壓電振動(dòng)片及壓電裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種抑制了晶體阻抗（CI）的上升的壓電振動(dòng)片及壓電裝置。壓電振動(dòng)片（130）包括：振動(dòng)部（131），以預(yù)定的振動(dòng)頻率而振動(dòng)，且在兩主面具有激振電極（134a、134b），且以預(yù)定的厚度而形成；框部（132），包圍振動(dòng)部的周圍；及連結(jié)部（133），連結(jié)振動(dòng)部及框部；且振動(dòng)部的側(cè)面的至少一部分是：以振動(dòng)部的厚度隨著朝向振動(dòng)部的外周而變薄的方式，而形成為楔狀；且形成從各激振電極分別經(jīng)由連結(jié)部而被引出至框部的引出電極（135a、135b）；一個(gè)引出電極是：經(jīng)由振動(dòng)部的形成為楔狀的側(cè)面，而從一個(gè)主面被引出至另一個(gè)主面。
【專利說明】壓電振動(dòng)片及壓電裝直【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種形成著框部的壓電振動(dòng)片及壓電裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]已知一種壓電振動(dòng)片，包括:振動(dòng)部，以預(yù)定的振動(dòng)頻率而振動(dòng)；框部，以包圍振動(dòng)部的方式而形成；及連結(jié)部，連結(jié)振動(dòng)部及框部。這種壓電振動(dòng)片在框部的一個(gè)主面及另一個(gè)主面上，分別經(jīng)由接合材料而接合基底板及蓋板，從而形成壓電裝置。在壓電振動(dòng)片的振動(dòng)部的兩主面上形成一對(duì)激振電極，從各激振電極分別將引出電極引出至框部。
[0003]在壓電振動(dòng)片上形成的一對(duì)引出電極是電性地連接到安裝端子，所述安裝端子形成在與壓電振動(dòng)片的一個(gè)主面接合的基底板。因此，從在壓電振動(dòng)片的面向蓋板的主面形成的激振電極而引出的引出電極是:被引出至框部的面向基底板的主面。此時(shí)，引出電極經(jīng)由振動(dòng)部、連結(jié)部、或框部的至少一個(gè)側(cè)面而形成。例如，專利文獻(xiàn)I中揭示了在連結(jié)部的側(cè)面形成著引出電極的壓電振動(dòng)片。
[0004][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0005][專利文獻(xiàn)]
[0006][專利文獻(xiàn)I]日本專利特開2012-90081號(hào)公報(bào)
[0007]然而，專利文獻(xiàn)I中存在如下問題:由于引出電極主要經(jīng)由形成在連結(jié)部等的主面與側(cè)面之間的直角的角部、而從主面被引出至側(cè)面，因此引出電極斷線或電阻變高，或壓電振動(dòng)片的晶體阻抗(crystal impedance, Cl)上升。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]本發(fā)明的目的在于提供一種抑制了晶體阻抗(Cl)的上升的壓電振動(dòng)片及壓電裝置。
[0009]弟I觀點(diǎn)的壓電振動(dòng)片包括:振動(dòng)部，以預(yù)定的振動(dòng)頻率而振動(dòng)，且在兩王面具有激振電極，且以預(yù)定的厚度而形成；框部，包圍振動(dòng)部的周圍；及連結(jié)部，連結(jié)振動(dòng)部及框部；且振動(dòng)部的側(cè)面的至少一部分是:以振動(dòng)部的厚度隨著朝向振動(dòng)部的外周而變薄的方式，而形成為楔狀；且形成從各激振電極分別經(jīng)由連結(jié)部而引出至框部的引出電極，一個(gè)引出電極是:經(jīng)由振動(dòng)部的形成為楔狀的側(cè)面，而從一個(gè)主面被引出至另一個(gè)主面。
[0010]第2觀點(diǎn)的壓電振動(dòng)片如第I觀點(diǎn)，其中，形成引出電極的振動(dòng)部的形成為楔狀的側(cè)面是:與連結(jié)部鄰接形成。
