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      有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法

      文檔序號(hào):8023962閱讀:270來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法,更具體而言,涉及一種當(dāng)通過(guò)激光誘導(dǎo)熱成像(LITI)形成有機(jī)層圖案時(shí)利用配備有衍射光學(xué)元件的激光輻射設(shè)備來(lái)形成有機(jī)膜層圖案的方法。
      背景技術(shù)
      一般地,作為平板顯示器的有機(jī)電致發(fā)光裝置包括陽(yáng)極、陰極和設(shè)置于陽(yáng)極和陰極之間的有機(jī)層。
      有機(jī)層包括至少發(fā)射層,而且除發(fā)射層之外還包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入層。根據(jù)組成有機(jī)層、特別是組成發(fā)射層的材料,有機(jī)電致發(fā)光裝置被分為高分子有機(jī)電致發(fā)光裝置和小分子有機(jī)電致發(fā)光裝置。
      發(fā)射層應(yīng)被構(gòu)圖來(lái)實(shí)現(xiàn)有機(jī)電致發(fā)光裝置的全色顯示,其中一種用于構(gòu)圖發(fā)射層的方法包括,在小分子有機(jī)電致發(fā)光裝置的情況中一種使用陰影掩模的光刻工藝,以及在高分子有機(jī)電致發(fā)光裝置的情況中一種噴墨印刷方法或一種使用激光的激光誘導(dǎo)熱成像(Laser Induced Thermal Imaging,LITI)方法。LITI方法具有能夠精細(xì)地構(gòu)圖有機(jī)層的優(yōu)點(diǎn),其應(yīng)用于大的面積,且有利于高分辨率,而且LITI方法是干法工藝,而噴墨印刷方法則是濕法工藝。
      通過(guò)LITI方法來(lái)形成有機(jī)層的圖案的方法需要至少激光發(fā)生器、有機(jī)電致發(fā)光裝置的基板和施主基板。在所述基板上構(gòu)圖有機(jī)層的方法包括的步驟為將由激光發(fā)生器出來(lái)的激光束吸收到施主基板的光-熱轉(zhuǎn)換層中,使得將激光束轉(zhuǎn)換為熱能;將組成轉(zhuǎn)移層的材料通過(guò)熱能轉(zhuǎn)移到所述基板上。在韓國(guó)專利申請(qǐng)No.1998-51844和美國(guó)專利No.5,998,085、No.6,214,520、No.6,114,088中公開(kāi)了在基板上構(gòu)圖有機(jī)層的方法。
      圖1是用于解釋根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法的示意圖。
      參考圖1,提供其上形成像素電極的基板110。隨后,將其上形成有機(jī)層130的施主基板120層疊在形成于基板110的像素電極上。
      通過(guò)利用激光輻射設(shè)備100來(lái)將激光束150輻射到施主基板120上,從而在形成于基板110上的像素電極上形成有機(jī)層圖案。
      激光輻射設(shè)備100包括激光發(fā)生器140、構(gòu)圖的掩模160和投影透鏡170。將激光發(fā)生器140所產(chǎn)生的激光束150通過(guò)形成于激光發(fā)生器140的下部上的構(gòu)圖的掩模160來(lái)形成為具有期望的形狀,以將激光束150輻射到施主基板110上,從而在基板110上形成有機(jī)層圖案。
      不是所有的由激光發(fā)生器140產(chǎn)生的激光束150均透過(guò)了經(jīng)構(gòu)圖的掩模160。即,雖然輻射到掩模160的構(gòu)圖的部分上的激光束通過(guò)掩模160被輻射到投影透鏡170上,但是輻射到掩模160的未構(gòu)圖部分上的激光束被掩模160所阻斷。因此,為形成有機(jī)層圖案,需要大量的包括被掩模160阻斷的激光束在內(nèi)的激光束。這畢竟存在激光束效率低下的問(wèn)題。

      發(fā)明內(nèi)容
      因此,為了解決現(xiàn)有技術(shù)的前述問(wèn)題,本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法,其能夠當(dāng)通過(guò)LITI形成有機(jī)層圖案時(shí)通過(guò)使用衍射光學(xué)元件來(lái)改善激光束的能量效率,而且能夠通過(guò)僅在替換掩模的情況下形成具有各種形狀的有機(jī)層圖案來(lái)減小成本。
      為了實(shí)現(xiàn)上述的目的,本發(fā)明提供了一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法,所包括的步驟為提供其上形成有像素電極的基板;將施主基板層疊到所述基板的前面;利用配備有具有衍射光學(xué)元件的激光輻射設(shè)備將激光束輻射到所述施主基板的預(yù)定的區(qū)域,從而在所述基板上形成有機(jī)層圖案。
