一種用于腔室門的密封裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，更具體地，涉及一種用于腔室門的磁性密封裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體集成電路的生產(chǎn)加工工藝過程中，半導(dǎo)體晶片(包括光盤或是平板顯示器等)通常都會經(jīng)過諸如薄膜沉積、擴(kuò)散、熱處理、刻蝕、拋光、清洗等多道工藝步驟。許多工藝都是在腔室內(nèi)進(jìn)行、并通過機(jī)械手來向腔室內(nèi)傳送晶片的。為了保證將腔室與外部環(huán)境相隔絕，防止腔室的工藝條件受到干擾，避免晶片產(chǎn)生不良反應(yīng)及受到污染，需要對腔室建立良好的密封。
[0003]例如，對于晶片的清洗工藝來講，隨著半導(dǎo)體工藝設(shè)備的發(fā)展，對集成電路晶片的清洗制造工藝要求也越來越高。在集成電路清洗工藝過程中，由于用來清洗晶片的化學(xué)藥液大部分都具有強(qiáng)酸性、強(qiáng)堿性和易揮發(fā)性，對周圍的零部件有腐蝕影響，所以工藝時(shí)，對于晶片所處腔室內(nèi)部的微環(huán)境有較高的要求。
[0004]因此，對于包括半導(dǎo)體清洗、氧化爐等各類設(shè)備的腔室來講，為了保證在腔室內(nèi)形成一個(gè)良好的內(nèi)部微環(huán)境，需要對晶片所在工藝腔室進(jìn)行密封，以使晶片與周圍的環(huán)境進(jìn)行隔絕。同時(shí)，由于機(jī)械手在對晶片進(jìn)行抓取與放置的過程中，又不可避免地會通過腔室門的開合使腔室與外部環(huán)境連通，為使晶片在清洗的過程中盡可能地減小外部環(huán)境對其的影響，在機(jī)械手退出工藝環(huán)境后，還需要對腔室進(jìn)行及時(shí)地再次密封，以保證腔室內(nèi)部的工藝要求。
[0005]現(xiàn)有對腔室的密封，通常是采用在腔室門上安裝橡膠密封件的方式，來與腔室門孔之間建立密封的。但是，單純采用橡膠密封件作為密封介質(zhì)所存在的缺陷是，橡膠密封件易受腐蝕或受高溫輻射產(chǎn)生變形，導(dǎo)致密封失效，且在腔室門未能均勻靠壓腔室門孔時(shí)，也容易造成泄漏現(xiàn)象。
[0006]因此，設(shè)計(jì)一種結(jié)構(gòu)簡單易行，較容易實(shí)現(xiàn)腔室門的可靠密封的密封裝置，成為業(yè)界當(dāng)前一個(gè)重要課題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0007]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，提供一種用于腔室門的密封裝置，可較容易地實(shí)現(xiàn)腔室門的運(yùn)動(dòng)和可靠密封，且結(jié)構(gòu)簡單易行。
[0008]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下:
[0009]一種用于腔室門的密封裝置，包括:
[0010]腔室隔板，設(shè)于腔室與機(jī)械手運(yùn)動(dòng)區(qū)域之間，用于將腔室與其他區(qū)域相隔離；所述腔室隔板設(shè)有門孔，用于機(jī)械手向腔室傳取晶片；所述腔室隔板外側(cè)平行活動(dòng)設(shè)有與所述門孔相配合的腔室門，用于受驅(qū)動(dòng)沿直線平移至所述門孔對應(yīng)位置或反向移開；
[0011]第一磁鐵、第二磁鐵和第三磁鐵，所述第一磁鐵設(shè)于所述腔室隔板外側(cè)，并包圍所述門孔；所述第二磁鐵設(shè)于所述腔室隔板外側(cè)，并位于所述第一磁鐵以外的所述腔室門的移動(dòng)區(qū)域；所述第三磁鐵水平滑動(dòng)設(shè)于所述腔室門的內(nèi)側(cè)；
[0012]其中，當(dāng)所述腔室門移至所述門孔對應(yīng)位置時(shí)，通過在所述第三磁鐵與所述第一磁鐵之間產(chǎn)生相反極性相吸，使所述第三磁鐵通過水平滑動(dòng)與所述第一磁鐵吸合，將所述門孔密封；通過在所述第三磁鐵與所述第一、第二磁鐵之間產(chǎn)生相同極性相斥，使所述第三磁鐵通過水平滑動(dòng)與所述第一磁鐵分離，將所述門孔打開，并與所述第二磁鐵保持間隙，以跟隨所述腔室門移動(dòng)。
