本發(fā)明涉及一種熱室。

背景技術(shù)：
已知有由屏蔽放射線透射的放射線屏蔽壁構(gòu)成的熱室（放射線屏蔽箱）。將放射性物質(zhì)標(biāo)記為其他物質(zhì)的合成裝置等保管放射性物質(zhì)的裝置容納于熱室內(nèi)的室內(nèi)而使用（例如參考專利文獻(xiàn)1）。另外，像這樣，能夠在室內(nèi)容納合成裝置且能夠抑制放射線向外部透射的室還稱為合成室。熱室中設(shè)置有用于向合成室內(nèi)供給清潔度提升的空氣的清潔單元。清潔單元具備去除空氣中的塵土（異物）的HEPA過(guò)濾器和向合成室內(nèi)導(dǎo)入空氣的風(fēng)扇。通過(guò)清潔單元去除異物而清潔度提升的空氣導(dǎo)入于合成室內(nèi)。另一方面，熱室為了不使合成室內(nèi)的空氣向外部泄漏，合成室內(nèi)被保持為負(fù)壓。專利文獻(xiàn)1：日本特開2006-343289號(hào)公報(bào)近年來(lái)，要求進(jìn)一步提升熱室的合成室內(nèi)的清潔度。在上述以往的熱室中，由于合成室內(nèi)保持為負(fù)壓，因此存在外部的空氣不通過(guò)清潔單元而向合成室內(nèi)侵入的顧慮。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)提升合成室內(nèi)的清潔度的熱室。本發(fā)明提供一種具有抑制放射線透射的放射線屏蔽壁的熱室，該熱室包括：熱室主體，其為由放射線屏蔽壁形成的箱；正壓室，形成于該熱室主體內(nèi)，能夠?qū)?nèi)部保持為第1氣壓，并且容納有放射性藥劑處置裝置；及負(fù)壓室，形成于熱室主體內(nèi)，能夠?qū)?nèi)部保持為比第1氣壓低且比大氣壓低的第2氣壓。這種熱室由于構(gòu)成為具備能夠?qū)⑹覂?nèi)的壓力保持為比大氣壓低的第2壓力的負(fù)壓室及能夠?qū)⑹覂?nèi)保持為比負(fù)壓室更高的壓力的正壓室，因此能夠防止放射性物質(zhì)從負(fù)壓室向熱室外部流出，并且防止異物（塵土、塵埃等）從負(fù)壓室向正壓室侵入。因此，能夠提供一種實(shí)現(xiàn)抑制異物向正壓室內(nèi)侵入而提升清潔度并且能夠防止放射性物質(zhì)流出的熱室。優(yōu)選負(fù)壓室配置于熱室主體的開口部與正壓室之間。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，能夠在熱室主體的開口部側(cè)配置負(fù)壓室，并且在其內(nèi)部（背面?zhèn)龋┡渲谜龎菏?。由于是具備比正壓室更靠開口部側(cè)的負(fù)壓室的結(jié)構(gòu)，因此能夠防止放射性物質(zhì)從負(fù)壓室向熱室外部流出，并且防止異物（塵土、塵埃等）從負(fù)壓室向正壓室侵入。因此，能夠進(jìn)一步抑制異物向正壓室內(nèi)侵入來(lái)實(shí)現(xiàn)清潔度的提升。并且，優(yōu)選正壓室能夠?qū)?nèi)部保持為比大氣壓更高的第1氣壓。當(dāng)正壓室內(nèi)比大氣壓高時(shí)，能夠使負(fù)壓室與正壓室的壓力差變大，能夠防止異物從正壓室的外部混入。熱室也可為具備提升正壓室內(nèi)的壓力的升壓機(jī)構(gòu)和從導(dǎo)入于正壓室內(nèi)的氣體中去除異物的過(guò)濾器的結(jié)構(gòu)。根據(jù)該結(jié)構(gòu)的熱室，能夠通過(guò)升壓機(jī)構(gòu)提升正壓室內(nèi)的壓力，能夠?qū)⑼ㄟ^(guò)過(guò)濾器去除異物的氣體導(dǎo)入到正壓室內(nèi)。優(yōu)選向正壓室內(nèi)導(dǎo)入的氣體從正壓室的上部側(cè)導(dǎo)入，從正壓室導(dǎo)出的氣體從正壓室的下部側(cè)導(dǎo)出。通過(guò)從上部側(cè)導(dǎo)入氣體，并從下部側(cè)導(dǎo)出氣體，能夠在正壓室內(nèi)形成從上方向下方的氣體的流動(dòng)。不會(huì)使正壓室的異物揚(yáng)起就能夠向正壓室外排出。發(fā)明效果如此根據(jù)本發(fā)明的熱室能夠?qū)崿F(xiàn)正壓室（合成室）內(nèi)的清潔度的提升。附圖說(shuō)明圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的熱室的截面圖，表示與側(cè)面平行的截面。