具有可轉(zhuǎn)動支承在把手殼體中的滾筒的等離子體處理設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種等離子體處理設(shè)備，其用于利用一電介質(zhì)阻擋式等離子體場來處理一表面，所述等離子體場在一被供給高壓的電極和所述表面之間產(chǎn)生，其中，所述電極與一圍住所述電極的電介質(zhì)構(gòu)成一可轉(zhuǎn)動地支承在一把手殼體中的滾筒，所述滾筒能夠在所述表面上滾動。
【背景技術(shù)】
[0002]已公開了出于不同目的利用等離子體對表面進(jìn)行處理。這樣則例如使若未進(jìn)行預(yù)處理不能或者僅僅艱難進(jìn)行覆層、例如刷漆的塑料表面可以在等離子體處理后明顯更好地被覆層。類似的也適用于角蛋白表面、例如頭發(fā)，角蛋白表面在進(jìn)行等離子體處理之后明顯更好地吸收處理劑或者護(hù)理劑。此外已知的是，利用等離子體處理為表面進(jìn)行消毒。也可以在活體上進(jìn)行等離子體處理，以便改進(jìn)皮膚對護(hù)理劑和修復(fù)劑的、尤其是對傷口修復(fù)的吸收能力并且對所要求的表面進(jìn)行消毒。
[0003]對于用于材料加工的等離子體處理能夠在兩個電極之間直接生成等離子體場，而在很多情況下有益的是，設(shè)置所謂的電介質(zhì)阻擋式等離子體放電。對于電介質(zhì)阻擋式等離子體放電，通過一高壓場使空氣或者另一氣體離子化，基于高電勢差本身產(chǎn)生的電流然而通過一中間接入的電介質(zhì)被阻止。因而已公開的是，將一高壓電極埋入到電介質(zhì)中以便可靠地防止電流閃絡(luò)并以一對應(yīng)電極產(chǎn)生所述等離子體場，其中，當(dāng)待處理表面的材料是導(dǎo)電的時(shí)，所述待處理表面可以用作通常接地的對應(yīng)電極。通過WO 2011/076193 Al公開了一種由一埋入到一柔性電介質(zhì)中的面式電極組成的面式組件，其能夠放置到一表面上并基于其柔性能夠在一定程度上適配表面的不平整性。在此，電極組件的表面設(shè)有類似于毛結(jié)的凸起，以便當(dāng)放置到待處理的表面上時(shí)在所述凸起之間的空隙中確保存在空氣隙，在所述空氣隙中能夠構(gòu)造所述等離子體。這類組件不能被普遍應(yīng)用，這是由于該電極組件的大小必須適配待處理表面的大小，以便能夠有效地且合理地處理所述表面。
[0004]在哥廷根的MBM ScienceBridge有限責(zé)任公司的網(wǎng)絡(luò)公布內(nèi)容中公開了一種所謂的等離子體滾壓裝置，所述等離子體滾壓裝置由一作為電極的、陶瓷包罩的銅管制成。滾筒按照顏料滾壓裝置的方式被引導(dǎo)經(jīng)過待處理表面，從而使得其與所述表面構(gòu)造一線形接觸。在所述線形接觸的兩側(cè)上明顯構(gòu)成了所述等離子體場。當(dāng)所述等離子體滾壓裝置多次被引導(dǎo)經(jīng)過待處理表面時(shí)，所述等離子體滾壓裝置應(yīng)當(dāng)適合用于為墻壁、地板或者擺設(shè)物件進(jìn)行消毒，以及用于在無溶劑和底漆的情況下為了上漆或者其他覆層對這些物件進(jìn)行預(yù)處理。
[0005]所述等離子體滾壓裝置的前述結(jié)構(gòu)僅僅適合平坦的表面并且其缺點(diǎn)在于，與相對于等離子體滾壓裝置與所述表面的接觸線的間距相關(guān)地構(gòu)造出強(qiáng)烈下降的等離子體場，從而使得不會出現(xiàn)受控的或者被限定的等離子體處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]因而，本發(fā)明的任務(wù)在于，為等離子體處理擴(kuò)寬用于構(gòu)造成滾筒的電極組件的應(yīng)用領(lǐng)域并能夠?qū)崿F(xiàn)更好限定的且受控的等離子體處理。
[0007]為了解決該任務(wù)，根據(jù)本發(fā)明，開頭提到類型的等離子體處理設(shè)備的特征在于，所述滾筒構(gòu)造得能柔性適配所述表面的不平整性并且具有一具有凸起的滾動表面，構(gòu)成所述等離子體場的空隙處在這些凸起之間。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的等離子體處理設(shè)備因而具有一滾筒，所述滾筒能夠柔性地適配表面的不平整性。為此，所述電介質(zhì)尤其是由一軟彈性的材料制成并且優(yōu)選具有30和60之間的肖氏硬度。適合的軟彈性材料是熱塑性彈性體(TPE)。因而，即便所述電極本身是剛性的，通過電介質(zhì)的軟彈性構(gòu)造方案便已經(jīng)能夠使根據(jù)本發(fā)明的等離子體處理設(shè)備適配表面的不平整性。然而在本發(fā)明一種優(yōu)選的實(shí)施方式中也可以柔性地構(gòu)造所述電極，因而所述電極由一柔性材料制成，利用剛性的端塊可轉(zhuǎn)動支承在把手殼體中。這種支承優(yōu)選發(fā)生在所述電極的兩個端部處。然而也可以在一側(cè)支承所述電極，由此所述電極可以構(gòu)造有一自由端部。