[0011]第3觀點(diǎn)的壓電振動(dòng)片如第I觀點(diǎn)或第2觀點(diǎn)，其中，一個(gè)引出電極是:經(jīng)由連結(jié)部的側(cè)面，而從一個(gè)主面被引出至另一個(gè)主面。
[0012]第4觀點(diǎn)的壓電振動(dòng)片如第I觀點(diǎn)至第3觀點(diǎn)中的任一觀點(diǎn)，其中，一個(gè)弓丨出電極是:經(jīng)由框部的面向振動(dòng)部的側(cè)面，而從一個(gè)主面被引出至另一個(gè)主面。
[0013]第5觀點(diǎn)的壓電振動(dòng)片如第I觀點(diǎn)至第4觀點(diǎn)中的任一觀點(diǎn)，其中，形成著I根或多根連結(jié)部。[0014]第6觀點(diǎn)的壓電裝置包括:第I觀點(diǎn)至第5觀點(diǎn)中記載的壓電振動(dòng)片、與框部的另一個(gè)主面接合的基底板、以及與框部的一個(gè)主面接合且密封振動(dòng)部的蓋板。
[0015][發(fā)明的效果]
[0016]根據(jù)本發(fā)明的壓電振動(dòng)片及壓電裝置，可以抑制晶體阻抗(Cl)的上升。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1是壓電裝置100的分解立體圖。
[0018]圖2是圖1的A-A剖視圖。
[0019]圖3 Ca)是壓電振動(dòng)片130的俯視圖。
[0020]圖3 (b)是從+Y’軸側(cè)觀察的壓電振動(dòng)片130的-Y’軸側(cè)的面的俯視圖。
[0021]圖3 (C)是圖3 Ca)及圖3 (b)的B-B剖視圖。
[0022]圖4是壓電晶片W130的俯視圖。
[0023]圖5 Ca)~圖5 Cd)是表示在壓電晶片W130上形成壓電振動(dòng)片130的過程的流程圖。
[0024]圖6 Ca)~圖6 Cd)是表示在壓電晶片W130上形成壓電振動(dòng)片130的過程的流程圖。
[0025]圖7 (a)是壓電振 動(dòng)片230的俯視圖。
[0026]圖7 (b)是圖7 Ca)的D-D剖視圖。
[0027]圖8 Ca)是壓電振動(dòng)片330的俯視圖。
[0028]圖8 (b)是從+Y’軸側(cè)觀察的壓電振動(dòng)片330的-Y’軸側(cè)的面的俯視圖。
[0029]符號(hào)的說明:
[0030]100壓電裝置
[0031]110蓋板
[0032]111凹部
[0033]112接合面
[0034]120基底板
[0035]121凹部
[0036]122接合面
[0037]123連接電極
[0038]124安裝端子
[0039]125城堡型結(jié)構(gòu)電極
[0040]126城堡型結(jié)構(gòu)
[0041]130,230,330壓電振動(dòng)片
[0042]131,231振動(dòng)部
[0043]132框部
[0044]133、233、333連結(jié)部
[0045]134a、134b激振電極
[0046]135a、135b、335a、335b 引出電極
[0047]136、336貫通槽[0048]137a振動(dòng)部的側(cè)面
[0049]137b,237b,337b 連結(jié)部的側(cè)面
[0050]137c框部的側(cè)面
[0051]138a臺(tái)面區(qū)域
[0052]138b>238b周邊區(qū)域
[0053]140接合材料
[0054]141金屬膜
[0055]142光刻膠
[0056]150空腔
[0057]161、162掩模
[0058]171劃線
[0059]238c連結(jié)區(qū)域
[0060]A-A、B-B、C-C、D-D剖面
[0061]SlOl ~S108步驟
[0062]T1、T2厚度
[0063]Χ、Υ，、Ζ，軸
[0064]Wl 30壓電晶片
【具體實(shí)施方式】
[0065]以下，基于圖式詳細(xì)地說明本發(fā)明的較好的實(shí)施方式。另外，本發(fā)明的范圍只要在以下的說明中，不存在特別限定本發(fā)明的主旨的記載，并且不限于這些形態(tài)。
[0066](第I實(shí)施方式)
[0067]<壓電裝置100的構(gòu)成>
