国产精品1024永久观看,大尺度欧美暖暖视频在线观看,亚洲宅男精品一区在线观看,欧美日韩一区二区三区视频,2021中文字幕在线观看

  • <option id="fbvk0"></option>
    1. <rt id="fbvk0"><tr id="fbvk0"></tr></rt>
      <center id="fbvk0"><optgroup id="fbvk0"></optgroup></center>
      <center id="fbvk0"></center>

      <li id="fbvk0"><abbr id="fbvk0"><dl id="fbvk0"></dl></abbr></li>

      多鐵性復合膜及其制備方法

      文檔序號:8224645閱讀:513來源:國知局
      多鐵性復合膜及其制備方法
      【技術領域】
      [0001]本發(fā)明屬于功能材料領域,涉及一種BihRExFeO3ZC0Fe2O4多鐵性復合膜及其制備方法。
      【背景技術】
      [0002]單相磁電多鐵性材料至今還沒能應用到實際中,主要是因為大部分單相材料的居里溫度較低,在極低的溫度下才有磁電效應,且磁電效應很微弱。盡管單相BiFeO3M料的居里溫度和尼爾溫度都在室溫以上,但是由于BiFeO3的螺旋磁結構,使得BiFeO 3呈G型反鐵磁性,在低電場下僅表現(xiàn)出微弱的鐵磁性,其較小的磁電耦合特性阻礙了其在多鐵方面的實際應用。相反,多鐵性磁電復合材料可具有室溫下的強磁電效應,因而有實際應用價值。
      [0003]然而目前限制BiFeCV薄膜應用的最大的問題就是低電阻率,無法在室溫下測量其鐵電性質(zhì)。傳統(tǒng)的慢速退火工藝制備BiFeOJt,氧空位在高溫退火下達到動態(tài)平衡,當退火過程結束,部分氧空位滯留其中,形成氧空位的聚集,引起氧劑量的偏移,這種偏移使得鐵價態(tài)發(fā)生波動(Fe3+轉(zhuǎn)化為Fe 2+)。鐵價態(tài)的波動導致大的漏導,從而使BiFeOjf電流較大,由于大的漏導使其鐵電性無法正確測量而獲得飽和極化。
      [0004]CoFe2O4晶體屬立方晶系,立方面心格子,F(xiàn)d3m空間群。由Co-Fe-O三元體系組成的正尖晶石結構材料,是性能優(yōu)良的磁性物質(zhì),具有高飽和磁化強度、高矯頑力、高磁導率、大的磁晶各向異性、大的磁致伸縮性以及高的化學穩(wěn)定性,是一種很好的磁記錄材料和磁光記錄材料,突出的優(yōu)點是電阻率極高,磁譜特性好,也適宜在高頻和超高頻下應用。
      [0005]如何解決BiFeOJI導電流大和磁性弱這兩大問題,得到性能優(yōu)異的多鐵性材料,是目前單相磁電多鐵性材料的研宄重點。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006]本發(fā)明的目的在于提供一種BihRExFeO3ZC0Fe2O4多鐵性復合膜及其制備方法,制得的BihRExFeO3ZC0Fe2O4多鐵性復合膜具備優(yōu)異的多鐵性能,具有高剩余極化值和高剩余磁化值。
      [0007]為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用如下技術方案:
      [0008]一種BihRExFeO3ZiC0Fe2O4多鐵性復合膜,包括復合在一起的下層膜和上層膜,其中下層膜為CoFe2O4晶態(tài)膜,上層膜為Bi ^RExFeO3晶態(tài)膜,RE為Ce、Pr、Tb、Eu或Yb,x =0.05 ?0.15。
      [0009]所述的BihRExFeO^aB態(tài)膜的晶型為類四方相結構,且其生長取向為(I 10);CoFe2O4晶態(tài)膜的晶型為立方相尖晶石結構,其空間群為Fd-3m。
      [0010]其晶粒尺寸為80?120nm,室溫下其剩余極化強度為100?130 μ C/cm2,剩余磁化強度為50?80emu/cm3。
      [0011]—種BihRExFeCVCoFe2O4多鐵性復合膜的制備方法,包括以下步驟:
      [0012]步驟I,按摩爾比為1:2將Co (NO3) 2.6H20和Fe (NO3) 3.9H20溶于乙二醇甲醚和醋酸酐的混合液中,攪拌均勻,得到CoFe2O4前驅(qū)液,CoFe 204前驅(qū)液中Co離子的濃度為0.05?0.2mol/L ;
      [0013]步驟2,將 Bi (NO3)3.5H20、硝酸 RE 和 Fe(NO3)3.9H20 按摩爾比為 1.05-χ:χ:1 溶于乙二醇甲醚和醋酸酐的混合液中,攪拌均勻,得到BihRExFeO3前驅(qū)液,其中RE為Ce、Pr、Tb、Eu或Yb,X = 0.05?0.15,BihRExFeO^驅(qū)液中金屬離子的總濃度為0.1?0.3mol/L ;
      [0014]步驟3,采用旋涂法在FTO/glass基片上旋涂CoFe2O4前驅(qū)液,得CoFe 204薄膜,CoFe2O4薄膜經(jīng)勻膠后在200?350 °C下烘烤得干膜,再在600?620 °C退火,得到晶態(tài)CoFe2O4薄膜;
      [0015]步驟4,待晶態(tài)CoFe2O4薄膜冷卻后,在晶態(tài)CoFe 204薄膜上重復步驟3,直至達到所需厚度,得到CoFe2O4晶態(tài)膜;
