專利名稱：用于處理平面處理物的方法和設(shè)備以及用于去除或擋住處理液的裝置的制作方法
用于處理平面處理物的方法和設(shè)備以及用于去除或擋住處
理液的裝置本發(fā)明涉及用于處理平面處理物的方法和設(shè)備以及用于將處理液從平面處理物去除或擋住的裝置。尤其是，本發(fā)明涉及這樣的方法、設(shè)備和裝置，其允許處理具有敏感表面的處理物。本發(fā)明也涉及這樣的方法、設(shè)備和裝置，其中在將液體從處理物去除時可以在很大程度上避免待處理的處理物有用區(qū)與堅固元件之間的接觸。在加工平面處理物譬如電路板工業(yè)中的電路板時，處理物的處理通常在濕化學(xué)工藝線中進(jìn)行。為了去除處理液譬如化學(xué)試劑或水，可以使用所謂的擠壓輥。這樣的輥例如可以被使用以便在處理站中進(jìn)行浸漬處理的處理液蓄積，如其在DE 43 37 988A1中描述的那樣。圖9是處理站200的示意圖，其中處理液的液體水平高于處理物203的輸送平面， 使得處理物203可以被浸漬地輸送。處理物203在水平的輸送方向204上輸送通過處理站。 為了輸送處理物設(shè)置有輥對211-216，其與處理物203的向上指向的和向下指向的表面靠置，以便輸送處理物。為了避免處理液的流出，設(shè)置有內(nèi)部容器201，在該內(nèi)部容器中處理液以(未示出的)高水平蓄積。內(nèi)部容器201被外部容器202包圍，使得外部容器202收集從內(nèi)部容器201中溢流的處理液。從在外部容器202中收集的在外部容器中具有水平209 的處理液208中，借助泵210將處理液泵送回內(nèi)部容器201。處理液可以通過流入噴嘴206、 207等等被回送到內(nèi)部容器201中。為了在內(nèi)部容器201中蓄積處理液，在內(nèi)部容器201的流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中使用所謂的擠壓輥213、215的對。擠壓輥213、215的對例如可以具有圓柱形外殼面。在該對 213的擠壓輥213a、213b和輥對215的擠壓輥靠置在處理物203上時，處理液能夠通過其從內(nèi)部容器201流出的自由橫截面受限。通過相應(yīng)調(diào)節(jié)泵210的運(yùn)送率可以調(diào)節(jié)在內(nèi)部容器 201中的處理液的所期望的水平。附加的輥對如輥對211、212、214和216在處理站的流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中同樣可以用作擠壓輥。如果處理物203具有一個或多個敏感表面，則在擠壓輥對213、215與處理物203 之間的直接接觸會導(dǎo)致處理物203的表面的損傷，其中在傳統(tǒng)擠壓輥的情況下在處理物 203的整個寬度上即在橫向于輸送方向204的整個伸展上存在接觸。對處理物203的表面的損傷例如會通過面擠壓或者粘附到擠壓輥213、215的表面上的顆粒和表面不平坦性引起。本發(fā)明所基于的任務(wù)是說明一種用于處理平面處理物的方法和設(shè)備以及一種用于去除或擋住用于處理平面處理物的設(shè)備的處理液的裝置，其中可以降低損傷處理物的敏感表面的危險。本發(fā)明基于的任務(wù)也在于說明一種用于制造電路板的方法，其中可以降低對電路板的敏感表面區(qū)域的損傷的危險。根據(jù)本發(fā)明，該任務(wù)通過如在獨立權(quán)利要求中所說明的用于處理平面處理物的方法和設(shè)備以及用于去除或擋住處理液的裝置。從屬權(quán)利要求限定了本發(fā)明的優(yōu)選的和有利的實施形式。用于處理在用于對處理物以濕化學(xué)方式處理的設(shè)備中沿著輸送路徑被輸送的平面處理物的方法設(shè)計為設(shè)置有用于使處理液止回的止回面，處理物在設(shè)備中暴露于該處理液。止回面在輸送路徑上定位為使得在處理物引導(dǎo)經(jīng)過止回面時在止回面與處理物的表面之間留有間隙。稱作用于使處理液止回的止回面為如下面其由于其構(gòu)造和布置而可以限制液體在至少一個方向上尤其是在處理物的輸送方向上的流動。止回面不必完全阻止液體流動， 而是尤其可以通過構(gòu)建的間隙允許處理液的流經(jīng)。由于止回面定位為使得在處理物被引導(dǎo)經(jīng)過止回面時在止回面與處理物的表面之間留有間隙，所以處理物的其上有設(shè)置有間隙的區(qū)段并不與止回面觸碰。止回面尤其可以構(gòu)建為使得該間隙沿著處理物的有用區(qū)延伸使得止回面并不觸碰處理物的有用區(qū)。止回面可以構(gòu)建和設(shè)置為使得止回面并不觸碰處理物的在處理物的對置邊緣區(qū)域之間連續(xù)延伸的有用區(qū)。止回面可以構(gòu)建和設(shè)置為使得止回面與處理物的整個有用區(qū)間隔。止回面可以構(gòu)建和設(shè)置為使得在處理物被引導(dǎo)經(jīng)過止回面時，間隙在橫向于處理物的輸送方向的方向上連續(xù)地在處理物的整個有用區(qū)之上延伸。該間隙可以具有最小間隙高度。稱作最小間隙高度的是在止回面與引導(dǎo)經(jīng)過止回面的處理物之間的最小距離。至少在止回面的一側(cè)上可以將處理液蓄積直至高于間隙的最小間隙高度的水平。處理物于是可以在止回面的至少一側(cè)上浸漬地輸送到處理液中。在例如處理物在處理站的流出區(qū)域被引導(dǎo)經(jīng)過止回面時止回面可以降低處理物上的液體水平或?qū)⑻幚硪簭奶幚砦锶コ?。最小間隙高度可以小于1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。最小間隙高度可以為至少0. 05mm、尤其是至少0. 07mm、尤其是至少0. 09mm。通過間隙的處理液可以被從處理物以流體流去除，例如以氣體流吹走。即使在處理液通過間隙時也可以通過將形成間隙的止回面與吹走處理液組合實現(xiàn)處理液的去除?？梢栽O(shè)置第二止回面，其與止回面間隔，以便將通過間隙的處理液從處理物去除。 這樣，在處理站的流入?yún)^(qū)域中或者在處理站的流出區(qū)域中在止回面與第二止回面之間可以蓄積處理液直至低于在處理站的工作區(qū)中的處理液的水平的水平。以此方式可以實現(xiàn)水平級聯(lián)。為了以流體流去除處理液，流體流可以對準(zhǔn)處理物。該流體流可以設(shè)置為其并不通過間隙。為此，可以調(diào)節(jié)流體流的體積流、流動速度和流動方向中的一個或多個，使得流體流并不通過間隙即例如并不進(jìn)入蓄積的處理液中。用于去除處理液的流體流可以在如下方向上入流處理物，該方向具有橫向于輸送方向并且平行于處理物的輸送平面的分量。這樣，處理液可以橫向于處理物的輸送方向被去除。止回面可以構(gòu)建在輥上。該輥可以在寬度方向上即橫向于處理物的輸送方向上沿著處理物延伸。該輥可以設(shè)置為使得其軸平行于輸送平面地延伸。如果處理物在水平輸送平面上輸送，則該輥設(shè)置在輸送平面之上或輸送平面之下。該輥可以構(gòu)建為輥表面與處理物的整個有用區(qū)間隔。該輥可以被置于轉(zhuǎn)動，使得輥表面的在一側(cè)上形成間隙邊界的部分在與處理物的輸送方向相對的方向上運(yùn)動。以此方式例如可以在處理站的流出區(qū)域中進(jìn)一步減小處理液的流出。也可以改進(jìn)在處理物的表面上的物質(zhì)交換。
借助輥不僅可以止回或蓄積處理液，而且也可以將處理物在輸送方向上輸送。在該輥上可以設(shè)置至少一個輸送區(qū)段，其與處理物耦合，以便輸送處理物。止回面可以相對于輸送區(qū)段偏置以便形成間隙。 輸送區(qū)段可以被轉(zhuǎn)動用以輸送處理物。在一個實施例中，輸送區(qū)段可以相對于止回面轉(zhuǎn)動，以便允許輸送區(qū)段和止回面的獨立轉(zhuǎn)動。在間隙的在處理物的輸送方向上相對的側(cè)上可以調(diào)節(jié)處理液的水平差。在間隙的兩個側(cè)上可以在處理物上存在處理液。例如，在處理物的處理站的流入?yún)^(qū)域中或流出區(qū)域中可以階梯狀地在止回面上改變處理液的水平，以便實現(xiàn)處理區(qū)中的所希望的液體水平。止回面可以轉(zhuǎn)動以便減小或阻止處理液通過間隙。為此，止回面可以構(gòu)建為并且止回面的轉(zhuǎn)動速度可以選擇為使得處理液通過轉(zhuǎn)動的止回面的置換降低或阻止了處理液通過間隙的流動。處理液可以借助止回面在處理站中蓄積，使得處理物在處理站中被浸漬到處理液地輸送。處理物的浸漬方式的輸送尤其可以用于處理具有低的固有硬度的薄處理物。處理物可以是膜狀的材料，尤其是膜狀的電路板或者導(dǎo)體膜。處理物也可以是連續(xù)材料。根據(jù)本發(fā)明的一個方面設(shè)計的用于處理物的濕化學(xué)處理的設(shè)備的將處理液從平面處理物去除或擋住的裝置包括用于止回處理液的止回面。該裝置構(gòu)建為相對于處理物的輸送路徑設(shè)置為該裝置形成在止回面與沿著輸送路徑輸送的處理物的表面之間的間隙。表述去除或擋住處理液在此在如下意義下使用，該裝置構(gòu)建為至少部分止回處理液，而不必完全去除或擋住處理液。由于該裝置構(gòu)建為定位為使得在止回面與處理物的表面之間留有間隙，所以處理物的其上形成間隙的區(qū)段不與止回面觸碰。