[0068]圖1是壓電裝置100的分解立體圖。壓電裝置100包括:蓋板110、基底板120、及壓電振動(dòng)片130。壓電振動(dòng)片130例如使用AT切割(cut)的水晶振動(dòng)片。AT切割的水晶振動(dòng)片的主面(YZ面)相對(duì)于結(jié)晶軸(XYZ)的Y軸，以X軸為中心而從Z軸向Y軸方向傾斜35度15分。在以下的說明中，以AT切割的水晶振動(dòng)片的軸方向?yàn)榛鶞?zhǔn)，使用已傾斜的新的軸作為Y’軸及Z’軸。即，在壓電裝置100中，將壓電裝置100的長(zhǎng)邊方向作為X軸方向，將壓電裝置100的高度方向作為Y’軸方向，將與X及Y’軸方向垂直的方向作為Z’軸方向而進(jìn)行說明。
[0069]壓電振動(dòng)片130包括:振動(dòng)部131，以預(yù)定的振動(dòng)頻率而振動(dòng)且形成為矩形形狀；框部132，包圍振動(dòng)部131 ;及連結(jié)部133，連結(jié)振動(dòng)部131及框部132 ;且在振動(dòng)部131與框部132之間形成著在Y’軸方向貫通壓電振動(dòng)片130的貫通槽136。連結(jié)部133連結(jié)著振動(dòng)部131的-X軸側(cè)的邊的中央、及-X軸側(cè)的框部132的側(cè)面。在振動(dòng)部131的+Y’軸側(cè)的面及-Y’軸側(cè)的面，分別形成著激振電極134a及激振電極134b。從激振電極134a及激振電極134b經(jīng)由連結(jié)部133，分別將引出電極135a及引出電極135b引出至框部132的-Y’軸側(cè)的面的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)及+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)。而且，在振動(dòng)部131形成著:臺(tái)面區(qū)域138a及周邊區(qū)域138b,所述臺(tái)面區(qū)域138a形成有激振電極134a及激振電極134b,所述周邊區(qū)域138b形成在臺(tái)面區(qū)域138a的周圍，且所述周邊區(qū)域138b的Y’軸方向的厚度比臺(tái)面區(qū)域138a更薄。
[0070]基底板120在+Y’軸側(cè)的面，形成著:向-Y’軸側(cè)凹陷的凹部121、包圍凹部121的接合面122、及配置在接合面122的+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)及-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的角部的連接電極123。接合面122經(jīng)由接合材料140 (參照?qǐng)D2)而與壓電振動(dòng)片130的框部132的-Y’軸側(cè)的面接合。而且，在基底板120的-Y’軸側(cè)的面形成著一對(duì)安裝端子124。進(jìn)而，在基底板120的四角的側(cè)面形成著城堡型結(jié)構(gòu)(castellation)126,在+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)及-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的城堡型結(jié)構(gòu)126的側(cè)面形成著城堡型結(jié)構(gòu)電極125。城堡型結(jié)構(gòu)電極125將連接電極123及安裝端子124電性地連接。而且，在-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的角部形成的連接電極123，是電性地連接于在引出至壓電振動(dòng)片130的-Y’軸側(cè)的面的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的角部的引出電極135a ;在+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)的角部形成的連接電極123，是電性地連接于在引出至壓電振動(dòng)片130的-Y’軸側(cè)的面的+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)的角部的引出電極135b。
[0071]蓋板110在-Y’軸側(cè)的面，形成著:凹部111、及包圍凹部111的接合面112。接合面112經(jīng)由接合材料140 (參照?qǐng)D2)而與壓電振動(dòng)片130的框部132的+Y’軸側(cè)的面接