      [0016]步驟5,在CoFe2O4晶態(tài)膜上旋涂Bi ^RExFeO3前驅(qū)液,得Bi ^xRExFeO3IiII,經(jīng)勻膠后在200?260°C下烘烤得干膜,再在500?550°C退火,得到晶態(tài)BLxRExFeCV薄膜;
      [0017]步驟6,待晶態(tài)BihRExFeCV薄膜冷卻后,在晶態(tài)Bi ^RExFeCV薄膜上重復步驟5,直至達到所需厚度,得到BihRExFeO3ZC0Fe2O4多鐵性復合膜。
      [0018]所述CoFe2O4前驅(qū)液中乙二醇甲醚和醋酸酐的體積比為(2.5?3.5):1 ;
      [0019]所述BipxRExFeO3前驅(qū)液中乙二醇甲醚和醋酸酐的體積比為(2.5?3.5):1 ;
      [0020]步驟I和步驟2中攪拌均勻所需的時間為1.5?2h。
      [0021 ] 所述步驟3在進行前先對FTO/glass基片進行清洗,然后在紫外光下照射處理,再旋涂CoFe2O4前驅(qū)液;
      [0022]所述步驟5在進行前先對CoFe2O4晶態(tài)膜進行紫外光照射處理,再旋涂Bi ^xRExFeO3前驅(qū)液。
      [0023]所述步驟3和步驟5中的勻膠轉(zhuǎn)速為3500?4500r/min,勻膠時間為10?20s。
      [0024]所述步驟3和步驟5中勻膠后的烘烤時間為5?15min。
      [0025]所述步驟3中的退火時間為15?30min,步驟5中的退火時間為5?15min。
      [0026]晶態(tài)CoFe2O4薄膜的層數(shù)為3?11層,晶態(tài)Bi ^RExFeCV薄膜的層數(shù)為12?16層。
      [0027]相對于現(xiàn)有技術,本發(fā)明具有以下有益效果:
      [0028]1.本發(fā)明提供的BihRExFeCVCoFe2O4多鐵性復合膜的制備方法,選擇稀土元素RE進行BiFeOj^ A位摻雜,可以有效地改善BiFeO 3多鐵性能,特別是對BiFeO 3的鐵電性能有明顯提高。這主要歸因于兩點,一方面是A位稀土離子摻雜能有效的減少Bi的揮發(fā),從而減少氧空位的產(chǎn)生;另一方面是稀土離子的摻雜能夠促使BiFeO3結構畸變加劇,薄膜內(nèi)電疇的翻轉(zhuǎn)數(shù)量增加,從而提高BiFeCV薄膜的鐵電性。本發(fā)明同時選用CoFe2O4作為磁性層,CoFe2O4具有高飽和磁化強度、高矯頑力、高磁導率、大的磁晶各向異性、大的磁致伸縮性以及高的化學穩(wěn)定性,是一種很好的磁記錄材料和磁光記錄材料,而且其高的電阻率在形成復合膜結構時能起到一定的抑制BiFeOJI導電流的作用。
      [0029]2.目前用于制備BiFeOjP CoFe2O4薄膜的方法有很多,如化學氣相沉積法(CVD)、磁控派射法(rf magnetron sputtering)、金屬有機物沉積法(MOD)、金屬有機物化學氣相沉積法(MOCVD)、液相沉積法(LPD)、分子束外延法(MBE)、脈沖激光沉積法(PLD)、溶膠-凝月父法(Sol-Gel)等。相比其他方法,Sol-Gel方法由于不需要昂貴的真空設備,適宜在大的表面和形狀不規(guī)則的表面上制備薄膜,以及化學組分精確可控等優(yōu)點而被廣泛用來制備鐵電材料。而且Sol-Gel方法非常適合制備本發(fā)明這種疊層結構的復合膜。本發(fā)明設備要求簡單,實驗條件容易達到,摻雜量容易控制,通過與磁性CoFe2O4薄膜形成界面狀態(tài)良好的2-2型復合膜,從而制得BihRExFeO3ZiC0Fe2O4多鐵性復合膜,制得的復合膜均勻性好,并具有優(yōu)異的多鐵性能及高剩余極化值和高剩余磁化值。
      [0030]3.本發(fā)明提供的BihRExFeO3ZiC0Fe2O4多鐵性復合膜為2_2型復合形式,以A位RE離子摻雜BiFeO3作為鐵電層,以CoFe 204作為磁性層,摻雜使鐵酸鉍晶格扭曲,結構畸變加劇,同時減少薄膜中Fe2+和氧空位的含量,從而增強薄膜在外加電場下的極化強度,提高薄膜的鐵電性能,降低薄膜的漏電流密度,本發(fā)明將摻雜的BiFeOjP CoFe 204的優(yōu)點結合起來,能夠同時解決BiFeOJI導電流大和磁性弱兩大問題,得到的Bi HRExFeCVC0Fe2O4多鐵性復合膜具有優(yōu)異的多鐵性能即高剩余極化值和高剩余磁化值。
      【附圖說明】
      [0031]圖1是本發(fā)明制備的Bia89TbanFe03/COFe204多鐵性復合膜的XRD圖;
      [0032]圖2是本發(fā)明制備的Bia89TbailFeCVC0Fe2O4多鐵性復合膜的SEM圖;其中(a)為表面SEM圖,(b)為斷面SEM圖;
      [0033]圖3是本發(fā)明制備的Bici 89Tbci llFeCVCoFe2O4多鐵性復合膜的漏導電流與電場的關系圖;
      [0034]圖4是本發(fā)明制備的Bia89TbailFeCVC0F
      當前第1頁1 2 3 4 
      網(wǎng)友詢問留言 已有0條留言
      • 還沒有人留言評論。精彩留言會獲得點贊!
      1