      所述激光輻射設(shè)備包括激光發(fā)生器;衍射光學(xué)元件,形成于所述激光發(fā)生器以下來(lái)衍射從所述激光發(fā)生器產(chǎn)生的激光束;構(gòu)圖的掩模,形成于所述衍射光學(xué)元件以下;和投影透鏡,形成于所述構(gòu)圖的掩模下。
      在所述像素電極上形成有機(jī)層圖案的步驟是在氮?dú)?N2)的氣氛或在真空環(huán)境中執(zhí)行的。
      有機(jī)層圖案是單層或多層,其選自發(fā)射層、空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層、電子注入層。


      參考附圖,通過(guò)詳細(xì)地描述其示范性實(shí)施例,本發(fā)明的以上和其它特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員將變得更加顯而易見(jiàn),在附圖中圖1是用于說(shuō)明根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法的示意圖;和圖2是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法的示意圖。
      具體實(shí)施例方式
      現(xiàn)將參考附圖,結(jié)合優(yōu)選實(shí)施例來(lái)詳細(xì)描述本發(fā)明。作為參考,在全部視圖中,相似的附圖標(biāo)記指示相應(yīng)的部分。
      圖2是用于說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法的示意圖。
      參考圖2,提供了其上形成像素電極的基板110。隨后,將在其上形成有機(jī)層130的施主基板120層疊到形成于基板110的像素電極上。通過(guò)真空吸附或壓力輥將形成于施主基板120上的有機(jī)層130層疊到基板110上。
      接下來(lái),利用配備有衍射光學(xué)元件的激光輻射設(shè)備200將激光束250輻射到施主基板120上,從而在形成于基板110的像素電極上形成有機(jī)層圖案。
      所述激光輻射設(shè)備200包括激光發(fā)生器240、衍射光學(xué)元件280、構(gòu)圖的掩模260和投影透鏡270。
      衍射光學(xué)元件280形成于激光發(fā)生器240之下,且預(yù)先設(shè)計(jì)來(lái)形成期望形狀的有機(jī)層圖案。作為利用光的衍射現(xiàn)象的光學(xué)元件的衍射光學(xué)元件280通過(guò)對(duì)于相應(yīng)相位的方法調(diào)整透鏡的焦點(diǎn),其中,作為具有薄厚度元件的衍射光學(xué)元件280具有激光束通過(guò)折射透鏡中相同的光路的相同的效應(yīng),這因?yàn)榧す馐韵嗤南辔坏竭_(dá)像點(diǎn),盡管當(dāng)從激光發(fā)生器產(chǎn)生的激光束到達(dá)像點(diǎn)時(shí),通過(guò)各自的路徑的激光束不具有相同的光路。在除了光學(xué)特性的方面外,與折射元件比較,衍射光學(xué)元件280由于厚度薄而具有減小的體積和重量,易于通過(guò)簡(jiǎn)單的方法制備,且使衍射光學(xué)元件280通過(guò)諸如擠壓成形的方法來(lái)大規(guī)模生產(chǎn)從而減小了制造成本。
      衍射光學(xué)元件280衍射從激光發(fā)生器240產(chǎn)生的入射激光束250到掩模260的圖案部分。因此,通過(guò)衍射光學(xué)元件280來(lái)衍射激光束,以使衍射的激光束通過(guò)掩模被輻射到投影透鏡270上,其狀態(tài)為激光束沒(méi)有被掩模阻斷,不同于常規(guī)地激光束被掩模阻斷的狀態(tài)。即,通過(guò)形成有機(jī)層圖案卻沒(méi)有從激光發(fā)生器240產(chǎn)生的激光束250的損失來(lái)改進(jìn)了激光束的能量效率。
      另外,因?yàn)檠苌涔鈱W(xué)元件280應(yīng)當(dāng)相應(yīng)于圖案被再次制造來(lái)形成各種形狀的有機(jī)層圖案,所以衍射光學(xué)元件280的制造工藝變得復(fù)雜,且增加了衍射光學(xué)元件280的制造成本。但是,通過(guò)僅將掩模260制造為相應(yīng)于期望圖案而將衍射光學(xué)元件280保持為原狀,根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置280的制造方法簡(jiǎn)化了制造工藝且減少了制造成本。
      在由衍射光學(xué)元件280衍射的激光束255通過(guò)形成于衍射光學(xué)元件280之下的投影透鏡折射之后,通過(guò)將激光束輻射到施主基板110上,從而在基板110上形成有機(jī)層圖案。
      形成有機(jī)膜層的工藝可以在氮?dú)?N2)氣氛下執(zhí)行。轉(zhuǎn)移工藝可以在去除氧的氮?dú)夥障聢?zhí)行,因?yàn)榫哂杏捎谄胀ǖ臍夥罩写嬖谟裳跻鸬难趸晦D(zhuǎn)移的有機(jī)層圖案的可能性。另外,可以在真空環(huán)境下執(zhí)行轉(zhuǎn)移工藝來(lái)抑制在前述的層疊工藝期間在施主基板和基板之間產(chǎn)生的氣泡的效果。