八
口 ο
[0072]圖2是圖1的A-A剖視圖。壓電裝置100是:在壓電振動(dòng)片130的+Y’軸側(cè)配置著蓋板110，在-Y’軸側(cè)配置著基底板120。而且，在壓電裝置100的內(nèi)部，由蓋板110的凹部111及基底板120的凹部121形成著空腔(cavity) 150，在空腔150內(nèi)配置著壓電振動(dòng)片130的振動(dòng)部131?？涨?50是通過在蓋板110的接合面112與框部132的+Y’軸側(cè)的面之間、及基底板120的接合面122與框部132的-Y’軸側(cè)的面之間形成接合材料140而被密封。而且，在框部132中形成的引出電極135a及引出電極135b通過電性地連接于形成在基底板120的連接電極123，而使激振電極134a及激振電極134b與安裝端子124電性地連接。
[0073]圖3 (a)是壓電振動(dòng)片130的俯視圖。在壓電振動(dòng)片130的+Y’軸側(cè)的面形成著激振電極134a及引出電極135a，激振電極134a形成在振動(dòng)部131的臺(tái)面區(qū)域138a。引出電極135a從激振電極134a向-X軸方向延伸，且經(jīng)由連結(jié)部133形成至框部132的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)。而且，引出電極135a主要經(jīng)由振動(dòng)部131的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的側(cè)面137a、連結(jié)部133的+Z’軸側(cè)的側(cè)面137b、及框部132的面向振動(dòng)部131的內(nèi)側(cè)側(cè)面的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的側(cè)面137c，而被引出至-Y’軸側(cè)的面。
[0074]圖3 (b)是從+Y’軸側(cè)觀察的壓電振動(dòng)片130的-Y’軸側(cè)的面的俯視圖。引出電極135b從形成在振動(dòng)部131的-Y’軸側(cè)的面的臺(tái)面區(qū)域138a中的激振電極134b向-X軸方向延伸，進(jìn)而，經(jīng)由連結(jié)部133而形成至框部132的-Y’軸側(cè)的面的+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)為止。而且，從+Y’軸側(cè)的面經(jīng)由側(cè)面137a、137b、137c而被引出的引出電極135a，是被引出至框部132的-Y’軸側(cè)的面的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的角部為止。
[0075]圖3 (C)是圖3 (a)及圖3 (b)的B-B剖視圖。在振動(dòng)部131的+Y’軸側(cè)的面形成的引出電極135a，是經(jīng)由側(cè)面137a而被引出至振動(dòng)部131的-Y’軸側(cè)的面。而且，在框部132的+Y’軸側(cè)形成的引出電極135a，是經(jīng)由側(cè)面137c而被引出至框部132的-Y’軸側(cè)的面。在壓電振動(dòng)片130中，如果將振動(dòng)部131的周邊區(qū)域138b的Y’軸方向的厚度設(shè)為厚度Tl，將框部132的Y’軸方向的厚度設(shè)為厚度T2，那么厚度Tl形成得比厚度T2更薄。而且，振動(dòng)部131的側(cè)面137a的+Y’軸側(cè)及-Y’軸側(cè)，是以振動(dòng)部131的厚度隨著朝向振動(dòng)部131的外周而變薄的方式形成為楔(taper)狀。
[0076]<壓電振動(dòng)片130的制作方法>
[0077]圖4是壓電晶片W130的俯視圖。壓電振動(dòng)片130是:在由壓電材料形成的壓電晶片W130形成多個(gè)壓電振動(dòng)片130的外形，進(jìn)而通過形成激振電極134a、激振電極134b、弓丨出電極135a、及引出電極135b，而進(jìn)行制作。在圖4所示的壓電晶片W130中，在X軸方向及Z’軸方向并列形成多個(gè)壓電振動(dòng)片130。在相互鄰接的壓電振動(dòng)片130之間表示著劃線(scribe line) 171。壓電振動(dòng)片130是:通過在壓電晶片W130上形成之后、沿著劃線171切斷壓電晶片W130，而分割成一個(gè)個(gè)的壓電振動(dòng)片130。
