有機電致發(fā)光元件的制造方法及制造裝置、以及有機電致發(fā)光模塊的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及有機電致發(fā)光元件的制造方法及制造裝置、W及有機電致發(fā)光模塊。 更詳細而言，設(shè)及形狀精度高、且可切換發(fā)光圖案的有機電致發(fā)光元件的制造方法及制造 裝置、W及具備通過該制造方法而制造了的有機電致發(fā)光元件的有機電致發(fā)光模塊。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，作為平面狀的光源體，使用了導(dǎo)光板(膜）的發(fā)光二極管化ight Emitting Diode:LED)及有機發(fā)光二極管((Organic Light 血itting Diode:0LED、W下，也稱為"有機 電致發(fā)光元件"或"有機化元件"。）受到關(guān)注。特別是對于使用了導(dǎo)光板的LED( W下，也稱為 "導(dǎo)光板LED"。），不僅在一般的照明中、而且在液晶顯示裝置化iquid燈ystal Display: LCD)用的背光等各種場面、用途中被使用(例如參照專利文獻1。）。
[0003] 另外，近年來，智能手機、平板電腦等智能設(shè)備迅速地普及。
[0004] 該智能設(shè)備大多具備：在主顯示器的外側(cè)用四角形等的標(biāo)記表示了的"主鍵"按 鈕、用箭頭標(biāo)記等表示的"返臥'按鈕、用放大鏡標(biāo)記等表示的"檢索"按鈕等的具有固定的 功能及形狀的按鈕(W下，稱為"通用功能鍵按鈕"。）。
[0005] 運樣的通用功能鍵按鈕根據(jù)顯示的標(biāo)記的圖案形狀預(yù)先在導(dǎo)光板上印刷點形狀 的偏轉(zhuǎn)圖案、在該導(dǎo)光板的側(cè)方、在導(dǎo)光板的側(cè)端面設(shè)置照射光的LED光源而構(gòu)成。另外，在 該通用功能鍵按鈕中，從Lm)光源射出了的光從導(dǎo)光板的側(cè)端面入射、該入射光由偏轉(zhuǎn)圖案 的偏轉(zhuǎn)反射面而向?qū)Ч獍宓恼娣较蜻M行全反射。由此，W規(guī)定的圖案從導(dǎo)光板的正面?zhèn)?射出光，在從正面看導(dǎo)光板時，可看成W該圖案進行發(fā)光。
[0006] 在一般的智能設(shè)備中，例如，在將智能設(shè)備W順時針旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)了90°時，主顯示器 的顯示也W順時針旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)90°等，根據(jù)智能設(shè)備的朝向，主顯示器的顯示的朝向發(fā)生變化 的功能成為標(biāo)準(zhǔn)。
[0007] 但是，上述的通用功能鍵按鈕不能根據(jù)智能設(shè)備的朝向在相同場所切換為標(biāo)記的 朝向、任意的標(biāo)記形狀。
[000引另外，就一般的通用功能鍵按鈕而言，如上所述，通常采用導(dǎo)光板L邸作為背光燈， 但在運樣的構(gòu)成的通用功能鍵按鈕中存在如下所述的問題。
[0009] 例如，根據(jù)智能設(shè)備的朝向，為了切換為標(biāo)記的朝向、任意的標(biāo)記形狀，需要重疊 多張導(dǎo)光板LED。
[0010] 但是，就多個重疊了的導(dǎo)光板Lm)而言，由于厚度增加，因此存在不能收納于智能 設(shè)備的內(nèi)部運樣的問題。
[0011] 另外，在采用導(dǎo)光板Lm)的通用功能鍵按鈕中，由于從導(dǎo)光板的側(cè)端面進行導(dǎo)光， 因此，存在發(fā)光亮度的不均因通用功能鍵按鈕的花紋、形狀而變多的問題。
[0012] 進而，由于通用功能鍵按鈕的標(biāo)記由印刷于導(dǎo)光板的點形狀的偏轉(zhuǎn)構(gòu)件形成，因 此存在該點形狀的偏轉(zhuǎn)構(gòu)件也被看到的、不能鮮明地顯示發(fā)光圖案運樣的問題。