該裝置尤其可以構(gòu)建為使得間隙沿著處理物的有用區(qū)延伸，使得止回面并不觸碰處理物的有用區(qū)。間隙可以具有最小間隙高度。在止回面與在止回面旁經(jīng)過的處理物之間的最小間隙稱作“最小間隙高度”。該裝置可以構(gòu)建為使得在止回面的至少一個側(cè)上處理液可以蓄積直至高于間隙的最小間隙高度的水平。處理物可以在止回面的該側(cè)上浸漬到處理液中地被輸送。最小間隙高度可以小于1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。最小間隙高度可以為至少0. 05mm、尤其至少0. 07mm、尤其至少0. 09mm。該裝置可以包括與止回面間隔的入流裝置，該入流裝置構(gòu)建為以流體流入流處理物，以便將處理液從處理物去除。借助入流裝置可以去除從間隙中流出的處理液。入流裝置可以構(gòu)建為以平行于輸送平面并且橫向于處理物對準(zhǔn)的速度分量產(chǎn)生流體流。借助這樣構(gòu)建的入流裝置可以將處理液橫向于輸送方向地從處理物去除。入流裝置可以構(gòu)建并且設(shè)置為使得流體流并不穿過間隙。為此，流體流的體積流、 流動速度和流動方向中的一個或多個可以合適地構(gòu)建為使得流體流并不通過間隙進(jìn)入蓄積的處理液中。以此方式可以例如在所蓄積的處理液中通過流體流減小或阻止氣泡形成。該裝置可以包括另一止回面，其中該裝置構(gòu)建為相對于處理物的輸送路徑設(shè)置為使得該裝置在另一止回面與沿著輸送路徑輸送的處理物的另一表面之間形成另一間隙。止回面和該另一止回面例如可以與處理物的相反的表面對置，以便將處理液從處理物去除。止回面和該另一止回面可以設(shè)置在輥對的輥上，在輥對之間輸送處理物。該裝置于是可以構(gòu)建為處理液可以穿過該間隙。在容忍尤其是小的處理液流穿過間隙時，可以省去完全抑制處理液的穿過的措施。止回面可以構(gòu)建在該裝置的可轉(zhuǎn)動地安置的輥上。該輥可以構(gòu)建為使得輥表面與處理物的整個有用面間隔。該裝置包括驅(qū)動裝置，該驅(qū)動裝置構(gòu)建為將輥置于轉(zhuǎn)動中，使得輥表面的在一側(cè)形成間隙邊界的部分在與處理物的輸送方向相對的方向上運(yùn)動。以此方式例如可以在處理站的流出區(qū)域中進(jìn)一步減小處理液的流出。也可以改進(jìn)處理物的表面上的物質(zhì)交換。輥可以構(gòu)建為使得其不僅可以用于借助止回面止回處理液而且也可以用于輸送處理物。為此，在輥上可以設(shè)置有至少一個輸送區(qū)段，其可以與處理物耦合用于輸送處理物。在輥上可以設(shè)置有兩個輸送區(qū)段，用于輸送處理物，并且止回面可以設(shè)置在至少兩個輸送區(qū)段之間。例如可以在輥的軸向區(qū)段上設(shè)置輸送區(qū)段，并且止回面可以在軸向邊緣區(qū)段之間延伸。止回面可以構(gòu)建為相對于至少一個輸送區(qū)段或至少兩個輸送區(qū)段偏置的面。輥可以構(gòu)建為在寬度方向上即橫向于處理物的輸送方向地沿著處理物延伸。如果處理物在水平輸送平面中被輸送，則輥可以構(gòu)建為設(shè)置在輸送平面之下或之上。該裝置可以構(gòu)建為輥可以垂直于處理物的輸送平面地調(diào)整，例如通過設(shè)置可垂直調(diào)整的軸承。在這樣構(gòu)建的裝置中，間隙的幾何形狀尤其是最小間隙高度可以調(diào)節(jié)。至少一個輸送區(qū)段或至少兩個輸送區(qū)段可以相對于止回面轉(zhuǎn)動。該裝置可以針對輸送區(qū)段的轉(zhuǎn)動驅(qū)動或與其無關(guān)的止回面的轉(zhuǎn)動驅(qū)動地構(gòu)建。在另一擴(kuò)展方案中，該裝置可以包括方形元件，在該方形元件上構(gòu)建有止回面。該裝置可以針對使用于根據(jù)一個方面或?qū)嵤├挠糜趯μ幚砦镞M(jìn)行處理的方法中而構(gòu)建。根據(jù)本發(fā)明的一個方面設(shè)計的用于對平面處理物進(jìn)行處理的設(shè)備包括用于將處理液從處理物去除或擋住的裝置，該裝置構(gòu)建為根據(jù)本發(fā)明的一個方面或?qū)嵤├龅难b置。該設(shè)備可以包括多個這樣的裝置。例如，可以設(shè)置至少兩個彼此在處理物的輸送方向上間隔的裝置，以便將處理液從處理物去除。通過使用多個這樣的用于去除處理液的裝置，即使液體穿過由該裝置形成的間隙時也可以盡可能地去除處理液?？商孢x地或附加地，多個彼此在處理物的輸送方向上間隔的裝置也可以設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域中，以便在處理站中蓄積處理液并且減小處理液從處理站的流出。該設(shè)備可以包括處理站，在該處理站中處理液可以蓄積。不僅在處理站的流入?yún)^(qū)域中而且在處理站的流出區(qū)域中可以分別設(shè)置用于將處理液從處理物去除或擋住的裝置。 借助該裝置可以在處理站中蓄積處理液。在流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中也可以分別設(shè)置有至少兩個用于去除或擋住處理液的裝置。借助至少兩個裝置可以以多個水平階梯蓄積處理液。該設(shè)備可以構(gòu)建為在處理站的流入?yún)^(qū)域中設(shè)置在輸送平面之上的裝置的止回面和在處理站的流出區(qū)域中設(shè)置在輸送平面之上的裝置的流出區(qū)域中的止回面相反地轉(zhuǎn)動。 附加地或可替選地，該設(shè)備可以構(gòu)建為，在處理站的流入?yún)^(qū)域中設(shè)置在輸送平面以下的裝置的止回面和在處理站的流出區(qū)域中設(shè)置在輸送平面以下的裝置的止回面相反地轉(zhuǎn)動。通過合適地選擇轉(zhuǎn)動方向可以降低或抑制處理液穿過在流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中設(shè)置的裝置的間隙。根據(jù)另一方面說明了一種用于制造電路板的方法。在此設(shè)計為由處理物制造電路板，該處理物借助根據(jù)一個方面或?qū)嵤├龅挠糜趯μ幚砦镞M(jìn)行處理的方法來處理。借助該方法例如可以制造印刷電路板。本發(fā)明的實施例允許在用于濕化學(xué)地對處理物進(jìn)行處理的設(shè)備中將處理液從處理物去除或擋住。在此，用于止回處理液的止回面可以與處理物的有用區(qū)間隔地設(shè)置，使得構(gòu)建間隙，以便降低或避免有用區(qū)與堅固元件的直接接觸。本發(fā)明的實施例尤其可以使用在如下設(shè)備中，在該設(shè)備中在水平的輸送平面中或者基本上在水平的輸送平面中輸送具有敏感表面的平面處理物。然而實施例并不限于該應(yīng)用領(lǐng)域。以下借助優(yōu)選的或有利的實施例參照所附的附圖更為詳細(xì)地闡述本發(fā)明。

圖1示出了根據(jù)一個實施例的用于去除或擋住處理液的裝置的示意性前視圖。圖2示出了圖1的裝置的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖3示出了根據(jù)另一實施例的用于去除處理液的裝置的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖4示出了根據(jù)一個實施例的具有多個用于去除處理液的裝置的處理站的一部分的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖5示出了根據(jù)另一實施例的具有多個用于去除處理液的裝置的處理站的一分部的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖6示出了根據(jù)另一實施例的用于去除或擋住處理液的裝置的示意性前視圖。圖7示出了根據(jù)另一實施例的用于去除處理液的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖8示出了根據(jù)一個實施例的在流入?yún)^(qū)域和流出區(qū)域中的帶有用于去除或擋住處理液的處理站的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。圖9示出了具有擠壓輥對的處理站的示意性的、部分剖切的側(cè)視圖。相對于處理物的方向信息或位置信息按慣例相對于輸送方向予以說明。在處理物輸送時與輸送方向并行或反平行的方向稱作縱向方向，在輸送平面中的與輸送方向正交的方向稱作處理物的寬度方向。描述了裝置和方法的實施例，其中將處理液從處理物擋住或去除。處理液理解為如下任何液體，處理物在用于濕化學(xué)處理的設(shè)備中會暴露于該液體，尤其是工藝化學(xué)試劑、 噴灑液如水等等。這些實施例在對處理物進(jìn)行處理的設(shè)備的背景下予以描述，其中處理物在水平輸送平面中被輸送。如“在輸送平面之上”或“在輸送平面以下”、“上表面”、“下表面”的信息以及對處理液等等的高度或水平的參考相應(yīng)地相對于垂直方向，只要未予以不同地說明。 在水平輸送平面中的輸送在此尤其可以理解為處理物的輸送，其中處理物的至少三個角部在水平平面中。這并不排除至少處理物的單個區(qū)段或區(qū)域在輸送時在輸送平面之外，例如在具有低固有硬度的處理物的情況下。