專利名稱：：醫(yī)療支架的超聲涂敷方法及裝置的制作方法醫(yī)療支架的超聲涂敷方法及裝置發(fā)明背景發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及涂敷技術(shù)，并且更具體地說，涉及采用超聲能量來涂敷各種類型的醫(yī)療器械表面的裝置和方法，所述醫(yī)療器械如支架、導(dǎo)管、植入體等。相關(guān)技術(shù)的描述人和動物的血管以及其他空洞和腔都是通過利用支架(可植入的網(wǎng)槽(meshtub)器械)擴(kuò)張受損的壁區(qū)域來以機(jī)械方式增強(qiáng)血液流動而獲得治療。支架一般分為兩類金屬桿支架和治療劑洗脫支架。治療劑洗脫支架涂敷有聚合物和治療劑以減輕諸如再狹窄等的不良生理反應(yīng)。由于支架的特定構(gòu)型和設(shè)計樣式以及現(xiàn)有涂敷技術(shù)和方法的不足，使得一致和/或均勻地涂敷支架的內(nèi)表面和外表面一直是相當(dāng)困難的。此外，在無網(wǎng)紋(webbing)或拉絲(stringing)的涂敷再現(xiàn)性和對治療劑-聚合物涂料劑量的控制方面也存在問題。在一些情形中，可以通過改變沿著醫(yī)療器械表面的涂層厚度來對治療劑的釋放曲線進(jìn)行優(yōu)化。例如，為了降低由支架端部造成的再狹窄風(fēng)險，可以通過使支架端部的涂層厚度比中部的厚而使得涂層厚度可以沿著支架的縱軸改變。通過不同的技術(shù)將涂料施用于支架和其他醫(yī)療器械的表面(包括器械的內(nèi)表面和外表面)，所述技術(shù)如機(jī)械涂敷、氣體噴涂、浸漬、極化涂敷、電荷(靜電)涂敷、超聲涂敷等。已通過浸漬和噴射的組合來施用涂料。還使用超聲能量或超聲噴射來施用涂料，這與將支架浸漬入超聲浴一樣。迄今為止現(xiàn)有的所有涂敷技術(shù)和方法均存在嚴(yán)重的缺點(diǎn)。這樣的缺點(diǎn)包括不均勻的涂層厚度、表面上的網(wǎng)紋、拉絲、空點(diǎn)(barespots)、治療劑的浪費(fèi)、過度噴射、控制治療劑流量的難度以及粘著性問題。目前的涂敷技術(shù)還需要長的干燥時間和隨后的滅菌。因此，需要一種適用無缺陷的、可控的涂敷技術(shù)的方法和裝置，以及用于支架和其他醫(yī)療器械的方法。圖1、圖2和圖3示出了根據(jù)美國專利#6569099的最接近本發(fā)明的現(xiàn)有技術(shù)一一使用時具有錐形噴射型式的超聲噴射器。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，來自管9的液滴或液流2被直接輸送至超聲尖端1的放射面5或輻射面6,其形成了噴射3并將該噴射輸送至受損面(wound)4。圖4和圖5示出了現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，在該情況下，液體2的一部分7從放射面5或輻射面6滴落，因而還未得到噴射就被浪費(fèi)掉。另外，液體的滴落產(chǎn)生湍流和不均勻的噴射，其導(dǎo)致了不均勻的涂層。液體的滴落造成昂貴治療劑的過度浪費(fèi)，并改變噴射粒子的均勻性，這妨礙了支架的均勻涂敷。此外，現(xiàn)有技術(shù)的噴射型式為錐形并且所述噴射型式的截面為圓形，其與支架構(gòu)型不匹配。這是重要的不同，因為這樣的型式過度噴射支架的表面，使得治療劑再次浪費(fèi)并且不能控制涂層的厚度。現(xiàn)有技術(shù)的方法和裝置可成功地用于治療受損面，原因是鹽水和其他抗生素的低廉價格和相對大尺寸的治療面積。但現(xiàn)有技術(shù)的裝置不能用于支架涂敷，原因是用于支架涂敷的治療劑極其昂貴以及對涂層的均勻性和可控性等要求高。治療劑、聚合物、其組合或混合物不能容易地潤濕支架的表面，并且難以實現(xiàn)涂料與支架表面之間的順暢接觸。此外，治療劑+聚合物的混合物降低了由不同材料制成的支架的潤濕性，所述材料如316-L不銹鋼、316-LS不銹鋼、MP-35合金、鎳鈦金屬互化物、鉭、陶資、鋁、鈦、鎳、鈮、金、聚合材料，及其組合?？赏ㄟ^不同的方法來增加潤濕性或粘著性，所述方法如涂底劑、通過化學(xué)制品蝕刻、將支架表面暴露于電暈(電導(dǎo)體周圍空氣的電離)、等離子體等，但是這些方法產(chǎn)生的表面能量快速消散，限制了支架涂敷的時間。