[0013] 但是，如果使用層疊了多個每個發(fā)光單元形成(構(gòu)圖）有不同的發(fā)光圖案的發(fā)光單 元的有機化元件來顯示通用功能鍵按鈕，則不產(chǎn)生上述問題。即，根據(jù)智能設(shè)備的朝向來切 換使其發(fā)光的發(fā)光單元，由此可W使有機化元件的發(fā)光圖案切換。另外，運樣的有機化元件 非常薄，為平面狀，因此，可W收納于智能設(shè)備的內(nèi)部。
[0014] 作為在發(fā)光單元中進行構(gòu)圖的方法，在專利文獻2中公開有照射紫外線、使被照射 了的部分的發(fā)光功能變化的方法。
[0015] 但是，在專利文獻2中，沒有公開在多個發(fā)光單元中形成不同的圖案的構(gòu)圖的方 法。
[0016] 另外，認為:通過使用了掩模的成膜，對每個發(fā)光單元形成不同的發(fā)光圖案的有機 功能層。但是，僅通過使用掩模將有機功能層進行成膜而進行構(gòu)圖，存在發(fā)光圖案的形狀精 度(分辨率)低運樣的問題。
[0017] 現(xiàn)有技術(shù)文獻 [0018]專利文獻
[0019] 專利文獻1:美國專利第8330724號說明書
[0020] 專利文獻2:日本特開2012-028335號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0021] 發(fā)明所要解決的課題
[0022] 本發(fā)明是鑒于上述問題.狀況而完成的發(fā)明，其解決課題在于，提供形狀精度高、 且可切換發(fā)光圖案的有機電致發(fā)光元件的制造方法及制造裝置、W及具備通過該制造方法 而制造了的有機電致發(fā)光元件的有機電致發(fā)光模塊。
[0023] 進而，提供沒有發(fā)光不均的有機電致發(fā)光元件的制造方法及制造裝置、W及有機 電致發(fā)光模塊。
[0024] 用于解決課題的手段
[0025] 本發(fā)明人為了解決上述課題，在對上述問題的原因等進行研究的過程中發(fā)現(xiàn):將 各發(fā)光單元中的至少1層有機功能層在該有機功能層的形成過程中進行掩模圖案化、進而 在該有機功能層的形成后通過光照射來進行圖案化而劃分(構(gòu)圖）為發(fā)光功能被調(diào)制的區(qū) 域和沒有被調(diào)制的區(qū)域，由此可W-邊維持形狀精度、一邊切換發(fā)光圖案，進而，可W提供 沒有驅(qū)動時的發(fā)光不均的有機化元件，直至本發(fā)明。
[0026] 目P，本發(fā)明設(shè)及的上述課題，通過W下的手段來解決。
[0027] 1. -種有機電致發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，其為在支承基板上具有含有 一個或多個有機功能層的至少二個發(fā)光單元、和至少1層中間電極層、上述中間電極層配置 于上述發(fā)光單元間的有機電致發(fā)光元件的制造方法;所述制造方法具有：
[0028] 將各個上述發(fā)光單元中的至少1層上述有機功能層使用掩模來進行構(gòu)圖的第1構(gòu) 圖工序、和
[0029] 通過光照射而構(gòu)圖為發(fā)光功能被調(diào)制了的區(qū)域和沒有被調(diào)制的區(qū)域的第2構(gòu)圖工 序，
[0030] 每制作上述發(fā)光單元時進行上述第2構(gòu)圖工序。
[0031] 2.如第1項所述的有機電致發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，在波長為320~ 420nm的范圍內(nèi)的福射照度為10~lOOOmW/cm2的范圍內(nèi)的條件下進行上述第2構(gòu)圖工序中 的上述光照射。