[0013]優(yōu)選地，所述門孔的兩側(cè)設(shè)有一副導(dǎo)軌，所述導(dǎo)軌設(shè)有滑塊，所述滑塊連接所述腔室門的兩側(cè)，所述腔室門受驅(qū)動(dòng)沿所述導(dǎo)軌向所述門孔平移或移開。
[0014]優(yōu)選地，所述導(dǎo)軌設(shè)于所述門孔的左右或上下兩側(cè)。
[0015]優(yōu)選地，所述腔室門與所述第三磁鐵之間通過相配合的導(dǎo)向柱和導(dǎo)槽形成水平滑動(dòng)連接。
[0016]優(yōu)選地，所述腔室門內(nèi)側(cè)設(shè)有水平柱形導(dǎo)向柱，所述第三磁鐵相對側(cè)設(shè)有與所述導(dǎo)向柱相配合的導(dǎo)槽。
[0017]優(yōu)選地，所述導(dǎo)向柱位于所述腔室門的內(nèi)側(cè)中心。
[0018]優(yōu)選地，所述腔室門連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0019]優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸或連桿。
[0020]優(yōu)選地，所述第一磁鐵和第三磁鐵其中之一為電磁鐵。
[0021]優(yōu)選地，所述第一磁鐵和第三磁鐵至少有一個(gè)為電磁鐵。
[0022]從上述技術(shù)方案可以看出，本實(shí)用新型通過在腔室隔板外側(cè)的門孔周圍設(shè)置第一磁鐵，在第一磁鐵以外的隔板外側(cè)的腔室門移動(dòng)區(qū)域設(shè)置第二磁鐵，以及在腔室門的內(nèi)側(cè)水平滑動(dòng)設(shè)置第三磁鐵，并利用磁鐵之間同極性排斥、異極性相吸的原理，通過在第三磁鐵與第一磁鐵之間產(chǎn)生相反極性相吸，使第三磁鐵通過水平滑動(dòng)與第一磁鐵吸合，將門孔密封；通過在第三磁鐵與第一、第二磁鐵之間產(chǎn)生相同極性相斥，使第三磁鐵通過水平滑動(dòng)與第一磁鐵分離，將門孔打開，并與第二磁鐵保持間隙，以跟隨腔室門移動(dòng)；同時(shí)，利用驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)及導(dǎo)軌傳動(dòng)，可使得腔室門運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)、定位可控。本實(shí)用新型在機(jī)械手退出腔室后，能夠及時(shí)對腔室進(jìn)行磁性密封，具有結(jié)構(gòu)簡單、易實(shí)現(xiàn)的顯著特點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體清洗、氧化爐等設(shè)備的密封。
【附圖說明】
[0023]圖I是本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種用于腔室門的密封裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖2是圖I實(shí)施例中的密封裝置全部打開時(shí)的工作狀態(tài)示意圖；
[0025]圖3是圖I實(shí)施例中的密封裝置全部關(guān)閉時(shí)的工作狀態(tài)示意圖。
[0026]圖中I.腔室隔板，2.導(dǎo)軌，3.腔室門；4.滑塊；5.第一磁鐵；6.第二磁鐵；7.第三磁鐵；8.驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)（氣缸）；9·導(dǎo)向柱；10.導(dǎo)槽；11.門孔。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
[0028]需要說明的是，在下述的【具體實(shí)施方式】中，在詳述本實(shí)用新型的實(shí)施方式時(shí)，為了清楚地表示本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)以便于說明，特對附圖中的結(jié)構(gòu)不依照一般比例繪圖，并進(jìn)行了局部放大、變形及簡化處理，因此，應(yīng)避免以此作為對本實(shí)用新型的限定來加以理解。