涂底劑(如氨基曱酸乙酯、硅、環(huán)氧樹脂、丙烯酸酯(acrilates)、聚酯)需要相當(dāng)?shù)乇〔⑶冶仨毰c施用于其上的治療劑、聚合物或它們的混合物相容。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明涉及適用無缺陷的、可控的涂敷技術(shù)的裝置和方法，以及可應(yīng)用于支架和其他醫(yī)療器械的方法。本發(fā)明的用于支架涂敷的超聲方法和裝置將提供可控的涂料厚度，而無網(wǎng)紋和拉絲。涂料的厚度可沿著所述支架或其他醫(yī)療器械的軸而改變。根據(jù)本發(fā)明最常規(guī)的方面，將受控量的液體輸送至振動部件一一超聲尖端的遠(yuǎn)端，所述超聲尖端的形狀為矩形以產(chǎn)生矩形型式的細(xì)密噴射。經(jīng)由精確的注射器泵或通過毛細(xì)管作用和/或重力作用來輸送液體。在這種情況下，所輸送的液體量必須與涂層的體積或重量大約相同，并且須經(jīng)實驗確定。液體輸送管/導(dǎo)管的遠(yuǎn)端必須為矩形或平面的，其應(yīng)與超聲尖端遠(yuǎn)端的幾何形狀相匹配，以形成均勻和一致的平面噴射型式或細(xì)長噴射型式。一般通過使液體經(jīng)過超聲儀尖端的中央孔來操作超聲噴射器。氣流將氣溶膠粒子輸送至被涂敷的表面。目前，已表明支架的超聲涂敷應(yīng)用需使用氣流/空氣流進(jìn)行輸送，以精確控制所輸送的液體體積。然而其存在以下若干問題。首先，圓形的噴射型式/錐形的噴射型式將治療劑直接輸送至支架表面會造成昂貴治療劑的浪費(fèi)。其次，液體粒子40微米至60微米范圍的最小直徑不能使支架涂敷上5-30微米厚度的涂層。此外，輻射面產(chǎn)生的液體滴落造成昂貴治療劑的浪費(fèi)并改變所述涂層的均勻性。所提議的用于涂敷醫(yī)療器械和支架的技術(shù)包括形成與待涂敷支架或表面的幾何形狀相匹配的噴射型式。該技術(shù)還包括使用多種低頻超聲波的聲效應(yīng)。這些聲效應(yīng)從未用于涂敷技術(shù)。此外，所述技術(shù)包括在涂敷過程期間使支架旋轉(zhuǎn)(spin)并移動超聲涂敷頭，以產(chǎn)生特殊的超聲-聲效應(yīng)，這將在下文中詳細(xì)描述。為了達(dá)到高品質(zhì)的效果，所有的涂敷操作均通過專用的軟件程序進(jìn)行控制。所提議的方法可涂敷由不同材料制成的剛性、柔韌以及自身擴(kuò)展的支架，所述材料如金屬、形狀記憶合金、塑料、生物組織及其他生物相容的材料。液體涂料的體積從1微升開始增加，使得噴射輸送過程被相當(dāng)精確地控制為100%輸送。所述技術(shù)還可包括將另外的氣流s1入涂敷區(qū)域。氣流可以是熱的或者是冷的，并被引導(dǎo)通過粒子噴射或與所述粒子噴射分開。所述設(shè)備包括專門制造用于避免噴射液體浪費(fèi)并允許控制噴射過程的超聲尖端。超聲頻率范圍可在20KHz和200KHz之間或更高。優(yōu)選的超聲頻率范圍為20-60KHz,其中推薦的頻率為60KHz。在機(jī)器人控制下，根據(jù)所需的涂料厚度，每一頂部平坦的(tabletop)裝置每小時可涂敷、干燥并滅菌60個至100個支架或更多個支架。因此，所提議的用于超聲支架涂敷的裝置和方法得到了一致的、均勻的、可控的和精確的治療劑或聚合物的輸送，而無網(wǎng)紋、拉絲。此外，涂敷涂層、干燥和滅菌與增強(qiáng)支架表面的粘著性能同時進(jìn)行。本發(fā)明的一個方面提供了用于涂敷諸如支架的醫(yī)療植入體的改進(jìn)的方法和裝置。本發(fā)明的另一個方面提供了使用超聲對支架涂敷藥物和聚合物的方法和裝置。本發(fā)明的另一個方面提供了用于涂敷支架的方法和裝置，其提供了厚度可以控制的涂層。本發(fā)明的另一個方面提供了用于涂敷支架的方法和裝置，其提供了厚度沿著結(jié)構(gòu)的縱軸變化的涂層。本發(fā)明的另一個方面提供了用于涂敷支架的方法和裝置，其避免了如網(wǎng)紋、拉絲等涂層缺陷。本發(fā)明的另一個方面提供了用于涂敷支架的方法和裝置，其無需化學(xué)制品就能增強(qiáng)沿著結(jié)構(gòu)縱軸的支架的粘著性能。本發(fā)明的另一個方面提供了用于涂敷支架的方法和裝置，其使沿著結(jié)構(gòu)縱軸的涂層干燥與涂敷過程同時進(jìn)行。本發(fā)明的另一個方面提供了用于涂敷支架的方法和裝置，其使沿著結(jié)構(gòu)縱軸的涂層滅菌與涂敷過程同時進(jìn)行。