圖1示出了用于將處理液從處理物10去除的裝置1的示意性前視圖。圖2示出了裝置1的沿著在圖1中用II-II表示的方向的示意性側(cè)視圖。部分剖切的側(cè)視圖的剖切平面是沿著處理物的有用區(qū)在其上被輸送的線來切割的輸送平面的垂直平面。裝置1包括輥2和另一輥3，它們設(shè)置在處理物10的輸送平面的對置的側(cè)上，使得處理物10在輥2和另一輥3之間輸送。該裝置1例如可以作為擠壓輥213或者215的對使用在圖9中的處理站200中。輥2具有處理液的止回面4，其設(shè)置為輥2的外殼面的偏置的區(qū)段。輥2相對于處理物10的輸送路徑定位為使得當(dāng)處理物10經(jīng)過輥2被輸送時在止回面4與處理物10之間留有間隙8。輥2的外殼面的形成止回面4的區(qū)段可以基本上圓柱形地構(gòu)建。該另一輥3具有用于處理液的另一止回面14，其設(shè)置為輥3的外殼面的偏置的區(qū)段。該另一輥3相對于處理物10的輸送路徑定位為使得當(dāng)處理物10經(jīng)過輥3被輸送時在該另一止回面14與處理物10之間留有間隙18。輥3的外殼面的形成該另一止回面14的區(qū)段可以基本上圓柱形地構(gòu)建。由于有通過輥2和該另一輥3的布置和構(gòu)造形成的間隙8、18，所以處理物10的在處理物10的寬度方向的大部分上延伸的有用區(qū)11不與裝置1的堅固元件觸碰。以此方式可以降低有用區(qū)11中的處理物10的表面損傷的危險。由于止回面4和該另一止回面14的圓柱形，所以間隙8、18具有在處理物10的傳輸方向20上可變的間隙高度或凈高度。間隙8、18的最小間隙高度9、19通過止回面4、14 的如下點來確定，這些點相對于處理物10的與相應(yīng)的輥2或3對置的表面具有最小距離。即使間隙8、18允許處理液穿過，借助該裝置1也可以將處理液從處理物10去除。 尤其是，該裝置1由于間隙8、18逐漸尖細(xì)直至最小間隙高度9、19而會造成壓力損耗，壓力損耗會導(dǎo)致處理液在輥2的兩個在輸送方向20上對置的側(cè)上不同的液體水平。圖2示意性地示出了處理液21，其在輥2的一側(cè)上蓄積直至水平22，并且示出了在處理物10經(jīng)過裝置1之后剩余的處理液23的層，其具有較低的水平M。該裝置1尤其可以構(gòu)建為使得處理液21在輥2、3的一側(cè)上(在圖2中在輥2、3的左側(cè)上)被止回面4 和該另一止回面14蓄積直至水平22，該水平22直接在止回面4上高于間隙8的最小間隙高度9并且高于間隙18的最小間隙高度19，分別從相應(yīng)的間隙8、18的下邊至具有最小間隙高度的位置來測量。如參照圖3-6還要更為詳細(xì)地闡述的那樣，在處理物10經(jīng)過止回面4、14之后尚殘留在處理物上的處理液23可以以合適的方式去除，例如通過以流體流入流處理物。裝置1的輥2、3可以不僅構(gòu)建用于將液體從處理物10去除，而且也用于輸送處理物10。為此，輥2可以在其兩個軸向端部上具有提高的邊緣區(qū)段5、6，其在處理物經(jīng)過輥2、 3時與處理物10的邊緣區(qū)域12靠置。提高的邊緣區(qū)段5、6可以轉(zhuǎn)動地驅(qū)動，以便輸送處理物10。為了轉(zhuǎn)動地驅(qū)動邊緣區(qū)段5、6，設(shè)置有軸7，其在使用裝置1時可轉(zhuǎn)動地安置在用于處理物10的處理設(shè)備中。通過邊緣區(qū)段5、6在轉(zhuǎn)動方向25上的轉(zhuǎn)動，處理物10可以被進(jìn)一步輸送。相應(yīng)地，輥3可以在其兩個軸向端部上具有提高的邊緣區(qū)段15、16，其在處理物經(jīng)過輥2、3時與處理物10的邊緣區(qū)域12靠置。提高的邊緣區(qū)段15、16可以轉(zhuǎn)動地驅(qū)動以便輸送處理物10。為了轉(zhuǎn)動地驅(qū)動邊緣區(qū)段15、16，設(shè)置有軸17，其在使用裝置1時可轉(zhuǎn)動地安置在用于處理物10的處理設(shè)備中。通過邊緣區(qū)段15、16在轉(zhuǎn)動方向沈上的轉(zhuǎn)動可以進(jìn)一步輸送處理物10。邊緣區(qū)段5、6和/或邊緣區(qū)段15、16可以與處理物10形成摩擦配合和/或形狀配合，以便輸送處理物。例如，在邊緣區(qū)段5、6上和/或在邊緣區(qū)段15、16上構(gòu)建突出部， 其嚙合到處理物10的對應(yīng)凹進(jìn)部中，以便輸送處理物10。在輥2的情況下，提高的邊緣區(qū)段5、6用作輸送區(qū)段，其可以與處理物10耦合用于輸送處理物10。止回面4相對于邊緣區(qū)段5、6偏置。邊緣區(qū)段5、6的提高或相比于止回面4的半徑更大的半徑確定了最小間隙高度9。相應(yīng)地，在輥3的情況下，提高的邊緣區(qū)段 15、16用作輸送區(qū)段，其可以與處理物10耦合用于輸送處理物10。止回面14相對于邊緣區(qū)段15、16偏置。邊緣區(qū)段15、16的提高或相比于止回面14的半徑更大的半徑確定了最小間隙高度19。邊緣區(qū)段和止回面的半徑可以針對所希望的應(yīng)用領(lǐng)域合適地選擇。例如，輥2、 3的形成止回面的區(qū)段的半徑可以比輥2、3的用作輸送區(qū)段的邊緣區(qū)段的半徑小了小于 1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。輥2、3的形成止回面的區(qū)段的半徑可以比輥 2、3的用作輸送區(qū)段的邊緣區(qū)段的半徑小了至少0. 05mm、尤其是至少0. 07mm、尤其是至少 0. 09mmo附加地，輥2的軸7和/或該另一輥3的軸17可以通過高度可調(diào)整的軸承安置， 使得軸7距處理物10的上表面的距離和/或軸17距處理物10的下表面的距離可以調(diào)節(jié)。輥2和該另一輥3可以構(gòu)建為使得在用作輸送區(qū)段的邊緣區(qū)段5、6或15、16轉(zhuǎn)動時相應(yīng)的輥的止回面4或14也與相應(yīng)的輥的輸送區(qū)段同向地轉(zhuǎn)動。以此方式可以減小在止回面4和14與處理物10的表面之間的相對運(yùn)動。為此，輥2或輥3例如可以構(gòu)建為使得不僅輸送區(qū)段而且止回面在其表面上彼此抗扭地構(gòu)建。然而可替選地，輸送區(qū)段可以相對于止回面可轉(zhuǎn)動地設(shè)置，如參照圖8還要更為詳細(xì)地闡述的那樣。在一個實施例中，輸送區(qū)段可以相對于止回面可轉(zhuǎn)動地設(shè)置。止回面的角速度可以與輥的輸送區(qū)段的角速度、輸送區(qū)段的半徑和形成止回面的區(qū)段的半徑有關(guān)地選擇。止回面的角速度可以選擇為使得在止回面上的環(huán)周速度等于處理物的輸送速度。該裝置1的多個變形方案可以在另外的實施例中實現(xiàn)。例如在裝置1的輥2、3在其軸向端部上具有提高部5、6、15、16期間，在輥2上和 /或在該另一輥3上也可以設(shè)置有多于兩個的提高的區(qū)段。另外的提高的區(qū)段在此可以尤其設(shè)置在輥2上和/或在該另一輥3上，使得其在表面區(qū)域上觸碰處理物10，在表面上這樣的機(jī)械接觸是不重要的。例如，處理物在處理物10的縱向方向上延伸的表面區(qū)域可以借助輥2和/或該另一輥3的另外的提高部支撐。處理物10的有用區(qū)11可以通過處理物的與輥2或該另一輥3的提高部不觸碰的表面區(qū)域來限定。通過另外的提高部作用的附加的支承作用可以降低處理物10在其有用區(qū)中的不希望的觸碰的危險。當(dāng)在裝置1中與處理物的表面形成間隙的止回面4、14不僅設(shè)置在輸送平面之上而且之下時，在根據(jù)另一實施例的裝置中也可以僅僅在一側(cè)上設(shè)置有止回面，其與處理物的表面形成間隙。例如，這樣的形成間隙的止回面僅僅可設(shè)置在輸送平面的上側(cè)上或在下側(cè)上。在對置的側(cè)上，例如可以設(shè)置輥，其具有基本上恒定的直徑。輥于是可以在處理物的有用區(qū)中觸碰處理物的表面。設(shè)置在另外的側(cè)上的形成間隙的止回面可以導(dǎo)致施加到處理物的表面上的力減小，以便減小對表面的損傷的危險。在另一實施例中，具有恒定直徑(即直徑沿著輥的軸向方向不變化)的輥的外殼面也可以用作止回面，止回面限定了在止回面與處理物的表面之間的間隙。間隙的構(gòu)造、尤其最小間隙高度可以以調(diào)節(jié)方式實現(xiàn)，其方式是輥借助軸承安置，該軸承可相對于輸送平面而高度可調(diào)節(jié)。也可以設(shè)置兩個這樣的輥，以便在處理物的上側(cè)和在下側(cè)上去除液體，其中在相應(yīng)的輥與處理物之間保持形成間隙。圖3是根據(jù)另一實施例的用于去除處理物的裝置31的示意性側(cè)視圖。該裝置31 例如可以在圖9的處理站200的流出區(qū)域中使用，代替擠壓輥214、215、216的對。裝置31 的在其功能和/或構(gòu)型中對應(yīng)于裝置1的元件或裝置的元件或裝置設(shè)置同樣的附圖標(biāo)記并且不再深入闡述。裝置31包括用于止回液體的止回面4。該裝置31構(gòu)建使得止回面4與處理物10 的與止回面對置的表面(在圖3中與處理物10的上表面)形成間隙8。止回面4例如可以設(shè)置在以可轉(zhuǎn)動方式安置的輥2上。