專利名稱：：烹調(diào)器用面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及配置在電磁加熱(IH)烹調(diào)器、紅外線加熱烹調(diào)器、燃?xì)馀胝{(diào)器等烹調(diào)器的上方的烹調(diào)器用面板。
背景技術(shù)：
：作為電磁加熱烹調(diào)器和紅外線加熱烹調(diào)器中使用的面板，使用低熱膨脹的玻璃、陶瓷等材料。另外，燃?xì)馀胝{(diào)器為了美觀性和清掃性優(yōu)異，也使用低熱膨脹的玻璃、陶瓷材料等。在這些使用玻璃等的面板中，為了在視覺上遮蔽內(nèi)部的烹調(diào)器和溫度傳感器等，在基板上形成Ti膜等金屬膜，通過金屬光澤等使面板變得美觀。圖2是表示這樣的現(xiàn)有的烹調(diào)器用面板的截面圖。如圖2所示，烹調(diào)器用面板10，在玻璃基板1上設(shè)置有由金屬膜構(gòu)成的遮光層2，在遮光層2上設(shè)置有由SiN膜等構(gòu)成的保護(hù)層3。如上所述，遮光層2是為了通過付與金屬光澤，在視覺上遮蔽內(nèi)部的烹調(diào)器而設(shè)置。另外，保護(hù)層3是為了防止加熱引起遮光層氧化而設(shè)置。在現(xiàn)有的面板中，如上所述，作為遮光層2，例如，形成Ti膜。通過將Ti膜作為遮光層2使用，能夠得到良好的耐熱性，但是Ti膜是導(dǎo)電性較高的金屬膜，如圖2所示，形成接觸傳感器部4的情況下，在與接觸傳感器部4對應(yīng)的區(qū)域中，需要設(shè)置絕緣膜7。在接觸傳感器部4的基板1的上方面形成導(dǎo)電油墨層5，通過形成絕緣膜7，能夠在導(dǎo)電油墨層5和設(shè)置在其相反側(cè)的電極6之間形成靜電電容，能夠構(gòu)成靜電電容式開關(guān)。因此，在將Ti膜等導(dǎo)電性良好的金屬膜作為遮光層2使用的現(xiàn)有的面板中，在形成接觸傳感器部的區(qū)域，需要代替遮光層和保護(hù)層形成絕緣膜。因此，例如，需要以印刷法形成絕緣膜，將該部分掩蔽后，形成遮光層和保護(hù)層，存在制造工序變得復(fù)雜的問題。另外，由于形成絕緣膜的部分與其他部分顏色不同，還存在影響美觀的問題。因此，需要一種能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部的烹調(diào)器用面板。另外，已知在最近的烹調(diào)器中，在內(nèi)部設(shè)置LED等光源，將該光源發(fā)出的光作為用于表示火力強(qiáng)弱的顯示而使用。但是，現(xiàn)有的烹調(diào)器用面板，由于短波長的透過率較低，存在這樣的LED的光，特別是藍(lán)色LED的光難以透過的問題。專利文獻(xiàn)1中，提出了將Si、Ti等各種金屬膜作為遮光層使用的烹調(diào)器用面板。但是，這些現(xiàn)有技術(shù)的烹調(diào)器用面板，以能夠著色為各種顏色、并且耐熱性優(yōu)異的面板為目的，但對于提高藍(lán)色LED等用于顯示的光的視認(rèn)性沒有討論。另外，該現(xiàn)有技術(shù)中，進(jìn)行了耐熱性的評價，但不能滿足更加嚴(yán)格基準(zhǔn)下的耐熱性。專利文獻(xiàn)1日本特開2004-333102號公報