附圖簡述根據(jù)優(yōu)選實施方案的附圖來展示并描述本發(fā)明，使得可以清楚地理解本發(fā)明的細(xì)節(jié)。圖1是在目前可獲得的裝置中，使用時具有錐形噴射型式的超聲噴射器的截面圖；圖2示出根據(jù)目前可獲得的裝置，液體直接輸送到超聲尖端的輻射面；圖3示出根據(jù)目前可獲得的裝置，液體直接輸送到超聲尖端的輻射面；圖4是在目前可獲得的裝置中的超聲噴射器的截面圖，其顯示了從超聲尖端的》文射面或輻射面滴落的液滴；圖5是在目前可獲得的裝置中，具有錐形噴射型式的超聲噴射器的三維-現(xiàn)圖，且從超聲尖端的力欠射面或輻射面滴落液滴；圖6是根據(jù)本發(fā)明概念的超聲噴射器尖端的截面圖，其具有使用時用于液滴或液流的著落空間(landingspace)并具有平面Q人上方)噴射型式；圖7是根據(jù)本發(fā)明概念的超聲噴射器尖端的三維視圖，其具有使用時用于液滴或液流的著落空間并具有平面Q人上方)噴射型式；圖8是根據(jù)本發(fā)明裝置的概念的超聲噴射器尖端的截面圖，其具有使用時用于液滴或液流的著落空間且從尖端切掉下部(使得上方和下方均具有平面噴射型式)；圖9是根據(jù)本發(fā)明裝置的概念的超聲噴射器尖端的三維視圖，其具有使用時用于液滴或液流的著落空間且從尖端切掉下部(使得上方和下方均具有平面噴射型式)；圖IO是根據(jù)本發(fā)明裝置的概念的超聲噴射器尖端的三維視圖，其具有使用時用于液滴或液流的著落空間且具有矩形形式的輻射面以形成矩形噴射或平面噴射而無液滴滴落；圖11是根據(jù)本發(fā)明裝置的概念的矩形超聲噴射器尖端的三維視圖，其具有使用時用于在一個點(diǎn)上經(jīng)由液體輸送管/導(dǎo)管的液滴的著落空間以及具有矩形形式的輻射面以形成矩形噴射或平面噴射而無液滴滴落；圖12是根據(jù)本發(fā)明裝置的概念的矩形超聲噴射器尖端的三維視圖，其具有使用時用于經(jīng)由截面寬度方向上的多根管/導(dǎo)管的液滴的著落空間且具有矩形形式的輻射面以形成矩形噴射或平面噴射而無液滴滴落，并且還顯示了在指軸或心軸上旋轉(zhuǎn)的支架(stent);圖13是根據(jù)本發(fā)明裝置的概念的矩形超聲噴射器尖端的三維視圖，其具有使用時用于截面寬度方向上的液流的著落空間且具有矩形形式的輻射面以形成矩形噴射或平面噴射而無液滴滴落，其中液體輸送管/導(dǎo)管的橫截面與超聲尖端的遠(yuǎn)端或輻射面一樣是矩形的；圖14是無噴射時，部分超聲支架涂敷過程的聲效應(yīng)圖示；圖15是噴射時，超聲支架涂敷過程的聲效應(yīng)圖示；圖16是用于涂敷支架的具有特定構(gòu)型的遠(yuǎn)端的超聲尖端的三維圖示；和圖17是根據(jù)本發(fā)明的帶軸孔的超聲噴射器的截面圖，其具有使用時的矩形噴射型式/平面噴射型式。發(fā)明詳述本發(fā)明為利用超聲能量來涂敷諸如支架的醫(yī)療器械的方法和裝置。依據(jù)本發(fā)明的裝置可產(chǎn)生高度精確可控的、精細(xì)的、指向目標(biāo)的噴射。這種高度精確可控的、精細(xì)的、指向目標(biāo)的噴射允許依據(jù)本發(fā)明的裝置涂敷支架，且與目前的多種技術(shù)相比，沒有或有減少量的網(wǎng)紋、拉絲以及昂貴治療劑的浪費(fèi)。本發(fā)明以下的描述提及了附圖中示出的主題。附圖以可以實施本發(fā)明的示例性實施方案的形式示出了本發(fā)明的不同方面。充分詳細(xì)地描述這些實施方案，使得本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠?qū)嵤┍景l(fā)明。一經(jīng)閱覽本發(fā)明的公開內(nèi)容，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，可以實施不包括某些具體方面的不同實施方案。在本發(fā)明的公開內(nèi)容中所提及的"一(an)"、"一(one)"或"各種，，實施方案并不必須是相同的實施方案，并且這樣的提法預(yù)期包括一個以上的實施方案。因此，以下的詳細(xì)說明不應(yīng)理解為限制，并且其范圍只由所附的權(quán)利要求和這些權(quán)利要求所具有的全部法律等效范圍來界定。本發(fā)明提供了新型的超聲尖端1和用于分散流體體積以涂敷支架的方法。圖6至圖17示出了依據(jù)本發(fā)明的超聲尖端1的實施方案。依據(jù)本發(fā)明，超聲尖端1包括在所述超聲尖端1遠(yuǎn)端上的著落空間17。