[0078]圖5 Ca)?圖5 Cd)及圖6 Ca)?圖6 Cd)是表示在壓電晶片W130上形成壓電振動(dòng)片130的過程的流程圖。而且，在圖5 (a)?圖5 (d)及圖6 (a)?圖6 (d)中，在流程圖的各步驟的相鄰右側(cè)，表示著用以說明各步驟的壓電晶片W130的部分剖視圖。該部分剖視圖是相當(dāng)于圖4的C-C剖面的剖視圖。以下，根據(jù)圖5 (a)?圖5 (d)及圖6 (a)?圖6 Cd)的流程圖，對(duì)在壓電晶片W130上形成壓電振動(dòng)片130的過程進(jìn)行說明。
[0079]在圖5 (a)的步驟SlOl中，準(zhǔn)備壓電晶片W130。圖5 (a)是步驟SlOl中準(zhǔn)備的壓電晶片W130的部分剖視圖。步驟SlOl中準(zhǔn)備的壓電晶片W130的+Y’軸側(cè)的面及-Y’軸側(cè)的面是平坦地形成。
[0080]在步驟S102中，在壓電晶片W130的+Y’軸側(cè)及-Y’軸側(cè)的兩面形成金屬膜141及光刻膠(photoresist) 142。圖5 (b)是形成了金屬膜141及光刻膠142的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S102中，首先，在步驟SlOl中準(zhǔn)備的壓電晶片W130上形成金屬膜141。進(jìn)而，在金屬膜141的表面形成光刻膠142。金屬膜141是:通過在壓電晶片W130上將預(yù)定的金屬進(jìn)行派鍍(sputtering)或真空蒸鍍等而形成。金屬膜141例如是:通過在壓電晶片W130上形成鎳(Ni)、鉻(Cr)、鈦(Ti)或鎳.鎢(NiW)等膜作為基底，且在基底的上表面成膜了金(Au)或銀(Ag)等而形成。光刻膠142是利用旋轉(zhuǎn)涂布(spin coating)等方法，而均勻地涂布在金屬膜141的表面。
[0081]在步驟S103中，進(jìn)行光刻膠142的曝光及顯影，且進(jìn)行金屬膜141的除去。圖5(c)是進(jìn)行了光刻膠142的曝光及顯影，且進(jìn)行了金屬膜141的除去的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S103中，首先，在壓電晶片W130的+Y’軸側(cè)及-Y’軸側(cè)配置掩模(mask)161，對(duì)光刻膠142進(jìn)行曝光，且對(duì)光刻膠142進(jìn)行顯影。進(jìn)而，通過蝕刻除去金屬膜141。使用掩模161進(jìn)行曝光的光刻膠142是形成貫通槽136的區(qū)域的+Y’軸側(cè)及-Y’軸側(cè)的面，且除去該區(qū)域的光刻膠142及金屬膜141。
[0082]在步驟S104中，對(duì)壓電晶片W130進(jìn)行蝕刻而形成貫通槽136。圖5 (d)是形成了貫通槽136的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S104中，通過對(duì)壓電晶片W130進(jìn)行蝕亥IJ，而在壓電晶片W130上形成了在Y’軸方向進(jìn)行貫通的貫通槽136。
[0083]在圖6 (a)的步驟S105中，在壓電晶片W130形成金屬膜141及光刻膠142。圖6
(a)是形成了金屬膜141及光刻膠142的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S105中，除去了步驟S104中殘留的金屬膜141及光刻膠142的全部，且再次在壓電晶片W130的整體上形成金屬膜141及光刻膠142。
[0084]在步驟S106中，進(jìn)行光刻膠142的曝光及顯影，且進(jìn)行金屬膜141的除去。圖6(b)是進(jìn)行了光刻膠142的曝光及顯影、且除去金屬膜141的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S106中，隔著掩模162對(duì)形成在振動(dòng)部131的周邊區(qū)域138b及連結(jié)部133上的光刻膠142進(jìn)行曝光，且對(duì)光刻膠142進(jìn)行顯影。進(jìn)而，通過蝕刻除去金屬膜141。在步驟S106中，露出振動(dòng)部131的周邊區(qū)域138b及連結(jié)部133。