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部，并且內(nèi)部設(shè)置的藍(lán)色LED等用于顯示的光的視認(rèn)性和保證美觀的遮光性優(yōu)異，同時耐熱性優(yōu)異的烹調(diào)器用面板。本發(fā)明是配置于烹調(diào)器的上方的烹調(diào)器用面板，其特征在于，具有玻璃基板、遮光層和保護(hù)層，其中，遮光側(cè)設(shè)置在玻璃基板的一方的面上，膜厚為50190nm，由Si或者Ge構(gòu)成；保護(hù)層設(shè)置在遮光層上，膜厚為50200nm，由選自氮化硅、氧化硅、氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯和氧化鉭中的至少一種物質(zhì)構(gòu)成。本發(fā)明設(shè)置有由Si或者Ge構(gòu)成的遮光層。與Ti膜相比，由于Si膜和Ge膜是導(dǎo)電性較低的絕緣性的半金屬膜，不需要像將Ti膜作為遮光層設(shè)置的現(xiàn)有的烹調(diào)器用面板一樣設(shè)置絕緣膜。因此，能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部。本發(fā)明的遮光層，膜厚為50190nm。如果遮光層的膜厚過厚，則短波長的透過率降低，用于表示火力強(qiáng)弱等的LED等的光的視認(rèn)性低下。另一方面，如果遮光層的膜厚過薄，則不能得到金屬光澤，用于遮蔽烹調(diào)器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的遮蔽力低下，影響美觀。更優(yōu)選遮光層的膜厚為60170nm，特別優(yōu)選為70120nm。本發(fā)明中，優(yōu)選遮光層直接設(shè)置在玻璃基板上。本發(fā)明中，遮光層上設(shè)置有保護(hù)層。本發(fā)明的保護(hù)層由選自氮化硅、氧化硅、氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯和氧化鉭中的至少一種物質(zhì)構(gòu)成。通過設(shè)置這樣的保護(hù)層，能夠防止加熱引起遮光層氧化。本發(fā)明的保護(hù)層的膜厚為50200nm。保護(hù)層的膜厚過厚時，防止遮光層的氧化的效果無變化，成本上升。另外，如果保護(hù)層的膜厚過薄，則難以得到防止遮光層氧化的效果。更優(yōu)選保護(hù)層的膜厚為50190nm，特別優(yōu)選為60180nm。另外，根據(jù)保護(hù)膜的膜厚，能夠透過面板的光的波長區(qū)域發(fā)生變化。如上所述，面板一般難以使短波長區(qū)域的光透過。因此，為了使來自藍(lán)色LED等的藍(lán)色光源的光高效地透過，優(yōu)選保護(hù)膜的膜厚設(shè)定為從設(shè)置有保護(hù)層一側(cè)觀測到的反射光譜的最小峰在波長470480nm的范圍內(nèi)。從這樣的觀點(diǎn)出發(fā)，保護(hù)層由氮化硅形成時，優(yōu)選為150170nm的膜厚。另外，由氧化硅形成保護(hù)層時，優(yōu)選為6787nm的膜厚。另外，由氧化鈦形成保護(hù)層時，優(yōu)選為135155nm的膜厚。另外，由氧化鈮形成保護(hù)層時，優(yōu)選為145165nm的膜厚。另外，由氧化鋯形成保護(hù)層時，優(yōu)選為155175nm的膜厚。另外，由氧化鉭形成保護(hù)層時，優(yōu)選為150170nm的膜厚。本發(fā)明中，通過在玻璃基板上設(shè)置上述的遮光層和保護(hù)層，如上所述，能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部。另外，內(nèi)部設(shè)置的藍(lán)色LED等的用于顯示的光的視認(rèn)性以及保證美觀的遮光性優(yōu)異，同時耐熱性優(yōu)異。本發(fā)明中，優(yōu)選遮光層和保護(hù)層形成在烹調(diào)器所在的內(nèi)部側(cè)的面上。即，本發(fā)明的烹調(diào)器用面板，優(yōu)選使形成遮光層和保護(hù)層的面為下方，配置在烹調(diào)器的上方而使用。