圖2是本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的熱室的截面圖，表示與正面平行的截面。圖3是熱室主體的正面截面圖，是表示內(nèi)門及小門的配置的圖。圖中：10-熱室，11-熱室主體，12-正面門（放射線屏蔽壁），13-背面壁（放射線屏蔽壁），14-頂面壁（放射線屏蔽壁），15-底面壁（放射線屏蔽壁），16-側(cè)壁（放射線屏蔽壁），21-正壓室（合成室），22-負(fù)壓室，31-清潔單元，100-放射性藥劑處置裝置。具體實(shí)施方式以下，參考附圖對(duì)本發(fā)明所涉及的熱室的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行說(shuō)明。另外，附圖的說(shuō)明中，對(duì)相同或相應(yīng)要件附加相同的符號(hào)而省略重復(fù)說(shuō)明。并且，上下左右等的位置關(guān)系基于附圖的位置關(guān)系。圖1及圖2所示的熱室10具備呈箱形的熱室主體11。熱室主體11具有：正面門（開閉門）12，開閉熱室主體11的正面開口部；背面壁13，其為與正面門12對(duì)置而配置的壁體；頂面壁14，其為配置于頂面的壁體；底面壁15，其為配置于底面的壁體；及一對(duì)側(cè)壁16，其為配置于側(cè)面的壁體。另外，在以下的說(shuō)明中，沒(méi)有必要區(qū)分背面壁13、頂面壁14、底面壁15及側(cè)壁16時(shí)，有時(shí)稱為壁體13～16。構(gòu)成熱室主體11的正面門12及壁體13～16由抑制放射線的透射的放射線屏蔽壁形成。放射線屏蔽壁例如由鉛形成。也可根據(jù)容納于熱室主體11內(nèi)的放射性物質(zhì)適當(dāng)變更放射線屏蔽壁的材質(zhì)。熱室主體11的正面開口部用于取出放入容納于熱室主體11的內(nèi)部的對(duì)象物100。作為容納于熱室主體11的內(nèi)部的對(duì)象物100，例如可以舉出將放射性物質(zhì)標(biāo)記為其他物質(zhì)（以放射性物質(zhì)為基礎(chǔ)合成放射性藥劑）的合成裝置，檢定放射性藥劑的品質(zhì)的品質(zhì)檢定裝置等。以下，將這些對(duì)象物稱為“放射性藥劑處置裝置（放射性物質(zhì)處置裝置）”。熱室主體11的開口部并不限定形成于正面?zhèn)?，也可形成于?cè)面、頂面、底面、背面。并且，開口部也可形成多個(gè)。正面門12由放射性屏蔽壁形成。正面門12例如固定于設(shè)置在側(cè)壁16的正面?zhèn)鹊亩瞬康你q鏈（未圖示）而而支承為可擺動(dòng)。正面門12成為具有左右一對(duì)門的結(jié)構(gòu)。正面門12只要能夠開閉開口部即可，形成門的壁體可以是滑動(dòng)的也可以是擺動(dòng)的。另外，正面門12與對(duì)置的背面壁13可以是相等的面積，也可以是覆蓋比背面壁13面積小的開口部的門。熱室10也可以是具備正面壁，并具備對(duì)形成于該正面壁的開口部進(jìn)行開閉的正面門的結(jié)構(gòu)。熱室主體11中形成有能夠?qū)?nèi)部保持為第1氣壓的正壓室21和將內(nèi)部保持為比第1氣壓更低的第2氣壓的負(fù)壓室22。優(yōu)選第1氣壓為比大氣壓高的壓力。正壓室21形成能夠容納放射性藥劑處置裝置100（例如合成裝置）的空間。另外，熱室主體11內(nèi)可以為通過(guò)其他壁體（隔板24）被劃分為多個(gè)空間，且具備多個(gè)正壓室21的結(jié)構(gòu)。熱室主體11具備將內(nèi)部以左右方向劃分的隔板24，在左右方向上具有多個(gè)正壓室21。本實(shí)施方式中，通過(guò)隔板25以上下方向劃分。隔板24、25可以由放射線屏蔽壁形成，也可由透射放射線的壁體形成。正壓室21由開閉正壓室21的正面開口部的內(nèi)門23、上述背面壁13、頂面壁14、底面壁15、側(cè)壁16及隔板24～26形成。另外，正壓室21內(nèi)也可通過(guò)其他壁體（隔板25）劃分為多個(gè)空間。本實(shí)施方式中，通過(guò)隔板25以上下方向劃分。隔板25可由放射線屏蔽壁形成，也可由透射放射線的壁體形成。隔板25中設(shè)置有未圖示的通氣孔，上層側(cè)的正壓室21和下層側(cè)的正壓室21連通。