[0009]根據(jù)本發(fā)明，所述滾筒的表面此外設(shè)有凸起，空隙處在這些凸起之間，在所述空隙中構(gòu)成等離子體場。在此，所述滾筒具有大量可以規(guī)則或者不規(guī)則布置在表面上的凸起。在這些凸起之間的空隙優(yōu)選相互連接，從而使得當(dāng)所述滾筒必要時(shí)在壓力下貼靠在待處理表面上時(shí)，圍繞所述凸起能夠構(gòu)成統(tǒng)一的氣體腔。通過將電介質(zhì)的軟的構(gòu)造方案和必要時(shí)電極的柔性，在所述滾筒與所述待處理表面之間的接觸區(qū)域中也構(gòu)成了較寬的等離子體場，所述等離子體場僅僅在支承點(diǎn)處中斷，所述支承點(diǎn)并不構(gòu)成不間斷的線，而是沿著在所述滾筒表面與所述待處理表面之間的接觸條構(gòu)成僅點(diǎn)式的接觸面，在這些接觸面之間，在所述接觸點(diǎn)之間的間隙中能夠構(gòu)成等離子體場。由于在滾動時(shí)所述接觸點(diǎn)的位態(tài)是不斷變化的，所以因此得到一具有接近同質(zhì)的場強(qiáng)的、相對寬的等離子體場，通過所述等離子體場能夠?qū)崿F(xiàn)對表面的受控的并且被限定的等離子體處理。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的等離子體處理設(shè)備適合于所有上述提到的、已公開的等離子體處理設(shè)備適合的應(yīng)用領(lǐng)域。此外，根據(jù)本發(fā)明的等離子體處理設(shè)備能夠利用仍更好限定的等離子體處理實(shí)現(xiàn)對任意大小的不平表面進(jìn)行處理。這尤其是對于活體皮膚的等離子體處理是重要的，因?yàn)槔酶鶕?jù)本發(fā)明的、具有一適當(dāng)選擇的滾筒尺寸的等離子體處理設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)受控的、例如對臉部皮膚或者對其他身體部分上的皮膚的處理。
[0011]電極本身的優(yōu)選的柔性可以通過電極不同的實(shí)施方案來實(shí)現(xiàn)。在一種特別優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述電極由一具有剛性端塊的彈簧彈性材料制成，其中，所述端塊既可以用于可轉(zhuǎn)動的支承也可以用于電接觸。為此，所述剛性的端塊中的至少一個端塊構(gòu)造成可導(dǎo)電并且構(gòu)造得能與一高壓源接觸。
[0012]所述彈簧彈性材料可以是一螺旋彈簧，從而使得所述電極由一空心的螺旋彈簧構(gòu)成。
[0013]在其他的實(shí)施方式中，電極的柔性構(gòu)造方案也可以通過實(shí)心的、彈簧彈性的、導(dǎo)電的材料構(gòu)成。此外可以通過電極的一軟管狀的套筒來確保所述彈簧彈性，該套筒能夠利用一也可以是液體形式的導(dǎo)電材料填充。在此，液體構(gòu)成電極的進(jìn)行傳導(dǎo)的部分，而所述彈簧彈性的套筒可以是傳導(dǎo)的，但是不必一定是傳導(dǎo)的。在此將所述彈簧彈性的套筒構(gòu)造成所述電介質(zhì)也是可以設(shè)想的，在所述電解質(zhì)中存在可變形的傳導(dǎo)材料，利用所述材料將限定的高壓電勢帶入到一通過所述電解質(zhì)限定的、與待處理表面間隔開的間隔中。
[0014]在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述把手殼體幾乎完全圍住所述滾筒并僅僅留出小的開口，從該開口中伸出滾筒的僅很小的圓周區(qū)段。伸出的圓周區(qū)段因而可以在20至120角度范圍上延伸。
[0015]在本發(fā)明的一種變體方案中，一把手殼體也能夠支承多個滾筒，這些滾筒沿運(yùn)動方向前后相繼地經(jīng)過所述待處理表面被引導(dǎo)。此外，一滾筒也可以在其軸向長度上由多個分滾筒組成。
【附圖說明】
[0016]在下文中，根據(jù)實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步描述。其示出了:
[0017]圖1是根據(jù)本發(fā)明的等離子體處理設(shè)備的部分剖開的整體示圖；
[0018]圖2是具有柔性電極的滾筒的第一實(shí)施方式的放大示圖；
[0019]圖3是電介質(zhì)的實(shí)施例的表面視角的、根據(jù)圖1的等離子體處理設(shè)備的示圖；
[0020]圖4是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)造的滾筒的第二實(shí)施例的示意圖；
[0021]圖5是穿過根據(jù)圖4的滾筒的剖面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]如根據(jù)圖1的實(shí)施例所示，所述等離子體處理設(shè)備能夠具有一把手殼體1，所述把手殼體具有一把手區(qū)段2和一保持區(qū)段3。所述把手區(qū)段2適合利用手進(jìn)行抓握并且能夠設(shè)有常見的、保險(xiǎn)所述把手的防滑表面。
[0023]所述保持區(qū)