所述著落空間提供了可以將液滴2或液流2引到超聲尖端1上的表面。所述超聲尖端1通常由金屬制造而成。在一個方面，所使用的金屬可以是鈦。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，依據(jù)本發(fā)明的超聲尖端可由另外的材料制造而成。如同本領(lǐng)域技術(shù)人員閱覽本發(fā)明的公開內(nèi)容后所理解的一樣，超聲尖端1通常連接到超聲振動所述超聲尖端1的裝置(未顯示)。圖6至圖17示出了著落空間17的不同構(gòu)型。在一個方面，著落空間17可提供用于引入液體或治療劑的基本上平坦的表面，所述表面避免了液體/治療劑7的滴落和浪費(fèi)。在另一個方面，著落空間17可具有彎曲的表面。由于尖端振動，使得液體/治療劑7從著落空間17被抽出，而在著落空間17中液體/治療劑7被引入超聲尖端1的輻射面6,液體/治療劑7從該輻射面被分散。在一個方面，當(dāng)參照例如圖6、圖8和圖17中示出的實施方案的方位從上方觀看時，由界定著落空間17的表面與界定輻射面6的表面交叉所形成的線5應(yīng)與超聲尖端1的縱軸垂直。在一個方面，著落空間17在如圖6至圖17所示出的噴射型式中可形成基本上平坦的平面。著落空間17可從水平軸傾斜成角a，使得a的范圍為0<a<90。。角a的推薦范圍為30°<a<60。，且優(yōu)選的角為01=45°。提供注射器泵8,以將液體2輸送至超聲尖端1的著落空間17?？蓪ψ⑸淦鞅?進(jìn)行設(shè)置，使得能夠精確控制液體/治療劑7流到超聲尖端1上。圖8和圖9示出通過提供與著落空間17在幾何圖形上相對的第二平坦表面12而形成的細(xì)長或基本上為卵形的噴射型式10。第二平坦表面以從縱軸7測量為(3的角度形成，所述第二平坦表面與輻射面6基本上垂直。散液體/治療劑7。優(yōu)選a=(3。圖10示出形成矩形噴射型式10的實施方案。圖11示出根據(jù)本發(fā)明概念的矩形超聲噴射器尖端1的實施方案的三維視圖，該矩形超聲噴射器尖端1具有使用時用于在一個點(diǎn)上經(jīng)由輸送管/導(dǎo)管9(闡釋在圖12和圖13中)的液滴的著落空間17且具有矩形形式的輻射面6以形成矩形噴射或斗面噴射3而不會滴落部分液體7。圖12闡述了矩形超聲噴射器尖端1的實施方案的三維視圖解，該矩形超聲噴射器尖端1具有使用時用于經(jīng)由截面寬度方向上的多根管/導(dǎo)管9(a、b、c)的液滴2的著落空間17且具有矩形形式的輻射面6以形成矩形噴射或平面噴射3而不會滴落部分液體7。圖12還示出了在指軸或心軸20上旋轉(zhuǎn)的支架19。此示例性實施方案的優(yōu)勢或益處在于，通過控制來自不同管的液體流，可使支架表面沿著結(jié)構(gòu)的縱軸被涂敷上不同厚度或變化厚度的涂層。此外，這樣的系統(tǒng)允許使用不同的治療劑來沿著支架的縱軸涂敷支架。圖13是根據(jù)此實施方案的矩形超聲噴射器尖端1的三維一見圖，該矩形超聲噴射器尖端1具有使用時用于截面寬度方向上的液流2的著落空間17且具有矩形形式的輻射面6以形成矩形噴射或平面噴射3而不會滴落液滴7。應(yīng)注意，液體輸送管/導(dǎo)管9的截面21與超聲尖端1一樣是矩形的。圖14是作為超聲支架涂敷技術(shù)一部分的聲效應(yīng)在無噴射時的應(yīng)用圖示。具體地說，圖14示出了用于改善支架表面粘著性的技術(shù)。目前，關(guān)鍵問題之一在于使得涂料粘著至支架或其他醫(yī)療器械的棵金屬表面。此實施方案提供了用來改善棵金屬支架表面粘著以增強(qiáng)涂料粘著力的新方法。在此實施方案中，通過將支架19置于超聲尖端1的輻射面6之前來改善表面粘著性。超聲尖端1必須能夠朝著支架往返(x-x)移動，以及在支架19的軸向(y-y)上移動。將支架置于輻射面之前的原因是基于"近場"(菲涅耳區(qū))中超聲波的電離作用來改善涂料的表面粘著。超聲空氣電離效應(yīng)的解釋和說明穩(wěn)定的空氣(主要為氮?dú)夂脱鯕?分子不會被極化，而且超聲場不會影響它們。空氣還包括在超聲場中來回運(yùn)動的多種自由電子(負(fù)離子)。大于約1w/cn^[瓦/每平方厘米]的空氣過度應(yīng)力(優(yōu)選在輻射面和阻擋物之間)可使空氣中的自由電子獲得足夠的能量來碰撞來自空氣中穩(wěn)定分子的自由電子。這些新釋放的電子能撞擊甚至更多的電子，從而產(chǎn)生更多的負(fù)離子和正離子。