[0085]在步驟S107中，對(duì)壓電晶片W130進(jìn)行蝕刻。圖6(c)是已被蝕刻的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S107中，通過利用蝕刻使壓電晶片W130的周邊區(qū)域138b的厚度變薄而形成臺(tái)面區(qū)域138a。而且,從Y’軸方向及面向貫通槽136的側(cè)面的兩個(gè)方向，對(duì)周邊區(qū)域138b的外周的主面與側(cè)面之間的角部進(jìn)行蝕刻，因此，周邊區(qū)域138b的側(cè)面的+Y’軸側(cè)及-Y’軸側(cè)如圖3 (c)及圖6 (c)所示，形成為楔狀。
[0086]在步驟108中，在壓電晶片W130上形成激振電極及引出電極。圖6 (d)是形成著激振電極及引出電極的壓電晶片W130的部分剖視圖。在步驟S108中，從圖6(c)的壓電晶片W130除去全部的光刻膠142及金屬膜141之后，在壓電晶片W130形成激振電極134a、激振電極134b、引出電極135a、及引出電極135b。引出電極135a是:經(jīng)由側(cè)面137a跨越+Y’軸側(cè)的面及-Y’軸側(cè)的面而形成。而且，引出電極135a也形成在連結(jié)部133的側(cè)面137b及框部132的側(cè)面137c。在步驟S108之后，利用劃線171切斷各壓電振動(dòng)片130，而進(jìn)行單片化。
[0087]在將壓電振動(dòng)片的引出電極從+Y’軸側(cè)的主面引出至-Y’軸側(cè)的主面的情況下，有在主面與側(cè)面之間的角部等中，引出電極導(dǎo)通不良或電阻增大，且壓電振動(dòng)片的晶體阻抗(Cl)變高的情況。引出電極的導(dǎo)通不良或電阻的增大起因于如下情況:在主面與側(cè)面之間的角部的角度接近直角的情況下，難以向該角部形成引出電極，必須更嚴(yán)格地控制光刻膠的涂布及曝光條件等；以及，在利用濺鍍等所進(jìn)行的向側(cè)面的電極形成中，電極的材料不易流回至側(cè)面，使側(cè)面中的膜厚變薄。對(duì)此，以壓電振動(dòng)片130的振動(dòng)部131的主面與側(cè)面之間的角部的角度變?yōu)榇笥?0度的方式，將振動(dòng)部131的側(cè)面形成為楔狀。因此，光刻膠的涂布及曝光條件等的控制變得容易，向角部的引出電極的形成變得容易。而且，電極的材料變得容易流回至形成為楔狀的側(cè)面，改善了側(cè)面的膜厚變薄。因此，變得難以在引出電極135a中引起導(dǎo)通不良或電阻的增大等，可抑制晶體阻抗(Cl)的上升、并且可保持較低的晶體阻抗(Cl)。
[0088]而且，在壓電振動(dòng)片130中，從+Y’軸側(cè)的面被引出至-Y’軸側(cè)的面的引出電極135a是:經(jīng)由貫通槽136的側(cè)面被引出。在引出電極135a形成在貫通槽136的側(cè)面時(shí)，在引出了引出電極135a的區(qū)域的周邊也附著構(gòu)成電極的金屬膜。亦即，即使想僅在框部132的面向振動(dòng)部131的內(nèi)側(cè)側(cè)面形成引出電極，經(jīng)由貫通槽136在引出電極的周邊的振動(dòng)部131也形成金屬膜。這樣一來，形成在振動(dòng)部131的金屬膜對(duì)振動(dòng)部131的振動(dòng)產(chǎn)生不良影響。在壓電振動(dòng)片130中，優(yōu)選的是，通過在本來對(duì)振動(dòng)產(chǎn)生不良影響的連結(jié)部133及其周邊形成引出電極135a，而使在振動(dòng)部131的一部分中形成引出電極135a的不良影響不易明顯化。
[0089]進(jìn)而，在壓電振動(dòng)片130中，通過在連結(jié)部133的側(cè)面137b及框部132的側(cè)面137c中也形成引出電極135a、而從+Y’軸側(cè)被引出至-Y’軸側(cè)的面的引出電極135a的寬度變寬，從而將引出電極135a的電阻抑制地較低，因此而優(yōu)選。而且，優(yōu)選的是，在壓電振動(dòng)片130中，連結(jié)部133的側(cè)面137b也形成為楔狀，變得難以在引出電極135a中引起導(dǎo)通不良或電阻的增大。