[0029]在以下本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】中，請參閱圖1，圖1是本實(shí)用新型一優(yōu)選實(shí)施例的一種用于腔室門的密封裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示，本實(shí)用新型的用于腔室門的密封裝置包括開有門孔11的腔室隔板1、腔室門3、第一磁鐵5、第二磁鐵6 (未顯示)以及第三磁鐵7。
[0030]請繼續(xù)參閱圖1。所述腔室隔板I設(shè)于腔室與機(jī)械手(圖略)的運(yùn)動(dòng)區(qū)域之間，用于將腔室與其他區(qū)域相隔離。腔室隔板I可加工成與腔室相配合的適當(dāng)形狀。在本實(shí)施例的圖1中，示例性地顯示了一種門板形狀的腔室隔板I。在所述腔室隔板I的適當(dāng)位置加工有一個(gè)門孔11，用于機(jī)械手向腔室傳取晶片。本說明書中所述的晶片可代表多種類型的盤狀物，例如半導(dǎo)體晶片、光盤或是平板顯示器等。作為可選的實(shí)施方式，門孔11可以是矩形、圓形或其他適用的孔型。門孔11的尺寸可根據(jù)機(jī)械手的尺寸與晶片的尺寸而定。在本實(shí)施例的圖1中，示例性地顯示了一種矩形形狀的門孔11。
[0031]請繼續(xù)參閱圖1。腔室門3以可移動(dòng)的方式平行活動(dòng)安裝在所述腔室隔板I的外偵牝并連接驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)8，用于受驅(qū)動(dòng)沿直線平移至所述門孔11的對應(yīng)位置或從所述門孔11的對應(yīng)位置反向移開。作為一可選實(shí)施方式，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)8可以采用氣缸或連桿等形式。作為優(yōu)選，本實(shí)用新型采用了如圖1所示的氣缸8作為驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。將氣缸8的缸桿與腔室門3固定連接，即可使腔室門3跟隨缸桿作平行于腔室隔板I的直線運(yùn)動(dòng)。采用氣缸驅(qū)動(dòng)形式，可以設(shè)置腔室門的移動(dòng)距離，實(shí)現(xiàn)對其移動(dòng)的定位，較為容易控制腔室門的開啟高度。
[0032]同時(shí)，為了保證腔室門3的平穩(wěn)運(yùn)動(dòng)，可在所述門孔11的兩側(cè)安裝一副導(dǎo)軌2，所述導(dǎo)軌2設(shè)有滑塊4，所述滑塊4連接所述腔室門3的兩側(cè)。為保持平衡及運(yùn)動(dòng)的順暢，可在腔室門3兩側(cè)的上下位置各對稱安裝一個(gè)滑塊4。這樣，所述腔室門3在受到所述氣缸8的驅(qū)動(dòng)時(shí)，即可沿所述導(dǎo)軌2向所述門孔11平移或從所述門孔11移開。作為可選的實(shí)施方式，所述導(dǎo)軌2可平行安裝在所述門孔11的左右或上下兩側(cè)。本實(shí)施例采用將導(dǎo)軌2平行安裝在門孔11左右兩側(cè)的形式，可使得腔室門3在受到其下方連接的所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)氣缸8的驅(qū)動(dòng)時(shí)，沿所述導(dǎo)軌2垂直向上平行移向所述門孔11或從所述門孔11向下移開。腔室門3的移動(dòng)位置，也可以通過在導(dǎo)軌2設(shè)置限位機(jī)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)對其開啟高度的定位控制。
[0033]請繼續(xù)參閱圖1。所述第一磁鐵5固定安裝在所述腔室隔板I的外側(cè)(即機(jī)械手的進(jìn)手側(cè))，并將所述門孔11包圍住。在本實(shí)施例中，所述第一磁鐵5被加工成矩形環(huán)狀，并與門孔11的尺寸相對應(yīng)，可固定安裝在門孔11的周圍。
[0034]請參閱圖2和圖3，其分別顯示圖1所示的上述實(shí)施例中的密封裝置全部打開和關(guān)閉時(shí)的工作狀態(tài)。如圖2所示，所述第二磁鐵6固定安裝