當(dāng)空氣中的氧氣分子失去電子，它們變成極化的正離子。這些正離子形成了臭氧o2—o+oo+o2—03快速運(yùn)動的負(fù)離子和運(yùn)動較慢的大量陽離子沖擊支架的表面，最終破壞諸如氧化物的絕緣層，或在絕緣表面產(chǎn)生導(dǎo)電的"漏電痕跡(tracking)"。這產(chǎn)生了無氧化物的干凈表面。才艮據(jù)經(jīng)典物理學(xué)理論，自由電子是未束縛在分子軌道中的電子。負(fù)離子是自由電子。正離子是失去電子并被極化的分子。值得注意的是，在尖端輻射面和該尖端輻射面之前的阻擋物(如涂敷過程中的支架)中間出現(xiàn)的有效超聲空氣電離過程更為持久和更具活性。在這種條件下，聲處理期間空氣的電離發(fā)生在尖端輻射面與阻擋物之間的近場-遠(yuǎn)場交界面處。近場(菲涅耳區(qū))的長度1^等于1^=/"=//4義，其中r是半徑，d是輻射面的直徑或超聲尖端的遠(yuǎn)端直徑，義是傳播介質(zhì)中的超聲波長。最大的超聲強(qiáng)度出現(xiàn)在近場(菲涅耳區(qū))和遠(yuǎn)場(夫朗和費(fèi)區(qū))之間的交界面處。遠(yuǎn)場中的射束發(fā)散導(dǎo)致了隨著遠(yuǎn)離換能器而持續(xù)損耗超聲強(qiáng)度。由于換能器的頻率增加，波長A減小，使得近場的長度增加。根據(jù)超聲能量參數(shù)和超聲換能器/尖端的設(shè)計，電離時間可從數(shù)分之一秒到數(shù)分鐘。相應(yīng)需注意地是，在本發(fā)明中，空氣電離在超聲涂敷過程期間還發(fā)生在空氣中的噴射粒子之間，這也增加了表面粘著。在改善粘著性或進(jìn)行表面清潔循環(huán)之后，不中斷該過程就必須開始涂敷循環(huán)。圖15示出噴射時的超聲支架涂敷過程。支架19在涂敷過程期間可在超聲場的近場或遠(yuǎn)場中進(jìn)行涂敷。優(yōu)選地，必須在稍微離開近場處(或在靠近近場的遠(yuǎn)場中)涂敷支架。最優(yōu)選地，支架涂敷過程必須在遠(yuǎn)場中開始，在近場或在波幅的峰值處繼續(xù)進(jìn)行并完成。在涂敷過程期間，支架以旋轉(zhuǎn)方式來回運(yùn)動使得噴射粒子以輕柔的方式均勻地著落在涂敷表面并在超聲壓力下成流線型遍布于表面而不引起拉絲。同時，超聲壓力波的力，特別是超聲的風(fēng)防止/避免了網(wǎng)紋、狹窄小空間的簡單起泡以及使噴射粒子穿過間隙并涂敷支架臂的內(nèi)表面。此外，如圖18所示，在涂敷循環(huán)之后和在干燥循環(huán)期間，壓力包括超聲風(fēng)干涂層。部分地，在涂敷期間產(chǎn)生的風(fēng)和蒸發(fā)作用可用作干燥手段(drier)。涂層的厚度受超聲參數(shù)和非超聲參數(shù)的控制，所述超聲參數(shù)如頻率/波長、波幅、波的模式(CW-連續(xù)、PW-脈沖)、信號形式，所述非超聲參數(shù)如支架的旋轉(zhuǎn)速度、距輻射面的距離、時間和液體特性。同時，改善粘著性、涂敷和干燥全部三種循環(huán)允許被涂敷支架的滅菌。因公知的臭氧細(xì)菌和病毒的千擾性能，使得滅菌成為涂敷過程的第四循環(huán)。值得注意的是，上述過程可涂敷支架的一部分或一半，原因是心軸與支架內(nèi)側(cè)的接觸面未能涂敷。在將支架重新安裝于心軸后，可通過重復(fù)所述過程來涂敷該支架的另一側(cè)。此外，固定器/心軸的新設(shè)計和構(gòu)型使得支架可在一項步驟/循環(huán)中進(jìn)行涂敷。還可以使用具有不同聚合物+治療劑組合的一個以上的噴嘴。圖16是用于涂敷支架的具有特定構(gòu)型的遠(yuǎn)端的超聲尖端1的三維圖示。在圖16中，超聲尖端的遠(yuǎn)端6是矩形的，以便避免過多使用或損失昂貴的諸如治療劑或聚合物的涂料液體。主視圖中，尖端的矩形遠(yuǎn)端與支架的矩形剖面相匹配。圖17是根據(jù)本發(fā)明的帶有軸孔26的超聲噴射器30的截面圖，該超聲噴射器30具有使用時的矩形噴射/平面噴射3型式10。圖18描述了用于支架的超聲涂敷過程的示例性方法的詳細(xì)流程圖和依據(jù)本發(fā)明的循環(huán)在31處，提供支架是指必須將支架安裝在心軸上?？諝庵械某曤婋x效應(yīng)發(fā)生在"近場，，中(菲涅耳區(qū))，并且當(dāng)超聲波輻射停止時在極短的時間(數(shù)分之一秒)內(nèi)消失。