輥2可以如參照圖1和2所描述的那樣構(gòu)建。止回面 4將處理液從經(jīng)過止回面4來輸送的處理物10去除。由于間隙8在一個實施例中允許液體穿過，所以在處理物通過帶有止回面4的輥2之后在處理物10上還可以存在處理液34。此外，裝置31包括具有噴嘴裝置的入流裝置32。入流裝置32在輸送方向上與輥 2和設(shè)置在輥2上的止回面4間隔地設(shè)置。入流裝置32在輸送方向上在下游，即在輸送方向上設(shè)置在具有止回面4的輥2之后。入流裝置32構(gòu)建為將通過間隙8之后在處理物10 上殘留的處理液34的部分從處理物10去除。入流裝置32尤其可以構(gòu)建為將處將通過間隙8之后在處理物10上殘留的處理液34的大部分從處理物10去除。入流裝置32可以輸出流體流33、尤其是氣體流、例如空氣流，以便將處理液34從處理物10吹走或以其他方式以流體流33去除。流體流33可以具有朝著裝置31的產(chǎn)生間隙的止回面4的至少一個流動分量(在圖3中為向右的分量)。在止回面4上，處理液可以從處理物側(cè)向流動。入流裝置也可以構(gòu)建為使得流體流33具有流動分量，該流動分量平行于輸送平面和橫向于輸送方向20，即平行于輥2的軸向方向，在輥2上構(gòu)建止回面4。以此方式處理液34從處理物10側(cè)向地去除。入流裝置32可以在處理物10的整個寬度上即處理物10橫向于輸送方向的伸展上延伸通過處理物10。為了輸出流體流33，入流裝置32可以具有一個或多個噴嘴開口。噴嘴開口例如可以構(gòu)建為連續(xù)的槽、多個槽或多個孔，其在處理物10的寬度方向上構(gòu)建在入流裝置32上。入流裝置32可以構(gòu)建為使得噴嘴開口距處理物10的表面的距離在處理物的整個寬度上基本上等大。 入流裝置32可以包括直的通道體，其平行于輸送平面并且橫向于輸送方向20地取向?？商孢x地，通道體也可以平行于輸送平面并且傾斜于輸送方向20地取向。
在一個實施例中，入流裝置32可以成形為使得在處理物的寬度方向上入流裝置 32的中部區(qū)段比入流裝置32的邊緣區(qū)段更靠近形成間隙的止回面4地設(shè)置。例如，入流裝置32可以具有如下形狀，其在從垂直于輸送平面的方向上來看的俯視圖中(即在圖3中在垂直從上看輸送平面時)具有朝著由止回面4形成的間隙8凸面的形狀。例如，入流裝置 32在俯視圖中可以具有V形狀，其尖端指向止回面4。這樣構(gòu)建的入流裝置構(gòu)建為輸出帶有朝著處理物的邊緣的速度分量的流體流，以便有效地將處理液輸送到處理物的邊緣并且這樣去除處理液。
入流裝置32可以構(gòu)建為，以便輸出氣體流尤其是空氣流并且由此入流處理物。入流裝置32可以構(gòu)建為使得氣體流33的出流速度為至少2m/sec、尤其是為至少lOm/sec、尤其是為至少30m/sec。入流裝置32也可以構(gòu)建為以便輸出液體流并且由此入流處理物。入流裝置32可以構(gòu)建為使得液體流33的出流速度為至少0. lm/sec、尤其是為至少lm/sec、尤其是為至少 3m/sec ο入流裝置32可以構(gòu)建為使得流體流33的出流方向可以平行于處理物的表面或傾斜于該表面。尤其是，入流方向32可以構(gòu)建為使得流體流從入流裝置32的噴嘴開口朝著間隙8和/或橫向于輸送方向朝著處理物10的邊緣出流?？商孢x地，出流方向也可以垂直于處理物10的表面。入流裝置32可以構(gòu)建為使得流體流33并不穿過間隙8，即并不進(jìn)入在形成間隙的止回面4的相反的側(cè)上蓄積的處理液中。以此方式可以避免或抑制流體流32在處理液21 中引起氣泡形成。為了避免流體流33穿過間隙8，例如可以相應(yīng)地調(diào)節(jié)來自入流裝置32的流體流33的體積流、出流速度和/或出流方向中的一個或多個。該裝置31可以構(gòu)建為使得在間隙8與入流裝置32的噴嘴開口之間的距離或不同的距離為最高IOOmm并且最小10mm。如在圖3中所示，裝置31還可以具有設(shè)置在輸送平面下方的另外的構(gòu)建為止回面 14的輥表面，其可以構(gòu)建在另一輥3上。在另外的實施例中可以實現(xiàn)裝置31的多個變形方案。而例如參照圖3闡述了用于去除液體的裝置31 (其中入流裝置32在處理物10的輸送方向上設(shè)置在帶有形成間隙的止回面4的輥2之后)，用于擋住處理液的裝置也可以構(gòu)建為使得入流裝置在處理物的輸送方向上設(shè)置在形成間隙的止回面之前或設(shè)置其上游。這樣構(gòu)建的裝置例尤其可以使用在處理站的流入?yún)^(qū)域中。在根據(jù)另一實施例的用于去除或擋住處理液的裝置中，入流裝置32可以可替選地或附加地設(shè)置在輸送平面下方，以便將液體從處理物10的下側(cè)吹走或者以其他方式以由入流裝置發(fā)出的流體流33從處理物10去除。如果入流裝置設(shè)置在輸送平面下方，則其可以構(gòu)建為使得由入流裝置產(chǎn)生的流體流具有平行于輸送方向的速度分量，該輸送方向背離產(chǎn)生間隙的止回面。例如，在處理站的一個流出區(qū)域中設(shè)置的入流裝置中，由入流裝置產(chǎn)生的流體流可以具有在輸送方向上的速度分量。如果用于去除處理液的入流裝置設(shè)置在輸送平面之上，在輸送平面以下的相應(yīng)的位置上可以設(shè)置輸送元件。類似地，如果用于去除處理液的入流裝置設(shè)置在輸送平面之下， 則在輸送平面之上的相應(yīng)位置上設(shè)置有輸送元件。輸送元件和入流裝置可以在輸送方向上在輸送平面的相對側(cè)上設(shè)置在相同位置上。輸送元件例如可以構(gòu)建為支撐和/或輸送處理物。輸送元件可以構(gòu)建輥。該輥可以具有偏置的止回面，但也可以具有在軸向方向上基本上恒定的直徑。輸送元件也可以構(gòu)建為小輪軸，在小輪軸上設(shè)置有多個小輪。這些小輪可以構(gòu)建為以便觸碰處理物來輸送處理物。圖4是處理站的流出區(qū)域41的示意性側(cè)視圖。這樣的流出區(qū)域41在圖9的處理CN 102422727 A
說明書
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站200中可以設(shè)置在內(nèi)部容器201的一端部上，在該端部上處理物離開處理站。在流出區(qū)域中，處理物10從處理區(qū)域42在輸送方向20上被進(jìn)一步輸送，在該處理區(qū)域中處理液21 蓄積而高到處理物被浸入。流出區(qū)域41包括用于將處理液從處理物10去除的多個裝置43、44和45。用于去除處理液的裝置43、44和45彼此在輸送方向20上間隔地沿著處理物10的輸送路徑設(shè)置。 裝置43、44和45的每個可以具有止回面，該止回面相對于輸送平面設(shè)置為使得在止回面與處理物10的對置于該止回面的表面之間形成間隙。裝置43、44和45可以構(gòu)建為根據(jù)一個實施例的用于去除處理液的裝置。在該實施例中，該裝置43可以具有一對輥51、52，其設(shè)置為使得處理物10可以穿過其間。在裝置 43的輥51、52的至少一個上可以構(gòu)建用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥51、52時在止回面與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥 51,52的至少一個可以具有用于輸送處理物10的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面。該裝置43例如可以如參照圖1和2所闡述的裝置1那樣地構(gòu)建。裝置44可以具有設(shè)置在輸送平面之上的輥53和入流裝置M和設(shè)置在輸送平面之下的輥55和入流裝置56。在裝置44的輥53、55的至少一個上可以構(gòu)建有用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥53、55時在止回面與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥53、55的至少一個可以具有用于輸送處理物10的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面，如參照圖1和2所闡述的那樣。入流裝置M 和56以流體流33例如空氣流入流處理物10，以便去除在處理物上殘留的處理液。為此，由入流裝置M和56發(fā)出的流體流33可以被取向為使得其使處理液朝著處理物的邊緣運(yùn)動并且于是去除。該裝置45可以具有設(shè)置在輸送平面之上的輥57和入流裝置58和設(shè)置在輸送平面之下的輥59和入流裝置60。在裝置45的輥57、59的至少一個上可以構(gòu)建有用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥57、59時在止回面與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥57、59的至少一個可以具有用于輸送處理物10 的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面，如參照圖1和2所闡述的那樣。入流裝置58和60以流體流33例如空氣流入流處理物10，以便去除在處理物上殘留的處理液。