[0032] 3.-種有機電致發(fā)光元件的制造方法，其特征在于，其為在支承基板上具有含有 一個或多個有機功能層的至少二個發(fā)光單元、和具有光透射性的至少1層中間電極層、上述 中間電極層配置于上述發(fā)光單元間的有機電致發(fā)光元件的制造方法;所述制造方法具有：
[0033] 將各個上述發(fā)光單元中的至少1層上述有機功能層使用掩模來進行構(gòu)圖的工序、 和
[0034] 通過光照射而劃分為發(fā)光功能被調(diào)制了的區(qū)域和沒有被調(diào)制的區(qū)域的光照射工 序，
[0035] 在將所有的上述發(fā)光單元層疊后，進行上述光照射工序，
[0036] 在上述光照射工序中，在調(diào)制發(fā)光功能的區(qū)域內(nèi)使照射量變化而進行光照射。
[0037] 4.如第1項~第3項的任一項所述的有機電致發(fā)光元件的制造方法，其特征在于， 上述至少1層有機功能層為空穴傳輸層或空穴注入層。
[0038] 5. -種有機電致發(fā)光元件的制造裝置，其特征在于，其為在支承基板上具有含有 一個或多個有機功能層的至少二個發(fā)光單元、和至少1層中間電極層、上述中間電極層配置 于上述發(fā)光單元間的有機電致發(fā)光元件的制造裝置;所述制造裝置具有：
[0039] 將各個上述發(fā)光單元中的至少1層上述有機功能層使用掩模來進行構(gòu)圖的第1構(gòu) 圖部、和
[0040] 通過光照射而構(gòu)圖為發(fā)光功能被調(diào)制了的區(qū)域和沒有被調(diào)制的區(qū)域的第2構(gòu)圖 部，
[0041 ]就上述第2構(gòu)圖部而言，每制作上述發(fā)光單元時實施構(gòu)圖。
[0042] 6. -種有機電致發(fā)光模塊，其特征在于，具備通過第1項~第4項中的任一項所述 的有機電致發(fā)光元件的制造方法而制造了的有機電致發(fā)光元件。
[0043] 7.如第6項所述的有機電致發(fā)光模塊，其特征在于，在上述支承基板的發(fā)光面?zhèn)染?有偏振構(gòu)件、半透半反鏡構(gòu)件或黑色濾光器。
[0044] 發(fā)明的效果
[0045] 通過本發(fā)明的上述手段，可W提供形狀精度高、且可切換發(fā)光圖案的有機電致發(fā) 光元件的制造方法及制造裝置、W及具備了通過該制造方法而制造了的有機電致發(fā)光元件 的有機電致發(fā)光模塊。
[0046] 進而，可W提供沒有發(fā)光不均的有機電致發(fā)光元件的制造方法及制造裝置、W及 有機電致發(fā)光模塊。
[0047] 對于本發(fā)明的效果的顯現(xiàn)機制.作用機制不明確，但如下地推測。
[0048] W往，存在使用掩模而被成膜了的有機功能層（空穴注入層）的邊緣塌邊（クレ）、 發(fā)光圖案的形狀精度(分辨率)降低運樣的問題。
[0049] 但是，僅對該塌邊部進行光照射、調(diào)制發(fā)光功能而使得不發(fā)光，由此可W進行發(fā)光 圖案的修調(diào)(陽ミシク)、提高發(fā)光圖案的形狀精度。
[0050] 另外，也存在因掩模的厚度而掩模的邊緣形成影、在該邊緣附近沒有充分層疊成 膜物質(zhì)的情況。在運樣的情況下，預(yù)先比發(fā)光圖案更廣泛地將有機功能層進行成膜、通過光 照射將不需要的部分不發(fā)光地進行修調(diào)，由此可W使發(fā)光圖案的形狀精度提高。
【附圖說明】
[0051 ]圖1是表示有機EL元件的一例的概略剖面圖
[0052] 圖2是表示有機EL元件的制造裝置的概略構(gòu)成圖
[0053] 圖3是表示構(gòu)成有機EL元件的制造裝置的成膜室的一例的概略構(gòu)成圖
[0054] 圖4是表示支承基板的一部分的概略圖
[0055] 圖5A是表示傳輸漉及托漉的概略側(cè)面圖
[0056] 圖5B是表示傳輸漉及托漉的概略側(cè)面圖
[0057] 圖6A是表示連續(xù)掩模的一部分的概略圖
[0058] 圖6B是表示連續(xù)掩模的一部分的概略圖
[0059] 圖7是表示構(gòu)成有機EL元件的制造裝置的成膜室的一例的概略構(gòu)成圖
