平板探測(cè)器的使用方法和控制裝置制造方法
【專利摘要】一種平板探測(cè)器的使用方法和控制裝置，所述使用方法包括：計(jì)算第k次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積；根據(jù)預(yù)估的所述平板探測(cè)器有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量以及所述使用面積，確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分布范圍，使所述平板探測(cè)器的有效面積上所接受的累積劑量均勻。通過所述使用方法和控制裝置可以提高平板探測(cè)器的使用壽命。
【專利說明】平板探測(cè)器的使用方法和控制裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及探測(cè)器【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種平板探測(cè)器的使用方法和控制裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 平板探測(cè)器（Flat Panel Detector,FPD)是由精密電子元器件構(gòu)成的成像探測(cè)設(shè) 備，能夠通過面陣探測(cè)器，將放射線透照物體后生成的圖像信號(hào)轉(zhuǎn)換成易于存儲(chǔ)和處理，并 且符合一定標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)字圖像。
[0003] 在平板探測(cè)器的使用過程中，隨著接受劑量的增加，會(huì)出現(xiàn)老化，性能變差等現(xiàn) 象。由于平板探測(cè)器的價(jià)格非常昂貴，因此如何提高平板探測(cè)器的壽命，在降低成本方面就 顯得非常重要。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明實(shí)施例解決的問題是如何提高平板探測(cè)器的使用壽命。
[0005] 為解決上述問題，本發(fā)明實(shí)施例提供一種平板探測(cè)器的使用方法，包括：計(jì)算第k 次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積；根據(jù)預(yù)估的所述平板探測(cè)器有效面積上探測(cè)單元 累計(jì)所接受的劑量以及所述使用面積，確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測(cè)器 的有效面積上的位置分布范圍，使所述平板探測(cè)器的有效面積上所接受的累積劑量均勻。
[0006] 可選的，所述計(jì)算第k次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積包括：根據(jù)第k次照 射確定的射野、照射源到所述平板探測(cè)器的距離以及照射源到被照射物的距離，計(jì)算本次 照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積。
[0007] 可選的，根據(jù)預(yù)估的所述平板探測(cè)器有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量以及 所述使用面積，確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分 布范圍包括：檢測(cè)當(dāng)所述射野的中心在所述平板探測(cè)器上的不同探測(cè)單元時(shí)，所述平板探 測(cè)器的有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量；選取使所述平板探測(cè)器所接受的累計(jì)劑量 最平均時(shí)射野中心所在的探測(cè)單元，作為所述射野的中心在平板探測(cè)器上的位置；根據(jù)所 述射野的中心在平板探測(cè)器上的位置以及所述使用面積，劃定第k次照射的所述使用面積 在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分布范圍。
[0008] 可選的，通過公式

【權(quán)利要求】
1. 一種平板探測(cè)器的使用方法，其特征在于，包括： 計(jì)算第k次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積； 根據(jù)預(yù)估的所述平板探測(cè)器有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量以及所述使用面 積，確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分布范圍，使 所述平板探測(cè)器的有效面積上所接受的累積劑量均勻。
2. 如權(quán)利要求1所述的平板探測(cè)器的使用方法，其特征在于，所述計(jì)算第k次照射在所 述平板探測(cè)器上的使用面積包括： 根據(jù)第k次照射確定的射野、照射源到所述平板探測(cè)器的距離以及照射源到被照射物 的距離，計(jì)算本次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積。
3. 如權(quán)利要求1所述的平板探測(cè)器的使用方法，其特征在于，根據(jù)預(yù)估的所述平板探 測(cè)器有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量以及所述使用面積，確定第k次照射的所述使 用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分布范圍包括： 檢測(cè)當(dāng)所述射野的中心在所述平板探測(cè)器上的不同探測(cè)單元時(shí)，所述平板探測(cè)器的有 效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量； 選取使所述平板探測(cè)器所接受的累計(jì)劑量最平均時(shí)射野中心所在的探測(cè)單元，作為所 述射野的中心在平板探測(cè)器上的位置； 根據(jù)所述射野的中心在平板探測(cè)器上的位置以及所述使用面積，劃定第k次照射的所 述使用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分布范圍。
