本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備控制，尤其涉及基片傳輸控制方法。

背景技術(shù)：

1、利用半導(dǎo)體工藝設(shè)備對(duì)不同批次基片進(jìn)行鍍膜的過(guò)程中，上一批次基片在工藝腔體內(nèi)完成鍍膜后，需要借助傳輸裝置將該批次基片從工藝腔體中轉(zhuǎn)移出去，再借助傳輸裝置將下一批次待鍍膜的基片轉(zhuǎn)移入工藝腔體。為避免基片在轉(zhuǎn)移過(guò)程中被外部環(huán)境所污染，以及在基片轉(zhuǎn)移過(guò)程中使工藝腔體內(nèi)的溫度和壓力維持在工藝條件附近，通常設(shè)置與工藝腔體相連接的傳片腔體供基片傳輸使用。工藝腔體內(nèi)基片的鍍膜工藝過(guò)程結(jié)束，以及工藝腔體和傳片腔體之間壓力平衡后就會(huì)連通工藝腔體和傳片腔體，以便于傳輸裝置從傳片腔體進(jìn)入工藝腔體內(nèi)抓取基片。

2、在基片傳輸過(guò)程中，如果半導(dǎo)體工藝設(shè)備出現(xiàn)宕機(jī)可能會(huì)使傳輸裝置中用于夾持基片的結(jié)構(gòu)，例如機(jī)械手臂停留于工藝腔體內(nèi)。對(duì)于該種情況現(xiàn)有技術(shù)常規(guī)做法是觸發(fā)警報(bào)后等待人工介入處理。

3、然而，當(dāng)工藝腔體內(nèi)的溫度低于機(jī)械手所能承受的最高溫度，例如碳化硅外延工藝的工藝溫度普遍高于1200攝氏度，即使是在傳片過(guò)程中，考慮到需要盡可能節(jié)省工藝腔體內(nèi)溫度、壓力等的調(diào)控時(shí)間來(lái)提高生產(chǎn)效率，工藝腔體內(nèi)的溫度控制也不會(huì)低于900攝氏度，機(jī)械手在這樣的高溫下容易造成損壞，特別是人工介入處理一旦不及時(shí)，機(jī)械手在高溫環(huán)境中停留時(shí)間越長(zhǎng)損壞越嚴(yán)重。

4、因此，有必要提供一種基片傳輸控制方法以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種基片傳輸控制方法，能夠?qū)Ξ惓Ｇ闆r進(jìn)行及時(shí)快速響應(yīng)，并在出現(xiàn)異常情況使得傳片單元滯留在高溫的工藝腔體內(nèi)的情況下，能夠在人工介入處理前使傳片單元及時(shí)從工藝腔體回到傳片腔體，從而減少甚至避免傳片單元因高溫造成的損壞。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供的基片傳輸控制方法，包括：

3、s0：提供相互通信連接的調(diào)度控制單元和主控制單元，內(nèi)設(shè)有承載裝置的工藝腔體、連通所述工藝腔體的傳片腔體、設(shè)于所述工藝腔體和所述傳片腔體之間的隔離裝置、設(shè)于所述傳片腔體內(nèi)并分別與所述調(diào)度控制單元和所述主控制單元通信連接的傳輸裝置，以及與所述調(diào)度控制單元通信連接的信息獲取單元，所述主控制單元預(yù)存有工藝程序信息，所述調(diào)度控制單元預(yù)存有傳片比對(duì)信息，所述傳輸裝置包括能夠持基片運(yùn)動(dòng)的傳片單元，所述信息獲取單元配置為獲取并發(fā)送所述工藝腔體、所述隔離裝置、所述傳片腔體和所述傳輸裝置的實(shí)時(shí)狀態(tài)信息，以及外部控制信息；

4、s1：所述信息獲取單元獲取并向所述調(diào)度控制單元發(fā)送所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息和所述外部控制信息，所述調(diào)度控制單元與所述主控制單元之間進(jìn)行信息交互；

5、s2：所述主控制單元根據(jù)所述工藝程序信息向所述傳輸裝置下達(dá)傳片指令，所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述傳片比對(duì)信息和所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息判斷所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息滿足執(zhí)行所述傳片指令的要求后，向所述傳輸裝置下達(dá)確認(rèn)指令，所述傳輸裝置根據(jù)所述確認(rèn)指令和所述傳片指令控制所述傳片單元在所述承載裝置和所述傳片腔體之間傳輸所述基片；