為此，由入流裝置58和60發(fā)出的流體流33可以被取向為使得其使處理液朝著處理物的邊緣運(yùn)動并且于是去除。處理物10相繼通過的裝置43、44和45的形成間隙的止回面可以具有不同的構(gòu)型。例如，在這些裝置上的間隙可以越來越窄。例如，裝置43可以構(gòu)建為使得在裝置43的止回面與處理物10的對置的表面之間形成具有第一最小間隙高度的間隙，而在輸送方向上設(shè)置在該裝置43之后的裝置44構(gòu)建為使得在該裝置44的止回面與處理物10的對置的表面之間形成具有第二最小間隙高度的間隙。在此，在該裝置44上的第二最小間隙高度可以比在該裝置43上的第一最小間隙高度小，即這些間隙可以在處理站的流出區(qū)域中從一個用于去除處理液的裝置到在輸送方向上設(shè)置在該裝置之后的另一裝置具有越來越小的尚度。形成處理區(qū)42邊界的裝置43構(gòu)建為使得調(diào)節(jié)處理液在輥51的在輸送方向上的相反的側(cè)之間的水平差。在處理區(qū)域42中將處理液21蓄積直至水平71，而在相鄰的區(qū)域中在輥51的另一側(cè)上將處理液蓄積直至水平72。在輸送方向上設(shè)置在裝置43之后的裝置44構(gòu)建為使得在處理物10通過輥53、55 時處理液從處理物10去除。在處理物10經(jīng)過輥53、55之后在處理物10上還存在的處理液73通過入流裝置M、56至少部分被去除。通過在輸送裝置上設(shè)置在該裝置44之后的裝置45可以將處理液的在通過該裝置44之后還會在處理物10上存在的另一部分從處理物去除。即使在處理物10和止回面之間留有間隙，通過使用多個用于去除處理液的裝置可以可靠地將處理液從處理物10去除。在處理站的內(nèi)部容器的底部46與該裝置43的設(shè)置在輸送平面之下的輥52之間設(shè)置有溢吝47。借助溢吝47可以調(diào)節(jié)在該裝置43的兩個側(cè)上的液體水平71、72之間的水平差74。為此在溢吝47中構(gòu)建開口 61，例如以長孔、鉆孔或槽的形式。開口 61可以封閉， 以便通過溢吝47調(diào)節(jié)液體穿過并且因此調(diào)節(jié)在液體水平71和72之間的水平差74。在與處理區(qū)域42相鄰的區(qū)域中的水平72通過處理液的流入和流出的流的平衡來確定。為了可以調(diào)節(jié)這并且因此調(diào)節(jié)水平72，在底部46中在溢吝47、48之間設(shè)置有一個或多個開口例如可封閉的鉆孔。通過合適選擇在溢吝47中被打開的開口和在底部46中打開的開口可以選擇在與處理區(qū)域42相鄰的區(qū)域中的所希望的水平72的基本調(diào)節(jié)。附加地， 在形成處理站側(cè)向邊界的元件上、例如在設(shè)置用于安置輥51、52、53和55的軸承容納部設(shè)置有溢流溢吝。附加收縮的液體量可以越過溢流溢吝排出。為了補(bǔ)償處理液的從處理區(qū)域42流出的流，可以借助(未示出的)泵將處理液運(yùn)送到處理區(qū)域42中。在處理站的內(nèi)部容器的底部46與該裝置44的設(shè)置在輸送平面之下的輥55之間設(shè)置溢吝48。溢吝48不必具有用于調(diào)節(jié)液體水平的可封閉的開口。溢吝48有助于降低處理液從處理區(qū)域中的流出。在另外的實施例中可以實現(xiàn)流出區(qū)域41的變形。在一個實施例中例如可以省去裝置45。相應(yīng)地，在流出區(qū)域中可以設(shè)置兩個用于去除處理液的裝置。至少在輸送方向上這些裝置的最后的裝置可以具有入流裝置。入流裝置可以至少設(shè)置在輸送平面之上。在另一實施例中，可以設(shè)置有多個用于去除液體的裝置，其具有帶有一個開口或多個開口的溢吝，用于調(diào)節(jié)水平差。該溢吝可以分別具有如其參照溢吝47所闡述的構(gòu)型。 在一個實施例中，例如在流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中可以設(shè)置有分別帶有至少一個輥的兩個裝置，其具有用于止回液體的止回面，其與經(jīng)過其上的處理物形成間隙，其中在裝置的每個中在輸送平面之下設(shè)置有帶有一個開口或多個開口的溢吝，如其針對溢吝47所描述的那樣。 在輸送方向上與這兩個裝置間隔地可以設(shè)置有另一裝置，其具有對應(yīng)于該裝置44的構(gòu)型。 以此方式例如可以在流入?yún)^(qū)域或流出區(qū)域中構(gòu)建至少兩個具有相對于處理區(qū)域下降的處理液水平的區(qū)域。在用于去除液體的裝置43-45中不僅在輸送平面之下而且在輸送平面之上分別設(shè)置一個輥，其與經(jīng)過其的處理物形成間隙，而在另一實施例中這些用于去除液體的裝置的每個都構(gòu)建為使得僅僅在設(shè)置在輸送平面之上的輥設(shè)置有止回面，其空出在止回面與經(jīng)過其的處理物之間的間隙。設(shè)置在輸送平面之下的輥可以具有在輥的軸向方向上恒定的直徑。
在一個實施例中，入流裝置M、56之一可以通過輸送元件代替。該輸送元件可以構(gòu)建為支撐和/或輸送處理物。該輸送元件例如可以構(gòu)建為輥或者小輪軸?？商孢x地或附加地，入流裝置58、60之一可以通過輸送元件代替。該輸送元件可以構(gòu)建為支撐和/或輸送處理物。該輸送元件例如可以構(gòu)建為輥或者小輪軸。在一個實施例中，設(shè)置在輸送平面之下的入流裝置56、60之一可以構(gòu)建為使得由入流裝置56、60產(chǎn)生的流體流33具有在流出區(qū)域41中指向輸送方向的速度分量。圖5是處理站的流出區(qū)域81的示意性側(cè)視圖。這種流出區(qū)域81在圖9的處理站 200中可以設(shè)置在內(nèi)部容器201的一端部上，在該端部上處理物離開內(nèi)部容器201。在流出區(qū)域中，處理物從處理區(qū)域82在輸送方向20上進(jìn)一步輸送，在處理區(qū)域中處理液21蓄積而高到使得處理物被浸沒。在其功能和/或構(gòu)建方面對應(yīng)于流出區(qū)域41的元件或裝置的流出區(qū)域81的元件或裝置設(shè)置有相同的附圖標(biāo)記并且不再深入闡述。在確定的處理站中會值得期望的是，在處理區(qū)域82中調(diào)節(jié)相對高的液體水平91。 在處理區(qū)域82中的液體水平91例如可以設(shè)置在輸送平面之上至少15mm。流出區(qū)域81設(shè)置有多個用于去除或擋住處理液的裝置83、44和45。該裝置83包括輥84、85，其設(shè)置為使得處理物10可以穿過其間。在該裝置83的輥84、85的至少一個上可以構(gòu)建用于止回處理液的形成間隙的止回面，使得在處理物經(jīng)過輥84、85時在止回面與處理物84、85的與該止回面對置的表面之間形成間隙。尤其是，輥84、85的至少一個可以具有用于輸送處理物10的提高的邊緣區(qū)域和設(shè)置在其間的偏置的止回面。該對的輥84、85 例如如參照圖1和2所闡述的裝置1地構(gòu)建。為了實現(xiàn)將處理液蓄積直至高的水平91，該裝置83在輥84之上具有另一止回元件86。該另一止回元件86構(gòu)建為在處理區(qū)域82中高液體水平的情況下在蓄積處理液時一起作用，其方式是其用作用于蓄積的液體的壁。該另一止回元件86例如可以構(gòu)建為輥，其與輥84互補(bǔ)地構(gòu)建使得輥84、85緊密地封閉并且僅允許液體少量或甚至不穿過在輥84、86 之間。該另一元件86的其他構(gòu)型是可能的，例如以豎立構(gòu)件形式。該裝置83構(gòu)建為使得在處理區(qū)域82中的水平91與在與其相鄰的在該裝置83的另外的側(cè)上的區(qū)域之間的處理液的水平差97通過該裝置83來調(diào)節(jié)和保持。在處理物10 通過該裝置44時，在輸送方向上設(shè)置在該裝置83之后的裝置44將其他處理液從處理物10 去除。代替水平92，在處理物10通過該裝置44的輥對時，在處理物10上僅還有較少量的處理液93。在輸送方向上設(shè)置在該裝置44之后的裝置45還可以將另外的液體從處理物去除，只要這在通過裝置44之后還是必要的。為了調(diào)節(jié)水平差97，在溢吝47中設(shè)置可封閉的開口 61。在與處理區(qū)域82相鄰的區(qū)域中的水平92通過處理液的流入和流出的流構(gòu)成的平衡來確定。為了可以調(diào)節(jié)該平衡和由此調(diào)節(jié)水平92，在底部46中在溢吝47、48之間可以設(shè)置一個或多個開口 96，例如可封閉的鉆孔。通過合適選擇在溢吝47中被打開的開口 61和在底部46中打開的開口 96可以選擇在與處理區(qū)域82相鄰的區(qū)域中的所希望的水平92的基本調(diào)節(jié)。附加地，在形成處理站側(cè)向邊界的元件上、例如在設(shè)置用于安置裝置83和84的輥的軸承容納部設(shè)置有溢流溢吝。附加收縮的液體量可以通過溢流溢吝排出。為了補(bǔ)償處理液的從處理區(qū)域82流出的流，可以借助泵94將處理液的流95運(yùn)送到處理區(qū)域82中。