4. 如權(quán)利要求3所述的平板探測(cè)器的使用方法，其特征在于， 通過公式- ):，依次計(jì)算所述射野的中心在每個(gè)探測(cè)單元上 時(shí)，各探測(cè)單元所接受的累計(jì)劑量的均方差； 其中，所述TDk(i，j)為所述平板探測(cè)器有效面積上的探測(cè)單元（i，j)在第k次照射成 像后所接受的累積劑量；所述M為所述平板探測(cè)器各探測(cè)單元在第k次照射成像后所接 受的平均累計(jì)劑量；所述i，j均為正整數(shù)。
5. 如權(quán)利要求4所述的平板探測(cè)器的使用方法，其特征在于，所述平板探測(cè)器有效面 積上的探測(cè)單元（i，j)在第k次照射成像后所接受的累積劑量，通過TD1^a,j)+I(i，j)k/ Gk計(jì)算； 其中，TD1^a,j)為所述平板探測(cè)器有效面積上的探測(cè)單元a，j)在第k次成像前累 積接受的劑量；I(i，j)k為第k次成像中所述探測(cè)單元（i，j)的預(yù)估成像灰度值；Gk為第k 次成像中的平板探測(cè)器增益。
6. 如權(quán)利要求3所述的平板探測(cè)器的使用方法，其特征在于，檢測(cè)當(dāng)所述射野的中心 在所述平板探測(cè)器上的不同探測(cè)單元時(shí)，所述平板探測(cè)器的有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接 受的劑量之前，還包括： 根據(jù)所述平板探測(cè)器有效面積分布區(qū)域的邊緣與所述使用面積的分布區(qū)域之間的距 離，確定所述射野中心于所述平板探測(cè)器上的可選范圍。
7. -種平板探測(cè)器的控制裝置，其特征在于，包括： 計(jì)算單元，用于計(jì)算第k次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積； 判定單元，用于根據(jù)預(yù)估的所述平板探測(cè)器有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量以 及所述使用面積，確定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置 分布范圍，使所述平板探測(cè)器的有效面積上所接受的累積劑量均勻。
8. 如權(quán)利要求7所述的平板探測(cè)器的控制裝置，其特征在于，所述計(jì)算單元根據(jù)第k次 照射確定的射野、照射源到所述平板探測(cè)器的距離以及照射源到被照射物的距離，計(jì)算本 次照射在所述平板探測(cè)器上的使用面積。
9. 如權(quán)利要求7所述的平板探測(cè)器的控制裝置，其特征在于，所述判定單元包括： 檢測(cè)子單元，用于檢測(cè)當(dāng)所述射野的中心在所述平板探測(cè)器上的不同探測(cè)單元時(shí)，所 述平板探測(cè)器的有效面積上探測(cè)單元累計(jì)所接受的劑量； 選取子單元，用于選取使所述平板探測(cè)器所接受的累計(jì)劑量最平均時(shí)射野中心所在的 探測(cè)單元，作為所述射野的中心在平板探測(cè)器上的位置； 劃定子單元，用于根據(jù)所述射野的中心在平板探測(cè)器上的位置以及所述使用面積，劃 定第k次照射的所述使用面積在所述平板探測(cè)器的有效面積上的位置分布范圍。
10. 如權(quán)利要求9所述的平板探測(cè)器的控制裝置，其特征在于，所述檢測(cè)子單元包括： 第一計(jì)算模塊，用于通過公式>/^^.|(71)/力_,刀-^^) 2，依次計(jì)算所述射野的中心 在每個(gè)探測(cè)單元上時(shí)，各探測(cè)單元所接受的累計(jì)劑量的均方差； 其中，所述TDk(i，j)為所述平板探測(cè)器有效面積上的探測(cè)單元（i，j)在第k次照射成 像后所接受的累積劑量；所述M為所述平板探測(cè)器各探測(cè)單元在第k次照射成像后所接 受的平均累計(jì)劑量；所述i，j均為正整數(shù)。
11. 如權(quán)利要求10所述的平板探測(cè)器的控制裝置，其特征在于，所述檢測(cè)子單元還包 括： 第二計(jì)算模塊，用于通過101;_1(1，」)+1(1，」) 1;/^計(jì)算所述平板探測(cè)器有效面積上的探 測(cè)單元（i，j)在第k次照射成像后所接受的累積劑量； 其中，TD1^a,j)為所述平板探測(cè)器有效面積上的探測(cè)單元（i，j)在第k次成像前累 積接受的劑量；I(i，j)k為第k次成像中所述探測(cè)單元（i，j)的預(yù)估成像灰度值；Gk為第k 次成像中的平板探測(cè)器增益。
12. 如權(quán)利要求9所述的平板探測(cè)器的控制裝置，其特征在于，所述判定單元還包括： 確定子單元，用于根據(jù)所述平板探測(cè)器有效面積分布區(qū)域的邊緣與所述使用面積的分 布區(qū)域之間的距離，確定所述射野中心于所述平板探測(cè)器上的可選范圍。
【文檔編號(hào)】H04N5/32GK104320595SQ201410579442
【公開日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2014年10月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月24日
【發(fā)明者】姬長(zhǎng)勝, J·S·墨子 申請(qǐng)人:上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司