[0090](第2實(shí)施方式)
[0091]壓電振動(dòng)片也可以形成為與壓電振動(dòng)片130不同的外形形狀。以下，作為壓電振動(dòng)片的變化例，對(duì)壓電振動(dòng)片230及壓電振動(dòng)片330進(jìn)行說明。而且，在以下的說明中，關(guān)于與第I實(shí)施方式相同的部分，附加與第I實(shí)施方式相同的編號(hào)而省略其說明。
[0092]<壓電振動(dòng)片230的構(gòu)成>
[0093]圖7(a)是壓電振動(dòng)片230的俯視圖。壓電振動(dòng)片230是由振動(dòng)部231、框部132、及連結(jié)部233而形成。振動(dòng)部231的平面形狀形成為:在X軸方向長(zhǎng)邊延伸，在Z’軸方向短邊延伸的矩形形狀。連結(jié)部233連結(jié)振動(dòng)部231的-X軸側(cè)的邊的中央、及框部132的-X軸側(cè)的內(nèi)側(cè)側(cè)面。而且，在振動(dòng)部231中形成著臺(tái)面區(qū)域138a，在與連結(jié)部233連結(jié)的部分中形成著連結(jié)區(qū)域238c，在除此以外的區(qū)域中形成著周邊區(qū)域238b。連結(jié)區(qū)域238c形成在振動(dòng)部231的-X軸側(cè)的邊的中央，連結(jié)區(qū)域238c與臺(tái)面區(qū)域138a未連結(jié)。而且，在壓電振動(dòng)片230上形成著激振電極134a、激振電極134b、引出電極135a、及引出電極135b。引出電極135a主要經(jīng)由振動(dòng)部231的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的側(cè)面137a、連結(jié)部233的-Z’軸側(cè)的側(cè)面237b、及框部132的面向振動(dòng)部131的內(nèi)側(cè)側(cè)面的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的側(cè)面137c，而被引出至-Y’軸側(cè)的面。壓電振動(dòng)片230的-Y’軸側(cè)的面的平面形狀與圖3 (b)相同。而且，圖7 (a)的B-B剖面與圖3 (c)相同。
[0094]圖7(b)是圖7(a)的D-D剖視圖。在壓電振動(dòng)片230中，將框部132、連結(jié)部233、連結(jié)區(qū)域238c、及臺(tái)面區(qū)域138a的厚度形成為厚度T2。而且，周邊區(qū)域238b的厚度形成為比厚度T2更薄的厚度Tl。在壓電振動(dòng)片230中，通過將連結(jié)部233形成為與框部132相同的厚度，及將連結(jié)區(qū)域238c與連結(jié)部233形成為相同的厚度，而將連結(jié)部233的機(jī)械強(qiáng)度形成得較強(qiáng)，使壓電振動(dòng)片230相對(duì)于跌落等的沖擊變強(qiáng)。
[0095]<壓電振動(dòng)片330的構(gòu)成>
[0096]圖8 (a)是壓電振動(dòng)片330的俯視圖。壓電振動(dòng)片330包括:振動(dòng)部131、框部132、及連結(jié)部333。連結(jié)部333分別與振動(dòng)部131的-X軸側(cè)的邊的+Z’軸側(cè)及-Z’軸側(cè)連結(jié)，且在-X軸方向延伸而與框部132連結(jié)。連結(jié)部333的厚度形成為與周邊區(qū)域138b相同的厚度。而且，在+Y’軸側(cè)的面的臺(tái)面區(qū)域138a中形成著激振電極134a，將引出電極335a從激振電極134a引出至-X軸方向。引出電極335a通過+Z’軸側(cè)的連結(jié)部333，而形成至框部132的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)為止。而且，引出電極335a經(jīng)由側(cè)面137a、+Z’軸側(cè)的連結(jié)部333的+Z’軸側(cè)的側(cè)面337b、及側(cè)面137c，而從+Y’軸側(cè)的面被引出至-Y’軸側(cè)的面為止。而且，圖8 (a)的B-B剖面與圖3 (c)相同。