在參考圖4和5描述處理站的流出區(qū)域的構(gòu)型時，用于去除或者擋住處理液的裝置相應(yīng)地也可以設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域中。尤其是，在流入?yún)^(qū)域中也可以設(shè)置多個在輸送方向上彼此間隔的用于去除或擋住處理液的裝置，以便防止在處理物在流入?yún)^(qū)域中被引入處理站之前處理液流到處理物上。形成間隙的止回面的構(gòu)型可以根據(jù)特定的應(yīng)用領(lǐng)域地以合適方式選擇。圖6是根據(jù)另一實施例的用于去除或擋住處理液的裝置101的示意性前視圖。該裝置101包括輥102和另一輥103。該輥102和該另一輥103設(shè)置為使得處理物10可以穿過輥102和103輸送。輥102的外殼面具有止回面104，其構(gòu)建為用于止回處理液。帶有止回面104的輥102構(gòu)建為使得在處理物10經(jīng)過輥102時在輥102的止回面 104與處理物10的與該止回面對置的表面之間留有間隙8。在處理物在其縱向邊緣上借助保持軌保持時，輥102的軸向端部區(qū)段105構(gòu)建為具有比輥102的限定止回面104的中部區(qū)段更小的直徑，以便在處理物10在其縱向邊緣處借助保持軌來保持時用作輸送處理物 10的輸送區(qū)段。另外的輥103的外殼面具有另一止回面106，其構(gòu)建為用于止回處理液。帶有另外的止回面106的該另一輥103構(gòu)建為使得在處理物10經(jīng)過該另一輥103時在該另一輥 103的該另一止回面106和處理物10的與該另一止回面對置的表面之間留有間隙18。在處理物在其縱向邊緣上借助保持軌保持時，該另一輥103的軸向端部區(qū)段107構(gòu)建為具有比該另一輥103的限定該另一止回面106的中部區(qū)段更小的直徑，以便用作輸送處理物10 的輸送區(qū)段。在處理物10的縱向邊緣上設(shè)置保持軌108、109，其保持處理物用于輸送處理物 10。這樣的保持軌108、109尤其可以在輸送具有低固有硬度的處理物時被用于給予處理物附加穩(wěn)定性。該裝置101的輥102和另一輥103構(gòu)建為其具有較小直徑的軸向端部區(qū)段 105、107與保持軌108、109靠置。通過輥102和另一輥103轉(zhuǎn)動可以將處理物10通過保持軌108、109進(jìn)一步輸送。在裝置101中，輥102、103的止回面104、106相對于輥102、103的軸向端部上設(shè)置的輸送區(qū)段偏置，使得在處理物10經(jīng)過止回面104、106時，在止回面104、106與處理物 10的與這些止回面對置的表面之間形成具有所希望的最小間隙高度的間隙8、18。在該裝置101中，輥102、103并不直接觸碰處理物10。處理物10的輸送通過輸送區(qū)段105、107與保持軌108、109的耦合來進(jìn)行，在保持軌上保持處理物10。在該裝置101的變形方案中，輥102、103可以構(gòu)建為使得其在保持軌108、109旁的邊緣區(qū)域中觸碰處理物10，以便輸送該處理物。為此，在輥102、103上可以設(shè)置提高的輸送區(qū)段，其在保持軌108、109旁觸碰處理物。輥102、103還可以構(gòu)建為使得在輥102、 103與保持軌108、109之間也形成間隙用于置換液體。為此，相對于輥的輸送區(qū)段相應(yīng)回退的凹陷或槽孔設(shè)置在輥102、103上，用于將液體從保持軌擠壓出。在輥和保持軌之間形成的間隙可以具有最小間隙高度，其可以小于1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。 在輥與保持軌之間形成的間隙可以具有最小間隙高度，其可以至少為0. 05mm、尤其是至少 0. 07mm、尤其是為至少0. 09mm。此外，用于將所保持的處理物的液體擠壓出的裝置101還可以包括入流裝置。入流裝置可以如參照圖3所闡述的那樣構(gòu)建。入流裝置尤其可以構(gòu)建為使得由入流裝置輸出的流體流將處理液也從保持軌去除。在保持軌108、109中設(shè)置通道，其能夠?qū)崿F(xiàn)液體橫向于輸送方向穿過保持軌。輥102、103可以構(gòu)建為具有如下力分量的力施加到至少設(shè)置在縱向邊緣之一上的保持軌108、109，該力分量在輸送平面中并且橫向于輸送方向。該力可以定向為使得設(shè)置在對置的縱向邊緣上的保持軌108、109彼此擠壓開，以便橫向于輸送方向張緊處理物10。 為此，例如保持軌108和/或109可以在處理物的至少一個縱向邊緣上具有一個或多個磁體，尤其是永磁體。設(shè)置在輸送平面之上的輥102和/或設(shè)置在輸送平面之下的輥103可以具有一個磁體或多個磁體，以便將電磁力施加到保持軌上。該力可以定向為使得保持軌在處理物10的對置的縱向邊緣上彈性地彼此擠壓開。圖7是根據(jù)另一實施例的用于去除或擋住處理液的裝置111的示意性側(cè)視圖。在該裝置111中，止回面并不設(shè)置在可轉(zhuǎn)動地安置的輥上。該裝置111包括兩個基本上方形的元件112、113，其可以用作在用于對處理液10 進(jìn)行處理的設(shè)備中的插入物。插入物112可以設(shè)置在輸送平面之上，而插入物113設(shè)置在輸送平面之下。插入物112、113的表面用作止回面，該止回面止回處理液。該裝置111的插入物112、113可以相對于處理物10的輸送路徑設(shè)置為使得在處理物10經(jīng)過該裝置111時在處理物10的上表面之一與插入物112的朝著該上表面的側(cè)面 114之間留有間隙115，并且，當(dāng)處理物10經(jīng)過裝置111時，在處理物10的下表面與插入物 113的朝向該下表面的側(cè)面117之間留有間隙118。插入物112的側(cè)面114與插入物117 的側(cè)面117可以具有平面的構(gòu)型，使得間隙115和118沿著輸送方向以恒定的間隙高度延伸。該裝置111的插入物112、113具有相對于輸送方向20打開的流入?yún)^(qū)域，其通過在插入物112、113上的傾斜部116、119形成。這樣的流入?yún)^(qū)域例如可以用于引導(dǎo)具有小的固有硬度的處理物例如膜。具有插入物112、113的裝置111可以使用在用于處理物10的濕化學(xué)處理的設(shè)備中用于蓄積處理液21。在處理物10從設(shè)置在插入物的第一側(cè)(圖7中的左邊)上的處理區(qū)域經(jīng)過插入物112、113時(在處理區(qū)域中處理液21蓄積直至水平121)，在處理物10上殘留具有較小的厚度122的處理液的層。插入物112、113可以根據(jù)其中使用該裝置111的設(shè)備的結(jié)構(gòu)事實被合適地配置。 例如，插入物112、113可以構(gòu)建為使得間隙115、118在輸送方向20上盡可能長。插入物112、113可以抗扭地安裝在用于濕化學(xué)處理的設(shè)備中。插入物112、113在該設(shè)備中尤其是也可以安置在輸送方向上固定的位置上。插入物112、113可以安置為使得其可以彼此垂直地運(yùn)動。在該裝置111的變形方案中，在輸送平面之上設(shè)置有方形插入物，而在輸送平面之下設(shè)置有輥用于輸送處理物。方形插入物例如可以具有如該裝置111的插入物112 —樣的構(gòu)型。圖8示出了處理站131的示意性側(cè)視圖，其中在流入?yún)^(qū)域中設(shè)置有一對輥132、133 而在流出區(qū)域中設(shè)置有另一對輥134、135。輥132在流入?yún)^(qū)域中設(shè)置在輸送平面之上而輥 133在流入?yún)^(qū)域中設(shè)置在處理物10的輸送平面之下。輥134在流出區(qū)域中設(shè)置在輸送平面之上而輥135在流出區(qū)域中設(shè)置在處理物10的輸送平面之下。借助輥對在處理站131中將處理液21蓄積直至水平136。輥132-135的每個都在其軸向端部上具有提高部5、15形式的輸送區(qū)段，用于輸送處理液。在設(shè)置在端部上的輸送區(qū)段之間構(gòu)建有更小的直徑的止回面4、14。如參照圖1和 2所闡述的那樣，輥的止回面4、14與經(jīng)過輥的處理物一起形成間隙，該間隙在處理物的寬度方向上延伸。在流入?yún)^(qū)域中的輥132的不同區(qū)段以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動，使得輸送區(qū)段5和設(shè)置在輸送平面之上的輥132的設(shè)置在其間的止回面4同向轉(zhuǎn)動。在流入?yún)^(qū)域中的輥133的不同區(qū)段以轉(zhuǎn)動方式驅(qū)動使得輸送區(qū)段15和設(shè)置在輸送平面之下的輥133的設(shè)置在其間的止回面14同向轉(zhuǎn)動。設(shè)置在輸送平面之上的輥132的輸送區(qū)段5的轉(zhuǎn)動方向141選擇為使得輸送區(qū)段5在其與處理物10的觸碰點上在輸送方向20上運(yùn)動，以便將處理物10在輸送方向20上輸送。設(shè)置在輸送平面之下的輥133的輸送區(qū)段15的轉(zhuǎn)動方向143選擇為使得輸送區(qū)段15在其與處理物10的觸碰點上在輸送方向20上運(yùn)動，以便在輸送方向20上輸送處理物10。