      在轉(zhuǎn)移工藝中形成的有機(jī)層圖案可以是單層或多層,其選自發(fā)射層、空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層、電子注入層。
      在執(zhí)行形成有機(jī)層圖案的轉(zhuǎn)移工藝之后,通過(guò)在有機(jī)層圖案上形成陰極來(lái)完成有機(jī)電致發(fā)光裝置。
      如上所述,根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法具有的優(yōu)點(diǎn)為當(dāng)通過(guò)LITI形成有機(jī)層圖案時(shí),通過(guò)利用衍射光學(xué)元件改進(jìn)了激光束的能量效率;和當(dāng)形成具有各種形狀的激光束來(lái)制造有機(jī)電致發(fā)光裝置時(shí),通過(guò)僅替換掩模來(lái)簡(jiǎn)化有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造工藝和減少有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造成本。
      雖然參考其優(yōu)選實(shí)施例具體地顯示和描述了本發(fā)明,然而本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員可以理解在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),可以對(duì)形式和細(xì)節(jié)進(jìn)行上述和其它變化。
      本申請(qǐng)要求于2004年9月23日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)No.2004-76674的權(quán)益,其全部?jī)?nèi)容引入于此作為參考。
      權(quán)利要求
      1.一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法,包括提供其上形成有像素電極的基板;將施主基板層疊到所述基板的前面;和利用激光輻射設(shè)備將激光束輻射到所述施主基板的預(yù)定的區(qū)域,從而在所述基板上形成有機(jī)層圖案。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述激光輻射設(shè)備包括激光發(fā)生器;衍射光學(xué)元件,形成于所述激光發(fā)生器以下來(lái)衍射從所述激光發(fā)生器產(chǎn)生的激光束;構(gòu)圖的掩模,形成于所述衍射光學(xué)元件以下;和投影透鏡,形成于所述構(gòu)圖的掩模下。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述像素電極上形成所述有機(jī)層圖案是在氮?dú)獾臍夥障聢?zhí)行的。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述像素電極上形成所述有機(jī)層圖案是在真空環(huán)境中執(zhí)行的。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述有機(jī)層圖案是單層或多層,選自發(fā)射層、空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層、電子注入層。
      全文摘要
      本發(fā)明公開(kāi)了一種有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法,包括利用配備有衍射光學(xué)元件的激光輻射設(shè)備將激光束輻射到所述施主基板的預(yù)定的區(qū)域,從而在所述基板上形成有機(jī)層圖案。根據(jù)本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造方法具有的優(yōu)點(diǎn)為當(dāng)通過(guò)LITI形成有機(jī)層圖案時(shí)通過(guò)利用衍射光學(xué)元件改進(jìn)了激光束的能量效率;和當(dāng)形成具有各種形狀的激光束來(lái)制造有機(jī)電致發(fā)光裝置時(shí),通過(guò)僅替換掩模來(lái)簡(jiǎn)化有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造工藝和減少有機(jī)電致發(fā)光裝置的制造成本。
      文檔編號(hào)H05B33/12GK1753587SQ20051010379
      公開(kāi)日2006年3月29日 申請(qǐng)日期2005年9月23日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月23日
      發(fā)明者李在濠, 姜泰旻, 金鎮(zhèn)洙, 李城宅 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社
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