臭氧極其不穩(wěn)定且隨著原子氧的離析而溶解o3—o2+o因此，改善粘著性、涂敷、干燥和滅菌全部四種循環(huán)在不中斷涂敷循環(huán)過程的條件下進(jìn)行。圖18的支架19在改善粘著性循環(huán)32期間必須置于近場或優(yōu)選置于近場-遠(yuǎn)場交界面處。接下來的循環(huán)33開啟超聲或致動超聲換能器尖端。在循環(huán)34，心軸與支架開始旋轉(zhuǎn)。在下一循環(huán)35,對支架施用噴涂。循環(huán)36包括停止涂敷和隨著聲處理過程繼續(xù)旋轉(zhuǎn)。在循環(huán)37,將支架拉至波長距離并使其旋轉(zhuǎn)和進(jìn)行聲處理，以達(dá)到表面滅菌和干燥的目的。為了實現(xiàn)本發(fā)明的高性能和高生產(chǎn)率的方法和裝置，考慮使用具有特殊軟件—硬件-控制器—涂敷系統(tǒng)的先進(jìn)的專用機(jī)器人系統(tǒng)，使得'"、軸旋轉(zhuǎn)(以可變的速度)和在X-Y-Z方向運(yùn)動。值得注意的是，所有的附圖示出了包括改善粘著性、涂敷、干燥和滅菌的涂敷過程的具體應(yīng)用和實施方案，并且不預(yù)期限制本發(fā)明的公開內(nèi)容或其中所提出的權(quán)利要求的范圍。盡管本文示出并描述了具體的實施方案，但是本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)理解，適于達(dá)到相同目的的任何配置均可替代所示出的具體實施方案。例如，可使用治療劑、聚合物、它們的溫度、循環(huán)、順序和時間、另外的氣流(具有不同的溫度)的多種組合來實現(xiàn)涂層質(zhì)量的提高。在各種實施方案中，可使用所述裝置來涂敷支架，以得到可控度高的均勻涂層。改進(jìn)的裝置可涂敷沿著此結(jié)構(gòu)的縱軸具有變化厚度的涂層的支架。因此，有待理解的是以上描述預(yù)期用于說明而不是進(jìn)行限制。一經(jīng)閱覽本發(fā)明的公開內(nèi)容后，以上實施方案和其他實施方案的組合對于本領(lǐng)域技術(shù)人員將是顯而易見的。本發(fā)明的范圍應(yīng)根據(jù)所附的權(quán)利要求和這些權(quán)利要求所具有的全部等效范圍來確定。權(quán)利要求1.一種用于涂布一個或更多個支架的至少一部分的方法，其包括旋轉(zhuǎn)所述支架；對所述支架進(jìn)行聲處理以改善粘著性；形成至少一指向目標(biāo)的、均勻的涂料噴霧；將涂料引導(dǎo)并施用到所述支架上；在各種襯底上形成至少一精確和均勻的涂層；和涂敷后對所述支架進(jìn)行聲處理以滅菌。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于超聲尖端的輻射面之前并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在噴射時將所述支架置于超聲尖端的輻射面之前并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括未噴射時將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的近場中并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的"遠(yuǎn)場"中并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的"近場"中波幅峰值處并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的"遠(yuǎn)場"中波幅峰值處并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以Y更在涂I丈前改善表面粘著。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的"近場"中波幅的兩個峰值之間并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的"近場"中波幅的兩個峰值之間并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在未噴射時將所述支架置于超聲尖端的輻射面之前的近場-遠(yuǎn)場交界面中并進(jìn)行聲處理使空氣電離，以便在涂敷前改善表面粘著。