但是，本發(fā)明不限定于此，也可以使遮光層和保護(hù)層位于上方的狀態(tài)，配置在烹調(diào)器的上方。本發(fā)明的遮光層和保護(hù)層的形成方法沒有特別限定，能夠使用現(xiàn)有公知的薄膜形成方法，優(yōu)選通過蒸鍍法，特別是濺射法形成。本發(fā)明的玻璃基板能夠使用能夠承受從600°C的急速冷卻即耐熱震性優(yōu)異的玻璃，具體而言，優(yōu)選具有50X10_7°c以下的熱膨脹系數(shù)的玻璃較為合適，能夠使用低膨脹的硼硅酸玻璃、石英玻璃或者以石英固溶體為主結(jié)晶的低膨脹晶化玻璃。特別是，30500°C的平均熱膨脹系數(shù)為-10+30X10_7°C，更優(yōu)選為-10+20X10_7°c的玻璃，由于其耐熱震性更高，即使燃燒時玻璃基板內(nèi)的溫度分布增大也難以產(chǎn)生應(yīng)力難以破裂，故而優(yōu)選。本發(fā)明的烹調(diào)器用面板，如上所述，能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部，但并不限于設(shè)置接觸傳感器部的面板。另外，本發(fā)明的烹調(diào)器用面板，能夠用于具有為透過烹調(diào)器用面板進(jìn)行顯示而發(fā)光的藍(lán)色LED的烹調(diào)器，此時，能夠使來自藍(lán)色LED的藍(lán)色光以較高的透過率透過，能夠以良好的視認(rèn)性顯示。但是，本發(fā)明還能夠用于這樣設(shè)置藍(lán)色LED等光源的烹調(diào)器以外的烹調(diào)器。本發(fā)明的烹調(diào)器用面板，能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部。另外，本發(fā)明的烹調(diào)器用面板，內(nèi)部設(shè)置的藍(lán)色LED等用于顯示的光的視認(rèn)性以及保證美觀的遮光性優(yōu)異，同時耐熱性優(yōu)異。圖1是表示本發(fā)明的一個實(shí)施方式的烹調(diào)器用面板的截面圖。圖2是表示現(xiàn)有的烹調(diào)器用面板的截面圖。符號說明1……玻璃基板2……遮光層3……保護(hù)層4……接觸傳感器部5……導(dǎo)電油墨層6......電極7……絕緣膜10……烹調(diào)器用面板具體實(shí)施例方式以下，通過具體的實(shí)施方式說明本發(fā)明，但本發(fā)明不受以下的實(shí)施方式限定。圖1是表示本發(fā)明的一個實(shí)施方式的烹調(diào)器用面板的截面圖。如圖1所示，在玻璃基板1的一方面的上方設(shè)置有遮光層2，在遮光層2上設(shè)置有保護(hù)層3。本實(shí)施方式中，遮光層2例如由Si膜形成，其膜厚在50190nm的范圍內(nèi)。另外，保護(hù)層3例如由Si3N4形成，其膜厚在50200nm的范圍內(nèi)。如圖1所示，在玻璃基板1的另一側(cè)的面上設(shè)置有接觸傳感器部4的區(qū)域形成有導(dǎo)電油墨層5。另外，在與導(dǎo)電油墨層5相反一側(cè)設(shè)置有電極6。如圖1所示，本實(shí)施方式中，在接觸傳感器部4的區(qū)域，與其他區(qū)域相同地形成有遮光層2和保護(hù)層3。本發(fā)明中，由于遮光層2由Si或者Ge形成，與Ti膜相比導(dǎo)電性較低，具有絕緣性。因此，不需要像以往一樣在接觸傳感器部設(shè)置絕緣膜。因此，不需要在形成絕緣膜、進(jìn)行掩蔽后，形成遮光層和保護(hù)層，能夠簡化制造工序。另外，由于接觸傳感器部能夠與其他部分相同地形成，不存在接觸傳感器部與其他部分顏色不同的問題，能夠不影響美觀地設(shè)置接觸傳感器部。(實(shí)施例)以下，通過具體的實(shí)施例說明本發(fā)明，但本發(fā)明不受以下的實(shí)施例限定。