[0060] 圖8是表示構(gòu)成有機EL元件的制造裝置的成膜室的一例的概略構(gòu)成圖
[0061] 圖9A是表示空穴注入層成膜室中所使用的連續(xù)掩模的一部分的概略圖
[0062] 圖9B是表示空穴注入層成膜室中所使用的連續(xù)掩模的一部分的概略圖
[0063] 圖10是表示第2構(gòu)圖部的一例的概略構(gòu)成圖
[0064] 圖11是表示第2構(gòu)圖部具有的連續(xù)掩模的一部分的概略圖
[0065] 圖12A是表示第2構(gòu)圖部的一例的概略構(gòu)成圖
[0066] 圖12B是表示第2構(gòu)圖部的一例的概略構(gòu)成圖
[0067] 圖13是表示構(gòu)成有機EL元件的制造裝置的層合室的概略構(gòu)成圖
[0068] 圖14是表示背面膜的一部分的概略圖
[0069] 圖15是表示有機化模塊的一例的概略剖面圖
[0070] 圖16是表示有機EL元件的一例的概略剖面圖
[0071] 圖17A是表示發(fā)光單元的空穴注入層中的圖案形狀的平面圖
[0072] 圖17B是表示發(fā)光單元的空穴注入層中的圖案形狀的平面圖
[0073] 圖18是表示光照射中使用的掩模板的概略構(gòu)成的示意圖。
【具體實施方式】
[0074] 本發(fā)明的有機化元件的制造方法的特征在于，將各發(fā)光單元中的至少1層有機功 能層在該有機功能層的形成過程中進行掩模圖案化，進而，在該有機功能層的形成后，通過 光照射進行圖案化，劃分(構(gòu)圖）為發(fā)光功能被調(diào)制的區(qū)域和沒有被調(diào)制的區(qū)域。該特征為 權(quán)利要求1~7的權(quán)利要求的發(fā)明中通用的技術(shù)的特征。
[0075] 作為本發(fā)明的實施方式，優(yōu)選在波長為320~420nm的范圍內(nèi)的福射照度為10~ 1 OOOmW/cm2的范圍內(nèi)的條件下進行第2構(gòu)圖工序中的上述光照射。根據(jù)其，在有機化元件的 制造時，不需要準(zhǔn)備特別的照射裝置，因此可得到能夠容易地制造本發(fā)明設(shè)及的有機化元 件的效果，優(yōu)選。
[0076] 另外，本發(fā)明中，從使掩模精度提高的觀點出發(fā)，優(yōu)選通過光照射而被圖案化的至 少1層有機功能層為空穴傳輸層或空穴注入層。
[0077] 本發(fā)明的有機化元件的制造裝置的特征在于，具有:將各個發(fā)光單元中的至少1層 有機功能層使用掩模來進行構(gòu)圖的第1構(gòu)圖部、和通過光照射而構(gòu)圖為發(fā)光功能被調(diào)制了 的區(qū)域和沒有被調(diào)制的區(qū)域的第2構(gòu)圖部，就第2構(gòu)圖部而言，每制作發(fā)光單元時實施構(gòu)圖。
[0078] 另外，在有機化模塊中優(yōu)選地可具備本發(fā)明設(shè)及的有機EL元件。
[0079] 作為本發(fā)明的實施方式，從在非發(fā)光時成為黑色的方面考慮，優(yōu)選在支承基板的 發(fā)光面?zhèn)染哂衅駱?gòu)件、半透半反鏡構(gòu)件或黑色濾光器。
[0080] W下，對本發(fā)明和其構(gòu)成要素、及用于實施本發(fā)明的方式.形態(tài)進行詳細的說明。 予W說明，在本申請中，表示數(shù)值范圍的"W含有在其前后所記載的數(shù)值作為下限值及 上限值的意思來使用。
[00川[第1實施方式]
[0082] 《有機EL元件的構(gòu)成》
[0083] W下示出本發(fā)明設(shè)及的有機化元件的層構(gòu)成的優(yōu)選的具體例，但本發(fā)明并不限定 于運些。
[0084] (I)陽極/第1發(fā)光單元/中間電極層/第2發(fā)光單元/陰極
[0085] (II)陽極/第1發(fā)光單元/第1中間電極層/第2發(fā)光單元/第2中間電極層/第3發(fā)光 單元/陰極