[0097]圖8 (b)是從+Y’軸側(cè)觀察的壓電振動(dòng)片330的-Y’軸側(cè)的面的俯視圖。在振動(dòng)部131的-Y’軸側(cè)的面形成著激振電極134b，引出電極335b從激振電極134b向-X軸方向延伸，該引出電極335b經(jīng)由-Z’軸側(cè)的連結(jié)部333而形成至框部132的-Y’軸側(cè)的面的+X軸側(cè)的-Z’軸側(cè)為止。而且，從+Y’軸側(cè)的面經(jīng)由側(cè)面137a、337b、137c而將引出電極335a引出至-Y’軸側(cè)的面，將引出電極335a引出至框部132的-Y’軸側(cè)的面的-X軸側(cè)的+Z’軸側(cè)的角部為止。
[0098]壓電振動(dòng)片330通過形成著兩根連結(jié)部333，而相對(duì)于跌落等的沖擊變強(qiáng)。而且，與壓電振動(dòng)片130相同，通過將引出電極335a經(jīng)由形成為楔狀的振動(dòng)部131的側(cè)面137a而引出至-Y’軸側(cè)，可保持較低的晶體阻抗(Cl)。
[0099]以上，對(duì)本發(fā)明的最佳的實(shí)施方式詳細(xì)地進(jìn)行了說明，但本領(lǐng)域技術(shù)人員可知，本發(fā)明在其技術(shù)性的范圍內(nèi)，可對(duì)實(shí)施方式施加各種變更.變形而實(shí)施。
[0100]例如，在所述實(shí)施方式中，表示了在壓電振動(dòng)片中為AT切割的水晶振動(dòng)片的情況，同樣地，即使為以厚度切變模式振動(dòng)的BT切割的水晶振動(dòng)片等也可同樣地應(yīng)用。進(jìn)而，壓電振動(dòng)片不僅可應(yīng)用水晶材料，基本上也可應(yīng)用包含鉭酸鋰或鈮酸鋰或壓電陶瓷的壓電材料。
【權(quán)利要求】
1.一種壓電振動(dòng)片，其特征在于，包括: 振動(dòng)部，以預(yù)定的振動(dòng)頻率而振動(dòng)，且在兩主面具有激振電極，且以預(yù)定的厚度而形成； 框部，包圍所述振動(dòng)部的周圍；以及 連結(jié)部，連結(jié)所述振動(dòng)部及所述框部；且 所述振動(dòng)部的側(cè)面的至少一部分是:以所述振動(dòng)部的厚度隨著朝向所述振動(dòng)部的外周變薄的方式，而形成為楔狀； 形成從所述各激振電極分別經(jīng)由所述連結(jié)部而引出至所述框部的引出電極； 一個(gè)所述引出電極是:經(jīng)由所述振動(dòng)部的形成為楔狀的側(cè)面，而從一個(gè)主面被引出至另一個(gè)主面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓電振動(dòng)片，其特征在于，形成所述引出電極的所述振動(dòng)部的形成為楔狀的側(cè)面是與所述連結(jié)部鄰接形成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓電振動(dòng)片，其特征在于，所述一個(gè)弓I出電極是經(jīng)由所述連結(jié)部的側(cè)面，而從所述一個(gè)主面被弓I出至所述另一個(gè)主面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓電振動(dòng)片，其特征在于，所述一個(gè)引出電極是經(jīng)由所述框部的面向所述振動(dòng)部的側(cè)面，而從所述一個(gè)主面被引出至所述另一個(gè)主面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的壓電振動(dòng)片，其特征在于，形成著I根或多根所述連結(jié)部。
6.一種壓電裝置，其特征在于，包括: 權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的壓電振動(dòng)片； 基底板，與所述框部的另一個(gè)主面接合；以及 蓋板，與所述框部的一個(gè)主面接合，且密封所述振動(dòng)部。
【文檔編號(hào)】H03H9/19GK103490742SQ201310223723
【公開日】2014年1月1日 申請(qǐng)日期:2013年6月6日 優(yōu)先權(quán)日:2012年6月12日
【發(fā)明者】高橋岳寬, 水澤周一 申請(qǐng)人:日本電波工業(yè)株式會(huì)社