[烹調(diào)器用面板的制作]作為玻璃基板，使用晶化玻璃(NipponElectricGlassCo.,Ltd.制“NeoceramN-0”:30°C500°C的平均線熱膨脹系數(shù)為-5X10_7°C，厚度4mm)。在該玻璃基板上，使用表1表4所示的材料，通過濺射法分別形成遮光層和保護(hù)層，使其為表1表4所示的厚度。對得到的面板，如下所述地評價遮光性、耐熱性和藍(lán)色光的透過性。[遮光性的評價]對得到的面板，使波長400700nm的光從玻璃基板入射，使用分光光度計測定其透過率，基于JIS(日本工業(yè)規(guī)格)Z8071算出光透過率，由其平均值評價遮光性。并且，波長400700nm的平均光透過率越低，表示其遮光性越優(yōu)異。[耐熱性的評價]在耐熱試驗(yàn)前后，測定色調(diào)和色度，由色調(diào)和色度的變化評價耐熱性。并且，色度變化越大，色調(diào)大幅變化，表示耐熱性越差。耐熱性試驗(yàn)通過在電爐內(nèi)以400°C加熱30分鐘而進(jìn)行。對于色調(diào)，從玻璃基板(未形成膜的面)側(cè)通過目視觀察各試樣，評價其顏色。對于色度，使波長400700nm的光從玻璃基板入射，使用分光光度計測定其反射率，基于JIS(日本工業(yè)規(guī)格)Z8071算出色度。[藍(lán)色光的透過性]對于得到的面板，使用分光光度計測定波長475nm的透過率，以試樣No.12為1時的相對值進(jìn)行評價。并且，使波長475nm的光從形成膜的面一側(cè)入射而測定透過率。另外，在玻璃基板上形成遮光層后，使用測試器測定遮光層的電阻值。并且，如果電阻值為106Q/□以上，則能夠判斷其具有絕緣性。在表1表4中表示耐熱性的評價結(jié)果、藍(lán)色光的透過性以及電阻值的測定結(jié)果。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage6</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>試樣No.18為本發(fā)明的實(shí)施例，試樣No.913為比較例。專利文獻(xiàn)1中，公開了如試樣No.9所示的Si膜的厚度為20nm的面板以及如試樣No.10所示的Si膜的厚度為200nm的面板。但是，如表3所示，可以得到，遮光層的膜厚為20nm的試樣No.9呈淺紅褐類銀色的色調(diào)，金屬光澤較差，另外，波長400700nm的平均光透過率高達(dá)27.0%，遮蔽烹調(diào)器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的遮光能力較差。另外，可以得到，遮光層的膜厚為200nm的試樣No.10中，藍(lán)色光的透過性為試樣No.12的0.1倍，其藍(lán)色光的透過性較差?？梢缘玫?，試樣No.11中，由于其保護(hù)層的膜厚較薄，耐熱試驗(yàn)后產(chǎn)生變色，色度變化較大?？梢缘玫剑鳛檎诠鈱邮褂肨i膜的試樣No.12中，遮光層的電阻值較低，絕緣性差。因此，可以得到，將Ti膜作為遮光層使用時，為了設(shè)置接觸傳感器部需要形成絕緣膜。專利文獻(xiàn)1中，公開了如試樣No.13所示的將遮光層的上下以保護(hù)層形成三明治結(jié)構(gòu)的面板。但是，可以得到，這樣將遮光層以保護(hù)層形成三明治結(jié)構(gòu)，耐熱試驗(yàn)后，色調(diào)發(fā)生變化，耐熱性較差。可以得到，本發(fā)明的實(shí)施例的試樣No.18中，波長400700nm的平均光透過率低至6.0%以下，遮蔽烹調(diào)器的內(nèi)部結(jié)構(gòu)的遮蔽能力優(yōu)異。