[0086] (I-I)陽極/白色發(fā)光單元/中間電極層/白色發(fā)光單元/陰極
[0087] (II-I)陽極/白色發(fā)光單元/第1中間電極層/白色發(fā)光單元/第2中間電極層/白色 發(fā)光單元/陰極
[0088] 作為本發(fā)明設(shè)及的有機EL元件的一例，將上述構(gòu)成（I)的有機EL元件示于圖1。
[0089] 如圖1中所示，有機化元件1在支承基板21上依次層疊陽極23、第1發(fā)光單元25曰、中 間電極層27、第2發(fā)光單元25b及陰極26而構(gòu)成。
[0090] 在支承基板21側(cè)端部，使其一部分與陽極23相接地形成取出配線24。
[0091 ]中間電極層27優(yōu)選對于可見光具有光透射性。
[0092] 本發(fā)明中，如果發(fā)光單元的層數(shù)為2W上，則沒有特別限制，鑒于生產(chǎn)效率，優(yōu)選為 2~10的范圍內(nèi)，更優(yōu)選為2~3的范圍內(nèi)。予W說明，將發(fā)光單元的層數(shù)設(shè)為N(N為2W上的 整數(shù))時，中間電極層的層數(shù)為(N-I)。
[0093] 本發(fā)明中的發(fā)光單元為含有1層或多層有機功能層而構(gòu)成的層疊體。
[0094] 作為發(fā)光單元中所使用的有機功能層，例如可列舉:空穴注入層（陽極緩沖層）、空 穴傳輸層、發(fā)光層、電子傳輸層、電子注入層（陰極緩沖層）、空穴阻擋層及電子阻擋層等公 知的層。
[0095] W下，示出構(gòu)成發(fā)光單元的有機功能層的優(yōu)選的具體例及層疊的順序，但本發(fā)明 并不限定于運些。
[0096] (i)空穴注入傳輸層/發(fā)光層/電子注入傳輸層
[0097] (ii)空穴注入傳輸層/發(fā)光層/空穴阻擋層/電子注入傳輸層
[0098] (iii)空穴注入傳輸層/電子阻擋層/發(fā)光層/空穴阻擋層/電子注入傳輸層
[0099] (iv)空穴注入層/空穴傳輸層/發(fā)光層/電子傳輸層/電子注入層
[0100] (V)空穴注入層/空穴傳輸層/發(fā)光層/空穴阻擋層/電子傳輸層/電子注入層
[0101] (Vi)空穴注入層/空穴傳輸層/電子阻擋層/發(fā)光層/空穴阻擋層/電子傳輸層/電 子注入層
[0102] 本發(fā)明中，各發(fā)光單元可W組合相互不同的有機功能層而構(gòu)成，但優(yōu)選使用相同 的有機功能層及材料而構(gòu)成，另外，發(fā)光層的層數(shù)也優(yōu)選相同。由此，可W抑制形成發(fā)光單 元的材料的物品件數(shù)增加，因此抑制成本，且品質(zhì)管理也容易進行，進而可W使生產(chǎn)效率上 升。另外，如果是在蒸鍛工藝中進行各有機功能層的形成的方式，則容易將成膜室在各發(fā)光 單元中通用化等，進而可W使生產(chǎn)效率上升。
[0103] 作為構(gòu)成發(fā)光單元的各有機功能層的形成方法，例如可W采用真空蒸鍛法、旋涂 法、流延法、LB法(朗格繆爾-布洛杰特法）、噴墨法、噴涂法、印刷法、狹縫型涂布機法等的公 知的薄膜形成法進行制膜而形成。
[0104] 《有機EL元件的制造方法及制造裝置》
[0105] W下，對制造有機EL元件1的制造方法及制造裝置，參照圖2~圖14進行說明。
[0106] 就本發(fā)明的有機化元件的制造方法而言，其特征在于，其為在支承基板上具有含 有一個或多個有機功能層的至少二個發(fā)光單元和至少1層中間電極層、中間電極層配置于 發(fā)光單元間的有機化元件的制造方法，所述制造方法具有:將各個發(fā)光單元中的至少1層上 述有機功能層使用掩模來進行構(gòu)圖的第1構(gòu)圖工序、和通過光照射而構(gòu)圖為發(fā)光功能被調(diào) 制了的區(qū)域和沒有被調(diào)制的區(qū)域的第2構(gòu)圖工序，每制作發(fā)光單元時進行第2構(gòu)圖工序，作 為其制造裝置，并不限定于W下說明的制造裝置100。