6、s3：所述調(diào)度控制單元根據(jù)與所述主控制單元之間的信息交互情況判斷與所述主控制單元之間的通訊斷開，或者根據(jù)所述外部控制信息判斷所述主控制單元對(duì)所述傳輸裝置的控制失效；

7、s4：所述調(diào)度控制單元判斷所述傳片單元位于所述工藝腔體內(nèi)且所述工藝腔體內(nèi)的溫度高于耐受閾值溫度后，控制所述傳輸裝置驅(qū)動(dòng)所述傳片單元遠(yuǎn)離所述工藝腔體。

8、本發(fā)明提供的基片傳輸控制方法的有益效果在于：相較于通過(guò)單一控制單元控制傳輸裝置相比，通過(guò)步驟s1由所述調(diào)度控制單元接收實(shí)時(shí)狀態(tài)信息并與所述主控制單元之間進(jìn)行信息交互，并在所述步驟s2中根據(jù)所述傳片比對(duì)信息和所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息判斷所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息滿足執(zhí)行所述傳片指令的要求后，向所述傳輸裝置下達(dá)確認(rèn)指令，使所述傳輸裝置根據(jù)所述確認(rèn)指令和所述傳片指令控制所述傳片單元在所述承載裝置和所述傳片腔體之間傳輸所述基片，有利于提高傳片安全性，當(dāng)所述調(diào)度控制單元通過(guò)所述步驟s3判斷與所述主控制單元之間的通訊斷開或者所述主控制單元對(duì)所述傳輸裝置的控制失效后，再通過(guò)步驟s4介入對(duì)所述傳輸裝置進(jìn)行驅(qū)動(dòng)控制，在人工介入處理前使傳片單元及時(shí)從工藝腔體回到傳片腔體，從而減少甚至避免傳片單元因高溫造成的損壞。

9、可選的，所述步驟s1中，所述調(diào)度控制單元與所述主控制單元之間進(jìn)行信息交互的步驟包括，所述主控制單元按第一時(shí)間間隔向所述調(diào)度控制單元發(fā)出心跳信息，所述步驟s3中，所述調(diào)度控制單元判斷在接收到上一所述心跳信息后的第一互聯(lián)時(shí)間間隔內(nèi)未接收到下一所述心跳信息后，則判斷與所述主控制單元之間的通訊斷開。

10、可選的，所述步驟s1還包括，所述調(diào)度控制單元響應(yīng)于所述主控制單元發(fā)送的心跳信息按第二時(shí)間間隔向所述主控制單元發(fā)出反饋心跳信息，所述步驟s3還包括，所述主控制單元判斷在接收到上一所述反饋心跳信息后的第二互聯(lián)時(shí)間間隔內(nèi)未接收到下一所述反饋心跳信息，則停止對(duì)所述傳輸裝置的控制以使所述傳片單元停止運(yùn)動(dòng)。

11、可選的，所述外部控制信息來(lái)源于急停單元，所述急停單元分別與所述傳輸裝置以及所述調(diào)度控制單元通信連接，所述步驟s3中：所述急停單元分別向所述調(diào)度控制單元和所述傳輸裝置發(fā)出所述外部控制信息；所述傳輸裝置響應(yīng)于所述外部控制信息而停止對(duì)所述傳片單元的驅(qū)動(dòng)；所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述外部控制信息判斷所述主控制單元對(duì)所述傳輸裝置的控制失效。

12、可選的，所述步驟s2中，所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述傳片比對(duì)信息和所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息判斷所述承載裝置處于靜止?fàn)顟B(tài)，且所述隔離裝置處于開啟狀態(tài)使所述工藝腔體和所述傳片腔體相通后，向所述傳輸裝置下達(dá)所述確認(rèn)指令。

13、可選的，所述調(diào)度控制單元預(yù)存有安全控制程序，所述步驟s1執(zhí)行的過(guò)程中，所述調(diào)度控制單元根據(jù)與所述主控制單元之間的信息交互情況判斷與所述主控制單元之間的通訊斷開，或者根據(jù)所述外部控制信息判斷所述主控制單元對(duì)所述傳輸裝置的控制失效后，所述調(diào)度控制單元執(zhí)行所述安全控制程序，所述安全控制程序用于使高速運(yùn)轉(zhuǎn)的所述承載裝置以設(shè)定速率變化梯度降速直至處于靜止?fàn)顟B(tài)以防止飛片。