另外，可以得到，耐熱試驗(yàn)前后色調(diào)的變化以及色度的變化較小，具有良好的耐熱性。另外，還可以得到，藍(lán)色光的透過性與以往將Ti膜作為遮光層使用的試樣No.12相比變高，藍(lán)色光的視認(rèn)性優(yōu)異。另外，可以得到，由于其遮光層的電阻值較高，具有絕緣性，能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部。上述實(shí)施例中，將Si膜作為遮光層使用，但可以確認(rèn)作為遮光層使用Ge膜的情況下也能夠得到同樣的效果。另外，上述實(shí)施例中，作為保護(hù)層使用Si3N4膜，但可以確認(rèn)作為保護(hù)層使用Si02膜、Ti02膜、Nb205膜、&02膜和Ta205膜的情況下也能夠得到同樣的效果。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，能夠提供能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部，并且內(nèi)部設(shè)置的藍(lán)色LED等用于顯示的光的視認(rèn)性以及為了保證美觀的遮光性優(yōu)異，進(jìn)而耐熱性優(yōu)異的烹調(diào)器用面板。權(quán)利要求一種烹調(diào)器用面板，配置在烹調(diào)器的上方，其特征在于，該烹調(diào)器用面板具有玻璃基板；遮光層，設(shè)置在所述玻璃基板的一側(cè)的面上，膜厚為50～190nm，由Si或Ge構(gòu)成；和保護(hù)層，設(shè)置在所述遮光層上，膜厚為50～200nm，由選自氮化硅、氧化硅、氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯和氧化鉭中的至少一種構(gòu)成。2.如權(quán)利要求1所述的烹調(diào)器用面板，其特征在于所述遮光層和所述保護(hù)層形成在所述烹調(diào)器所在的內(nèi)部一側(cè)的面上。3.如權(quán)利要求1或2所述的烹調(diào)器用面板，其特征在于所述保護(hù)層的膜厚設(shè)定為使從設(shè)置有所述保護(hù)層的一側(cè)觀測到的反射光譜的最小峰在波長470480nm的范圍內(nèi)。4.如權(quán)利要求13中任一項(xiàng)所述的烹調(diào)器用面板，其特征在于設(shè)置有用于控制所述烹調(diào)器的接觸傳感器部。5.如權(quán)利要求14中任一項(xiàng)所述的烹調(diào)器用面板，其特征在于所述烹調(diào)器具有為透過烹調(diào)器用面板進(jìn)行顯示而發(fā)光的藍(lán)色LED。全文摘要本發(fā)明提供一種烹調(diào)器用面板，該烹調(diào)用面板能夠不設(shè)置絕緣膜地設(shè)置接觸傳感器部，并且內(nèi)部設(shè)置的藍(lán)色LED等用于顯示的光的視認(rèn)性以及為了保證美觀的遮光性優(yōu)異，同時耐熱性優(yōu)異的烹調(diào)器用面板。配置于烹調(diào)器的上方的烹調(diào)器用面板(10)，特征在于，具有玻璃基板(1)、遮光層(2)和保護(hù)層(3)；其中，遮光層(2)設(shè)置在玻璃基板(1)的一方的面上，膜厚為50～190nm，由Si或者Ge構(gòu)成；保護(hù)層(3)設(shè)置在遮光層(2)上，膜厚為50～200nm，由選自氮化硅、氧化硅、氧化鈦、氧化鈮、氧化鋯和氧化鉭中的至少一種物質(zhì)構(gòu)成。文檔編號H05B6/12GK101836045SQ20088011279公開日2010年9月15日申請日期2008年10月22日優(yōu)先權(quán)日2007年12月10日發(fā)明者池上耕司申請人:日本電氣硝子株式會社