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括旋轉(zhuǎn)所述支架。12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括固定所述支架。13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，還包括以所述超聲尖端的所述輻射面與所述支架之間的距離而振蕩并旋轉(zhuǎn)所述支架。14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，還包括以所述超聲尖端的所述輻射面與所述支架之間的距離而振蕩并固定所述支架。15.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括在電離空氣后立即使用涂層材料噴射所述支架。16.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前，并噴射所述涂層材料。17.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的近場中，并噴射所述涂層材料。18.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的遠(yuǎn)場中，并噴射所述涂層材料。19.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前的近場-遠(yuǎn)場交界面中，并噴射所述涂層材料。20.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，還包括將所述支架置于所述超聲尖端的所述輻射面之前，并以所述超聲尖端的所述輻射面與所述支架之間的距離而振蕩，同時噴射所述涂層材料。21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在遠(yuǎn)場中開始所述涂敷的過程并在近場中完成所述涂敷的過程。22.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在近場中開始所述涂敷的過程并在遠(yuǎn)場中完成所述涂敷的過程。23.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在遠(yuǎn)場中開始所述涂敷的過程并在波幅的兩個峰值之間完成所述涂敷的過程。24.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在近場中開始涂敷并在遠(yuǎn)場中波幅的兩個峰值之間完成涂敷。25.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在近場中開始所述涂敷的過程并在近場-遠(yuǎn)場交界面中完成所述涂敷的過程。26.根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法，還包括在近場中開始所述涂敷的過程并在遠(yuǎn)場中波幅峰值處完成所述涂敷的過程，以及旋轉(zhuǎn)所述支架。27.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在完成所述涂敷的過程后對所述支架進(jìn)行聲處理并旋轉(zhuǎn)所述支架，以便干燥所述支架。28.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在完成所述涂敷的過程后立即對所述支架進(jìn)行聲處理并旋轉(zhuǎn)所述支架，以便對所述支架滅菌。29.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括在完成所述涂敷的過程后立即對所述支架進(jìn)行聲處理并旋轉(zhuǎn)所述支架，以便同時干燥所述支架和對所述支架滅菌。30.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括使用不同的超聲波波幅來改善粘著，進(jìn)行涂敷、干燥和滅菌。31.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中超聲頻率的范圍為18KHz至60MHz。32.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中超聲頻率的優(yōu)選范圍為18KHz至200KHz。