14、可選的，所述安全控制程序還用于停止向所述工藝腔體內(nèi)供應(yīng)反應(yīng)源氣，和/或停止對(duì)所述工藝腔體內(nèi)的加熱。

15、可選的，所述步驟s4中，所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息包括所述工藝腔體的腔內(nèi)溫度信息，以及所述隔離裝置的開閉信息，所述調(diào)度控制單元判斷所述傳片單元位于所述工藝腔體內(nèi)且所述工藝腔體內(nèi)的溫度高于耐受閾值溫度的步驟包括：

16、s41：所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述隔離裝置的開閉信息判斷所述隔離裝置為打開狀態(tài)；

17、s42：所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述工藝腔體的腔內(nèi)溫度信息判斷所述工藝腔體內(nèi)的溫度高于所述耐受閾值溫度。

18、可選的，所述步驟s42執(zhí)行完畢后，所述調(diào)度控制單元向所述傳輸裝置發(fā)送慢速?gòu)?fù)位指令以驅(qū)動(dòng)所述傳片單元遠(yuǎn)離所述工藝腔體。

19、可選的，所述傳輸裝置包括位于所述傳片腔體內(nèi)并與所述傳片單元連接的關(guān)節(jié)結(jié)構(gòu)，所述信息獲取單元包括設(shè)于所述關(guān)節(jié)結(jié)構(gòu)的姿態(tài)位置傳感單元，所述步驟s41執(zhí)行完畢后，所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述姿態(tài)位置傳感單元發(fā)送的姿態(tài)位置信息判斷所述傳片單元位于所述工藝腔體內(nèi)，以及所述步驟s42執(zhí)行完畢后，所述調(diào)度控制單元向所述傳輸裝置發(fā)送快速縮回指令以驅(qū)動(dòng)所述傳片單元遠(yuǎn)離所述工藝腔體。

20、可選的，所述步驟s2進(jìn)行的過(guò)程中，所述主控制單元根據(jù)所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息和所述工藝程序信息控制所述工藝腔體內(nèi)的壓力與工藝壓力相當(dāng)，并控制所述工藝腔體內(nèi)的溫度與工藝溫度相當(dāng)。

21、可選的，所述工藝腔體內(nèi)設(shè)有與所述承載裝置的承載面相對(duì)的氣體注入裝置以提供具有特定溫度的吹掃氣體，設(shè)有排氣裝置以向所述工藝腔體外排氣，所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息包括所述工藝腔體的腔內(nèi)壓力信息，所述步驟s4中，執(zhí)行控制所述傳輸裝置驅(qū)動(dòng)所述傳片單元遠(yuǎn)離到所述工藝腔體步驟之前或進(jìn)行的過(guò)程中，執(zhí)行以下工藝調(diào)整步驟：所述調(diào)度控制單元控制所述氣體注入裝置向所述工藝腔體內(nèi)注入具有特定溫度的吹掃氣體使所述工藝腔體內(nèi)溫度降低，并根據(jù)所述腔內(nèi)壓力信息和所述工藝程序信息控制所述所述吹掃氣體的流量和所述排氣裝置向外排氣的流量，以使所述工藝腔體內(nèi)的壓力與工藝壓力相當(dāng)。

22、可選的，所述調(diào)度控制單元預(yù)存有所述傳片單元在各耐受溫度下所對(duì)應(yīng)耐受時(shí)長(zhǎng)的對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)，以及用于控制所述傳輸裝置驅(qū)動(dòng)所述傳片單元運(yùn)動(dòng)的對(duì)應(yīng)速率信息，所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息包括所述工藝腔體的腔內(nèi)溫度信息，所述調(diào)度控制單元根據(jù)所述腔內(nèi)溫度信息、所述對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)和所述對(duì)應(yīng)速率信息判斷所述傳片單元的預(yù)計(jì)傳輸時(shí)長(zhǎng)大于所述工藝腔體的腔內(nèi)溫度下所對(duì)應(yīng)的耐受時(shí)長(zhǎng)后，執(zhí)行所述工藝調(diào)整步驟。

23、可選的，所述實(shí)時(shí)狀態(tài)信息包括所述工藝腔體的腔內(nèi)溫度信息，所述傳片單元設(shè)有冷卻裝置，所述步驟s4中，執(zhí)行控制所述傳輸裝置驅(qū)動(dòng)所述傳片單元遠(yuǎn)離所述工藝腔體步驟之前或者進(jìn)行的過(guò)程中，所述調(diào)度控制單元控制所述冷卻裝置對(duì)所述傳片單元降溫。