設(shè)置輸送平面之上的輥132的止回面4與輥132的輸送區(qū)段5在轉(zhuǎn)動方向142 上同向轉(zhuǎn)動，使得止回面4的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平(在圖8向右)運(yùn)動。類似地，設(shè)置在輸送平面之下的輥133的止回面14與輸送區(qū)段15 —起在轉(zhuǎn)動方向144上同向地轉(zhuǎn)動，使得止回面14的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平 (在圖8中向右)運(yùn)動。通過輥132、133的合適構(gòu)建可以蓄積足夠高的液體水平136，而止回面4相對于具有高的液體水平的區(qū)域的運(yùn)動充分地降低液體穿過在輥132、133的止回面4上構(gòu)建的間隙。為此，輥132、133可以構(gòu)建為使得在止回面4、14與處理物10的與止回面對置的表面之間形成具有小于0.3mm(例如大約0.1mm)的最小間隙高度的間隙。例如，輸送區(qū)段可以相對于止回面提高小于0. 3mm，例如大約0. 1mm。在流出區(qū)域中，輥134、135的輸送區(qū)段5、15以轉(zhuǎn)動方向145、147轉(zhuǎn)動，使得輸送區(qū)段5、15在其與處理物10的觸碰點上在輸送方向20上運(yùn)動。為了借助在流出區(qū)域中的輥134、135降低液體穿過在流出區(qū)域中形成的間隙，設(shè)置在輸送平面之上的輥134可以構(gòu)建為使得輥134的止回面4可相對于輥134的輸送區(qū)段 5轉(zhuǎn)動。類似地，設(shè)置在輸送平面之下的輥135可以構(gòu)建為使得輥135的止回面14可相對于輥135的輸送區(qū)段15轉(zhuǎn)動。在流出區(qū)域中，設(shè)置在輸送平面之上的輥134的止回面4可以在轉(zhuǎn)動方向146上轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動方向與輥134的輸送區(qū)段5的轉(zhuǎn)動方向145相反。設(shè)置在輸送平面之下的輥135的止回面14可以在轉(zhuǎn)動方向148上轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動方向與輥135的輸送區(qū)段15的轉(zhuǎn)動方向147相反。以此方式也可以在流出區(qū)域中進(jìn)行止回面4、14的轉(zhuǎn)動， 使得設(shè)置在輸送平面之上的輥134的止回面4的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平(在圖8中向左)運(yùn)動。類似地，輥135的止回面14可以相對于輸送區(qū)段15相反地轉(zhuǎn)動使得輥135的止回面14的恰好指向處理物10的區(qū)段朝著較高的液體水平(在圖8 中向左)運(yùn)動。在流出區(qū)域中的輥134、135也可以構(gòu)建為使得在止回面4、14與處理物10的與該止回面對置的表面之間形成具有小于0. 3mm例如大約0. Imm的最小間隙高度的間隙。例如， 輸送區(qū)段可以相對于止回面提高小于0. 3mm，例如提高大約0. 1mm?？商孢x地或附加地，在處理站131的流入?yún)^(qū)域中和/或在流出區(qū)域中可以分別設(shè)置一個或多個吹氣裝置，以便以流體流去除穿過間隙的處理液，如參照圖3所闡述的那樣。通過合適地構(gòu)建在流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中的輥對可以降低液體穿過在輸送處理物時留出的間隙，使得在處理站的流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中未設(shè)置用于吹走處理液的入流裝置。在流入?yún)^(qū)域中和/或在流出區(qū)域中也可以分別設(shè)置多個用于去除或擋住處理液的裝置，如參照圖4和5所闡述的那樣。根據(jù)不同的實施例的裝置和方法在用于處理物的濕化學(xué)處理的設(shè)備中允許將處理液從處理物去除或擋住，其中在擠壓輥與處理物的有用區(qū)之間的直接接觸可以被減小或避免。在圖中所示的并且詳細(xì)描述的實施例的許多變形方案可以實現(xiàn)在不同的實施例中。在不同的實施例中描述了止回面，其在處理物的寬度方向上基本上在相同的高度上橫向于處理物地延伸，而形成間隙的止回面也可以構(gòu)建為使得間隙的橫截面尤其是間隙高度在處理物的寬度方向上改變。例如，止回面可以在處理物的寬度方向上是凹形的，使得形成的間隙(根據(jù)在處理物的寬度方向上的位置)在處理物的中部中高于邊緣。不同的實施例尤其可以使用在處理設(shè)備中，在其中處理物是連續(xù)的并且在水平輸送平面上被輸送，而實施例也可以使用在如下設(shè)備中，其中處理物在垂直輸送平面中被輸送。例如，在處理物在垂直的輸送平面上被輸送時形成間隙的止回面與入流裝置的組合也可以用于蓄積液體。在實施例的背景下描述了將用于去除或擋住處理液的裝置使用在處理站的流入?yún)^(qū)域和/或流出區(qū)域中，這樣的裝置也可以使用在處理單元內(nèi)，以便置換液體，例如用于改進(jìn)的物質(zhì)交換。根據(jù)不同的實施例的裝置和方法例如可以使用在電路板的制造中，如印刷電路板，而其應(yīng)用并不限于此。附圖標(biāo)記1用于去除處理液的裝置2 輥3另外的輥4止回面5、6提高的邊緣區(qū)段7 軸8 間隙9最小間隙高度10處理物11有用區(qū)12邊緣區(qū)域14另外的止回面15，16提高的邊緣區(qū)段17 軸
18另外的間隙19最小間隙高度20輸送方向21處理液22液體水平23處理液對液體水平25，沈轉(zhuǎn)動方向31用于去除處理液的裝置32入流裝置33流體流34處理液41流出區(qū)域42處理區(qū)域43，44，45用于去除處理液的裝置46 底部47，48 溢吝51，52 輥53，55 輥54，56入流裝置57，59 輥58，60入流裝置61 開口71，72液體水平73處理液74水平差81流出區(qū)域82處理區(qū)域83用于去除處理液的裝置84-86 輥91，92液體水平93處理液94 泵95液體流96 開口97水平差101用于去除處理液的裝置102 輥103另外的輥
21
104止回面
105回退的邊緣區(qū)段
106另外的止回面
107回退的邊緣區(qū)段
106另外的止回面
107回退的邊緣區(qū)段
108，109保持軌
111用于去除處理液的裝置
112，113插入物
114，117 側(cè)面
115，118 間隙
116，119傾斜部
131處理站
132-135 棍
136液體水平
141-148轉(zhuǎn)動方向
200處理站
201內(nèi)部容器
202外部容器
203處理物
204輸送方向
206，207入流噴嘴
208處理液
209在外部容器中的水平
210泵
211,212
214，216輸送輥對
213，215擠壓輥對
權(quán)利要求
1.一種用于處理平面處理物(10)的方法，該處理物在用于對處理物(10)進(jìn)行濕化學(xué)處理的設(shè)備中沿著輸送路徑被輸送，其中處理物(10)在該設(shè)備中暴露于處理液(21)，以及其中用于止回處理液(21)的止回面(4，14)定位在輸送路徑上，使得在處理物(10)經(jīng)過止回面(4，14)時在止回面(4，14)與處理物(10)的表面之間留有間隙(8，18)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中止回面(4，14)構(gòu)建在輥(51,52 ；84,85)上，使得間隙(8，18)在處理物(10)的整個有用區(qū)(11)上延伸，以及其中借助與止回面(4，14)間隔設(shè)置的用于去除處理液的第二裝置(32 ；44,45)將通過在止回面(4，14)與處理物(10)的表面之間留有的間隙(8，18)的處理液從處理物(10)去除。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中用于去除處理液的第二裝置(44，45)具有第二止回面，尤其是構(gòu)建在第二輥(53，55， 57，59)上的第二止回面，并且定位在輸送路徑上，使得在處理物(10)經(jīng)過第二止回面時在第二止回面與處理物(10)的表面之間留有第二間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的方法，其中處理液在輥(51；84)的兩個側(cè)蓄積并且其中處理液(21)在間隙(8，18)的相反的側(cè)的水平差(74 ；97)被調(diào)節(jié)。
5.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中間隙(8，18)具有最小間隙高度(9，19)并且處理液(21)至少在止回面(4，14)的一側(cè)蓄積直至如下水平(22 ；71，72 ；91 ；121 ；136) 該水平高于間隙(8，18)的最小間隙高度(9，19)。
6.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中通過間隙(8，18)的處理液(21)借助入流處理物(10)的流體流從處理物(10)去除。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中用于去除處理液(21)的流體流(33)構(gòu)建為使得其并不穿過間隙(8，18)。