[0107] 另外，在本發(fā)明的有機化元件的制造方法中，優(yōu)選在波長為320~420nm的范圍內(nèi) 的福射照度為10~lOOOmW/cm 2的范圍內(nèi)的條件下進行第2構(gòu)圖工序中的光照射。
[0108] 圖2是表示本發(fā)明的有機化元件的制造裝置100的一例的概略圖。圖2中所示的制 造裝置100是連續(xù)地傳輸W漉狀卷繞了的支承基板21而制造有機化元件1的裝置。予W說 明，在本實施方式中，在支承基板21的成膜面預(yù)先形成無機絕緣層。作為無機絕緣層，可W 從有機化元件中所使用的公知的無機絕緣層中適當(dāng)選擇而使用。
[0109] 從置于減壓氣氛下的卷出部101卷出了的支承基板21通過各導(dǎo)向漉102、103而進 入前室Rl，進而經(jīng)由縱切漉104被送入至真空氣氛下的表面處理兼累積室（7年二一厶室） R10,進行表面的干燥清潔及脫水處理。表面處理兼累積室RlO內(nèi)的壓力優(yōu)選設(shè)定為IXicr5 ~10化的范圍內(nèi)。
[0110] 接著，支承基板21從表面處理兼累積室RlO向成膜室R20連續(xù)地傳輸。在表面處理 兼累積室RlO和成膜室R20之間具備閩閥或壓力調(diào)整室，調(diào)整表面處理兼累積室RlO和成膜 室R20的差壓。
[0111] 在本發(fā)明的制造方法中，首先，通過成膜室R20及后述的第6成膜室R30，對于傳輸 中的支承基板21的成膜面，進行形成有機功能層的任一層的成膜工序。
[0112] 進而，在該成膜工序中，進行將發(fā)光單元的至少1層有機功能層一邊使用掩模來進 行構(gòu)圖、一邊進行形成的第1構(gòu)圖工序和通過光照射而構(gòu)圖為發(fā)光功能被調(diào)制了的區(qū)域及 沒有被調(diào)制的區(qū)域的第2構(gòu)圖工序。
[0113] 在本實施方式中，作為第1構(gòu)圖工序中所使用的掩模，采用后述的連續(xù)掩模。予W 說明，第1構(gòu)圖工序中所使用的掩模并不限定于該連續(xù)掩模，也可W采用板狀的掩模等公知 的掩模。
[0114] 予W說明，就第1構(gòu)圖工序而言，對于發(fā)光單元的至少1層有機功能層、在中間電極 層的形成前在使用掩模來進行構(gòu)圖的第1構(gòu)圖部進行。
[0115] 在本實施方式中，所謂第1構(gòu)圖部，為后述的成膜室R21~R25中、具備連續(xù)掩模的 成膜室。在具備該連續(xù)掩模的成膜室中，一邊將各有機功能層進行構(gòu)圖，一邊形成。
[0116] 予W說明，第1構(gòu)圖工序既可W對多個有機功能層進行，也可W對任一個有機功能 層進行，但特別優(yōu)選對空穴傳輸層或空穴注入層進行。
[0117] 成膜室R20由多個成膜室R21~R25及第2構(gòu)圖部化構(gòu)成，在各成膜室R21~R25及第 2構(gòu)圖部化之間設(shè)置將處理速度進行吸收的累積器機構(gòu)。成膜室R21~R25及第2構(gòu)圖部化分 別獨立地被排氣，保持在真空或減壓狀態(tài)，其成膜壓力因成膜方法而不同，但優(yōu)選設(shè)定為1 X 10-6 ~IOPa 左右。
[0118] 在第1成膜室R21中，將金屬、金屬氧化物等的導(dǎo)電性材料作為成膜材料，例如通過 真空蒸鍛法、瓣射法、離子鍛敷法等的成膜方法，在支承基板21上進行陽極23的成膜。
[0119] 在此，參照圖3,對第1成膜室R21W下進行說明。圖3為第1成膜室R21內(nèi)的概略構(gòu)成 圖。
[0120] 第1成膜室R21在內(nèi)部具備W規(guī)定的傳輸路徑傳輸支承基板21的多個傳輸漉51、52 及托漉53、54、與被傳輸?shù)闹С谢?1的成膜面對置的原料供給部55、W及與支承基板21的 和成膜面相反側(cè)的面抵接而冷卻支承基板21的背面冷卻漉56而構(gòu)成。另外，在第1成膜室 R21內(nèi)，可W設(shè)置具有規(guī)定的圖案形狀的開口部的環(huán)狀的連