33.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中超聲頻率的最優(yōu)選范圍為18KHz至60KHz。34.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中推薦的超聲頻率為約50KHz。35.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，還包括使用不同的超聲波頻率來改善粘著，進(jìn)行涂敷、干燥和滅菌。36.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂料是治療劑。37.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂料是聚合物。38.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中所述涂料是治療劑和聚合物的>'昆合物或纟且合。39.—種用于涂敷至少一個支架的至少一部分的裝置，其包括a.具有尖端的超聲換能器；b.具有用來發(fā)射超聲能量的輻射面的超聲換能器尖端；和c.在尖端的輻射面上具有著落空間的超聲換能器尖端，在其上提供液體以產(chǎn)生無液滴滴落的噴射。40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中所述超聲換能器的頻率范圍為18KHz至60MHz。41.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中所述超聲換能器的頻率范圍為18KHz至60KHz。42.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中所述超聲換能器在約50KHz的頻率下操作。43.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端的遠(yuǎn)端的振幅范圍為3孩i米至300孩￡米。44.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端的遠(yuǎn)端的振幅為約40微米。45.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端的遠(yuǎn)端是圓形的。46.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端的遠(yuǎn)端是矩形的。47.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端的遠(yuǎn)端具有著落空間。48.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端的遠(yuǎn)端是不同幾何形狀的組合，并具有著落空間。49.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中超聲尖端具有中央孔或軸孔。50.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中所述超聲換能器的驅(qū)動信號為正弦形的。51.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其中所述超聲換能器的驅(qū)動信號為矩形或梯形的。全文摘要一種在諸如支架或其他醫(yī)療器械的各種襯底上形成精確的和均勻的涂層的超聲裝置和技術(shù)。所述裝置和技術(shù)增強(qiáng)了支架或其他醫(yī)療器械的表面粘著性。此外，涂敷、干燥、滅菌過程同時進(jìn)行。所述裝置產(chǎn)生并輸送指向目標(biāo)的、緩和的且分配可控性高的連續(xù)液體噴射。該超聲涂敷裝置和技術(shù)提供了瞬時啟動-停止的涂敷過程，使得治療劑不受大氣污染，且無“網(wǎng)紋”、“拉絲”或表面涂層的其他異?，F(xiàn)象。此外，此項技術(shù)減少了昂貴的藥品或其他昂貴涂層材料的浪費(fèi)。文檔編號B06B1/00GK101237945SQ200680028519公開日2008年8月6日申請日期2006年7月18日優(yōu)先權(quán)日2005年8月4日發(fā)明者艾拉茲·P·巴巴耶夫申請人:艾拉茲·P·巴巴耶夫