施例一種固封極柱的剖視圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)有技術(shù)中,在多數(shù)斷路器中,真空滅弧室4的絕緣外殼都是暴露在空氣中。真空滅弧室4的絕緣外殼容易被自然環(huán)境中的粉塵,潮濕的空氣腐蝕,破壞。進(jìn)而影響真空滅弧室4性能,進(jìn)而影響整個(gè)斷路器的性能。而對(duì)于少部分真空滅弧室被密封的固封極柱來說,也存在結(jié)構(gòu)復(fù)雜,體積較大,裝配復(fù)雜,成本較高等問題。
為了解決上述問題,本申請(qǐng)實(shí)施例提出了一種固封極柱,該固封極柱實(shí)現(xiàn)了真空滅弧室4與隔離開關(guān)和接地開關(guān)一體化,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,整體體積小,裝配簡(jiǎn)單,成本低。并且,該固封極柱的真空滅弧室4密封在絕緣座里面,避免外界環(huán)境對(duì)真空滅弧室4的影響。
如圖1所示,為本申請(qǐng)實(shí)施例一種固封極柱的剖視圖。
本申請(qǐng)實(shí)施例中的固封極柱包括上絕緣座1、下絕緣座2、金屬觸頭3、真空滅弧室4、絕緣拉桿5、軟連接件6。
本申請(qǐng)實(shí)施例中,所述上絕緣座1與所述下絕緣座2相匹配。
該固封極柱的上絕緣座1與下絕緣座2為絕緣材料制作的部件。上絕緣座1與下絕緣座2連接組成該固封極柱的外殼支架。
上絕緣座1與下絕緣座2的連接方式,對(duì)該固封極柱整體結(jié)構(gòu),體積以及裝配工藝都有很大的影響。為此,在本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施例中,上絕緣座1與下絕緣座2固定連接,使上絕緣座1與下絕緣座2構(gòu)成一個(gè)整體,在能使上絕緣座1與下絕緣座2構(gòu)成一個(gè)整體的前提下,上絕緣座1與下絕緣座2通過螺釘連接或者其他的連接方式的變化,并不影響本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。
本申請(qǐng)實(shí)施例中,各所述金屬觸頭3配合設(shè)置于所述上絕緣座1和所述下絕緣座2上。固定極柱通過連接對(duì)應(yīng)的金屬觸頭3,接通不同的電路后實(shí)現(xiàn)不同的功能。
金屬觸頭3在絕緣座的連接形式對(duì)金屬觸頭3在該固封極柱上的穩(wěn)定程度有很大的影響,因此,本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施例中,所述上絕緣座1與所述上絕緣座1的金屬觸頭3為一體式結(jié)構(gòu)。所述下絕緣座2與所述下絕緣座2的金屬觸頭3為一體式結(jié)構(gòu)。在能使金屬觸頭3穩(wěn)定的處于該固封極柱上的前提下,將金屬觸頭3與絕緣座澆注為一體或者其他的連接形式的變化,并不影響本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。
申請(qǐng)中,金屬觸頭3的具體不同的形式組合對(duì)應(yīng)固封極柱不同的性能。因此,本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施例中,所述上絕緣座1上的金屬觸頭3與所述下絕緣座2上的金屬觸頭3的數(shù)量相同,其中,所述上絕緣座1上的金屬觸頭3包含高壓觸頭和接地觸頭;所述下絕緣座2上的金屬觸頭3包含動(dòng)端觸頭和靜端觸頭;所述高壓觸頭與所述靜端觸頭對(duì)應(yīng);所述接地觸頭與所述動(dòng)端觸頭。本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施例中的金屬觸頭3的形式,是根據(jù)固封極柱的實(shí)際使用情況而設(shè)置的,在能滿足固封極柱的實(shí)時(shí)使用情況的前提下,本申請(qǐng)優(yōu)選實(shí)施例的金屬觸頭3形式或者其他組合形式的變化并不影響本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。
本申請(qǐng)中,上絕緣座1與下絕緣座2上的金屬觸頭3的位置,對(duì)是否方便,穩(wěn)定的連接固封極柱上的對(duì)應(yīng)金屬觸頭3,切換不同的功能有很大的影響。因此,本申請(qǐng)的優(yōu)選實(shí)施例中,上絕緣座1上的兩個(gè)所述金屬觸頭3與的下絕緣座2上的兩個(gè)所述金屬觸頭3位于同一個(gè)圓上,上絕緣座1上的所述金屬觸頭3與所述下絕緣座2上的對(duì)應(yīng)觸頭的連線經(jīng)過所述圓的圓心。在能實(shí)現(xiàn)方便,穩(wěn)定的連接固封極柱上不同的對(duì)應(yīng)金屬觸頭3的基礎(chǔ)上,上絕緣座1上的兩個(gè)所述金屬觸頭3與的下絕緣座2上的兩個(gè)所述金屬觸頭3位于同一個(gè)圓上,上絕緣座1上的所述金屬觸頭3與所述下絕緣座2上的對(duì)應(yīng)觸頭的連線經(jīng)過所述圓的圓心的形式或者其他的位置形式的變化并不會(huì)影響本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。