8.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中止回面(4，14)構(gòu)建在輥(2，3；51，52，53， 55,57,59 ；84,85 ；102，103，；132-135)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其中在輥(2,3；51, 52, 53, 55, 57, 59 ；84，85 ； 102，103 ； 132-135)上設(shè)置至少一個輸送區(qū)段(5,6,15,16 ； 105，107)，其與處理物(10)耦合以便輸送處理物(10)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中輸送區(qū)段(5，15)相對于止回面(4，14)被轉(zhuǎn)動用于輸送處理物(10)。
11.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中處理液(21)在間隙(8，18)的相反的側(cè)的水平差(74 ；97)被調(diào)節(jié)。
12.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中止回面(4，14)被轉(zhuǎn)動為使得降低或抑制處理液(21)穿過間隙(8，18)。
13.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中處理液(21)借助止回面(4，14)在處理站中蓄積，使得處理物(10)在處理站中以浸漬到處理液(21)中的方式來輸送。
14.根據(jù)上述權(quán)利要求之一所述的方法，其中處理物(10)是膜狀材料，尤其是導(dǎo)體膜。
15.一種用于在對處理物(10)濕化學(xué)處理的設(shè)備中將處理液(21)從平面處理物(10)去除或擋住的裝置，其中該裝置包括止回面(4，14)用于止回處理液(21)，并且構(gòu)建為相對于處理物(10) 的輸送路徑設(shè)置為使得該裝置在止回面(4，14)與沿著輸送路徑輸送的處理物(10)的表面之間構(gòu)建間隙(8，18)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其中止回面(4，14)構(gòu)建在輥(51，52；84,85)上，使得間隙(8，18)在處理物(10)的整個有用區(qū)(11)上延伸，以及其中該裝置包括與止回面(4，14)間隔設(shè)置的第二輥(53，55，57，59)，其構(gòu)建為將通過在止回面(4，14)與處理物(10)的表面之間留有的間隙(8，18)的處理液從處理物(10)去除。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的裝置，其中處理液在輥(51；84)的兩個側(cè)上蓄積并且處理液(21)在間隙(8，18)的相反的側(cè)的水平差(74 ；97)被調(diào)節(jié)。
18.根據(jù)權(quán)利要求15-17之一所述的裝置，其中間隙(8，18)具有最小間隙高度(9， 19)，并且該裝置構(gòu)建為在該裝置的至少一側(cè)蓄積處理液(21)直至如下水平(22 ；71，72 ； 91 ；121 ； 136)該水平高于間隙(8，18)的最小間隙高度(9，19)。
19.根據(jù)權(quán)利要求15-18之一所述的裝置，包括與止回面(4，14)間隔的入流裝置(32； 54，56，58，60)，其構(gòu)建為借助流體流(33)將處理液(21)從處理物(10)去除。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的裝置，其中入流裝置(32;54，56，58，60)構(gòu)建為以橫向于處理物(10)的輸送方向(20)定向的速度分量產(chǎn)生流體流(33)。
21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的裝置，其中入流裝置(32;54，56，58，60)構(gòu)建并且設(shè)置為使得流體流(33)并不穿過間隙(8，18)。
22.根據(jù)權(quán)利要求15-21之一所述的裝置，包括另一止回面(14)，其中該裝置構(gòu)建為相對于處理物(10)的輸送路徑設(shè)置使得該裝置在該另一止回面(14)與沿著輸送路徑輸送的處理物(10)的另一表面之間構(gòu)建另一間隙(18)。
23.根據(jù)權(quán)利要求15-22之一所述的裝置，其中該裝置構(gòu)建為能夠?qū)崿F(xiàn)處理液(21)穿過間隙(8，18)。
24.根據(jù)權(quán)利要求15-23之一所述的裝置，包括以能夠轉(zhuǎn)動的方式安置的輥(2，3;51， 52,53,55,57,59 ；84,85 ；102，103 ；132-135)，止回面(4，14)構(gòu)建在該輥上。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的裝置，其中在輥(2,3；51,52,53,55,57,59 ；84,85 ；102， 103 ；132-135)上設(shè)置有至少一個輸送區(qū)段(5,6,15,16 ； 105，107)，其能夠與處理物(10) 耦合用于輸送處理物(10)。
26.根據(jù)權(quán)利要求24或25所述的裝置，其中在輥上設(shè)置至少兩個輸送區(qū)段(5，6，15， 16 ；105,107)用于輸送處理物(10)，其中止回面(4，14)設(shè)置在所述至少兩個輸送區(qū)段(5， 6，15，16 ；105，107)之間。
27.根據(jù)權(quán)利要求25或26所述的裝置，其中所述至少一個輸送區(qū)段或所述至少兩個輸送區(qū)段(5，15)能夠相對于止回面(4，14)轉(zhuǎn)動。
28.根據(jù)權(quán)利要求25-27之一所述的裝置，其中止回面(4，14)以相對于所述至少一個輸送區(qū)段或者所述至少兩個輸送區(qū)段(5，6，15，16 ； 105，107)偏置的方式構(gòu)建。
29.根據(jù)權(quán)利要求15-28之一所述的裝置，其構(gòu)建用于使用在根據(jù)權(quán)利要求1-14之一所述的方法中。
30.一種用于處理平面處理物(10)的設(shè)備，其中該設(shè)備構(gòu)建為將處理液(21)施加到處理物(10)的至少一個表面上或?qū)⑻幚砦?10)浸漬到處理液(21)中，并且該設(shè)備構(gòu)建為沿著輸送路徑輸送處理物，包括根據(jù)權(quán)利要求15-29之一所述的用于將處理液(21)從處理物 (10)去除或者擋住的裝置(1 ；31 ；43,44,45 ；83 ；101 ；111)。
31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的設(shè)備，其中至少兩個彼此在處理物(10)的輸送方向上間隔的裝置(43，44，45 ；83，44，45)根據(jù)權(quán)利要求15-29之一來設(shè)計。
32.根據(jù)權(quán)利30或31所述的設(shè)備，包括處理站，其中處理液(21)能夠蓄積，其中在處理站的流入?yún)^(qū)域中設(shè)置有根據(jù)權(quán)利要求15-29之一所述的裝置(132，133)，并且其中在處理站的流出區(qū)域中設(shè)置有根據(jù)權(quán)利要求15-29之一所述的另一裝置(134，135)。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的設(shè)備，其構(gòu)建為設(shè)置在處理站的流入?yún)^(qū)域中的裝置(132， 133)的止回面⑷和設(shè)置在處理站的流出區(qū)域中的裝置(134，135)的止回面⑷相反地轉(zhuǎn)動。
34.一種用于制造電路板的方法，其中電路板由根據(jù)權(quán)利要求1-14之一所述的方法處理的處理物來制造。
全文摘要
為了將處理液(21)從在用于對處理物(10)濕化學(xué)處理的設(shè)備中輸送的平面處理物(10)去除，設(shè)置用于止回處理液(21)的止回面(4，14)。止回面(4，14)相對于處理物(10)的輸送路徑設(shè)置，使得在處理物(10)經(jīng)過止回面(4，14)時在止回面(4，14)與處理物(10)的與止回面(4，14)對置的表面之間留有間隙(8，18)。止回面(4，14)例如可以設(shè)置為輥(2，3)的外殼面的偏置的區(qū)段。
文檔編號H05K3/00GK102422727SQ201080021230
公開日2012年4月18日 申請日期2010年5月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年5月13日
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