本申請(qǐng)中,所述下絕緣座2內(nèi)部設(shè)有真空滅弧室4;
真空滅弧室4處于下絕緣座2的內(nèi)部,使真空滅弧室4與外界環(huán)境隔離開,避免真空滅弧室4的絕緣外殼被自然環(huán)境中的粉塵,潮濕的空氣腐蝕,破壞,影響真空滅弧室4性能,進(jìn)而影響整個(gè)斷路器的性能。
本申請(qǐng)實(shí)施例中,所述真空滅弧室4分別與所述下絕緣座2上的其中一個(gè)所述金屬觸頭3和所述絕緣拉桿5連接;
本申請(qǐng)的固定極柱中,絕緣拉桿5與真空滅弧室4的位置會(huì)影響絕緣拉桿5與真空滅弧室4連接的空間,進(jìn)而影響固封極柱的體積。因此,本申請(qǐng)優(yōu)選實(shí)施例中,所述絕緣拉桿5與所述真空滅弧室4的中軸線重合??梢允菇^緣拉桿5與真空滅弧室4連接的空間小,進(jìn)而縮小固封極柱的體積,在能減小絕緣拉桿5與真空滅弧室4連接的空間的基礎(chǔ)上,絕緣拉桿5與所述真空滅弧室4的中軸線重合或者其他的位置布局方式并不會(huì)影響本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。
本申請(qǐng)實(shí)施例中,所述軟連接件6分別與真空滅弧室4和所述下絕緣座2上的不同于所述其中一個(gè)所述金屬觸頭3的所述金屬觸頭3中的一個(gè)所述金屬觸頭3連接。
軟連接件6由導(dǎo)電材料制作,分別與真空滅弧室4和所述下絕緣座2上的不同于所述其中一個(gè)所述金屬觸頭3的所述金屬觸頭3中的一個(gè)所述金屬觸頭3連接。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本申請(qǐng)實(shí)施例所提出的技術(shù)方案的有益技術(shù)效果包括:本申請(qǐng)公開了一種固封極柱,包括上絕緣座1、下絕緣座2、至少四個(gè)金屬觸頭3、真空滅弧室4、絕緣拉桿5、軟連接件6,上絕緣座1與下絕緣座2相匹配,各金屬觸頭3配合設(shè)置于上絕緣座1和所述下絕緣座2上,下絕緣座2內(nèi)部設(shè)有真空滅弧室4,真空滅弧室4分別與下絕緣座2上的其中一個(gè)金屬觸頭3和絕緣拉桿5連接,軟連接件6分別與真空滅弧室4和下絕緣座2上的不同于其中一個(gè)金屬觸頭3的金屬觸頭3中的一個(gè)金屬觸頭3連接。該固封極柱實(shí)現(xiàn)了真空滅弧室4與隔離開關(guān)和接地開關(guān)一體化,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,整體體積小。并且,該固封極柱的真空滅弧室4密封在絕緣座里面,避免外界環(huán)境對(duì)真空滅弧室4的影響。
最后需要說明的是,以上各實(shí)施例僅用以說明本申請(qǐng)的技術(shù)方案,而非對(duì)其限制;盡管參照前述各實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)進(jìn)行了詳細(xì)的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解;其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對(duì)其中部分或者全部技術(shù)特征進(jìn)行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本申請(qǐng)權(quán)利要求所限定的范圍。
本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解實(shí)施場(chǎng)景中的裝置中的模塊可以按照實(shí)施場(chǎng)景描述進(jìn)行分布于實(shí)施場(chǎng)景的裝置中,也可以進(jìn)行相應(yīng)變化位于不同于本實(shí)施場(chǎng)景的一個(gè)或多個(gè)裝置中。上述實(shí)施場(chǎng)景的模塊可以合并為一個(gè)模塊,也可以進(jìn)一步拆分成多個(gè)子模塊。
本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解附圖只是一個(gè)優(yōu)選實(shí)施場(chǎng)景的示意圖,附圖中的模塊或流程并不一定是實(shí)施本申請(qǐng)所必須的。
上述本申請(qǐng)序號(hào)僅僅為了描述,不代表實(shí)施場(chǎng)景的優(yōu)劣。
以上公開的僅為本申請(qǐng)的幾個(gè)具體實(shí)施場(chǎng)景,但是,本申請(qǐng)并非局限于此,任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化都應(yīng)落入本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。