并且，下層側(cè)的正壓室21的底部被隔板26覆蓋。另外，在隔板26與底面壁15之間形成有與負(fù)壓室22連通的空間22b。正壓室21的開口部用于取出放入容納于內(nèi)部的放射性藥劑處置裝置100。正壓室21的開口部并不限定形成于正面?zhèn)?。正壓?1的開口部形成于與熱室主體11的開口部對(duì)應(yīng)的位置。本實(shí)施方式中，由于熱室主體11的開口部配置于正面?zhèn)?，因此正壓?1的開口部也形成于正壓室21的正面?zhèn)取?nèi)門23只要能夠開閉正壓室21的開口部即可，形成門的壁體可以是滑動(dòng)的，也可以是擺動(dòng)的。內(nèi)門23可由放射性屏蔽壁形成，也可由透射放射線的壁體形成。負(fù)壓室22比正壓室21更靠熱室主體11的開口部（正面門12）側(cè)形成。負(fù)壓室22由正面門12、內(nèi)門23、頂面壁14的正面?zhèn)鹊亩瞬?、底面?5的正面?zhèn)鹊亩瞬考耙粚?duì)側(cè)壁16的正面?zhèn)鹊亩瞬啃纬?。?fù)壓室22配置于熱室主體11的開口部（正面門12）與正壓室21之間，能夠?qū)?nèi)部保持為比第1氣壓低且比大氣壓低的第2氣壓。并且，熱室10具備向正壓室21內(nèi)導(dǎo)入清潔度提升的空氣的清潔單元31和將負(fù)壓室22內(nèi)的氣體（空氣）向熱室10的外部排出的排氣單元41。本實(shí)施方式的熱室10具備有多個(gè)正壓室21。設(shè)置于上層側(cè)的正壓室21上設(shè)置有清潔單元31。清潔單元31具有去除空氣中的異物（塵土、塵埃等）的HEPA過(guò)濾器和用于向正壓室21內(nèi)供給空氣的風(fēng)扇。另外，HEPA過(guò)濾器可配置于風(fēng)扇的上游側(cè)，也可配置于風(fēng)扇的下游側(cè)。清潔單元31例如設(shè)置于頂面壁14。另外，清潔單元31也可設(shè)置在其他壁體（側(cè)壁16、背面壁13等）。并且，也可在與正壓室21連通的配管（進(jìn)氣管）設(shè)置清潔單元31。排氣單元41具備有與負(fù)壓室22連通的排氣管42和設(shè)置于排氣管42的排氣用鼓風(fēng)機(jī)43。排氣管42例如配置為連接于負(fù)壓室22（22b）的底面?zhèn)?，并從熱室主體11的下方在背面壁13的外側(cè)向上方推進(jìn)。排氣用鼓風(fēng)機(jī)43例如配置于熱室主體11的頂面壁14上。排氣用鼓風(fēng)機(jī)43例如由用于吸引比排氣用鼓風(fēng)機(jī)43更靠上游側(cè)（負(fù)壓室22側(cè)）的排氣管42內(nèi)的空氣的風(fēng)扇等吸引機(jī)構(gòu)構(gòu)成。另外，吸引機(jī)構(gòu)并不限定于風(fēng)扇，也可使用其他機(jī)構(gòu)。并且，也可以是在正面門12及內(nèi)門23設(shè)置開口部，且具備開閉該開口部的小門23b的結(jié)構(gòu)。如圖3所示，也可以是例如在下層的內(nèi)門23設(shè)置有小門23b，在上層的內(nèi)門23未設(shè)置有小門23b的結(jié)構(gòu)。另外，雖然未圖示正面門12的小門，但其設(shè)置于與內(nèi)門23的小門23b對(duì)應(yīng)的位置。通過(guò)不開閉正面門12及內(nèi)門23而開閉小門23b，能夠抑制對(duì)正壓室21內(nèi)的壓力、清潔度的影響，并且進(jìn)行向正壓室21內(nèi)的物品的取出放入或正壓室21內(nèi)的放射性藥劑處置裝置100的操作等。接著，對(duì)熱室10的作用進(jìn)行說(shuō)明。在熱室11的正壓室21內(nèi)，例如配置有合成裝置。通過(guò)清潔單元31去除異物而清潔度提升的空氣導(dǎo)入到正壓室21內(nèi)。正壓室21內(nèi)保持為第1氣壓。第1氣壓例如為比大氣壓更高的壓力。排氣用鼓風(fēng)機(jī)43吸引負(fù)壓室22內(nèi)的空氣。負(fù)壓室22內(nèi)保持為比第1氣壓更低且比大氣壓更低的第2氣壓。正壓室21內(nèi)的空氣通過(guò)形成于內(nèi)門23的周圍的間隙等，流入負(fù)壓室22內(nèi)（正壓室21與負(fù)壓室22連通）。負(fù)壓室22內(nèi)的空氣被排氣用鼓風(fēng)機(jī)43吸引，在排氣管42內(nèi)流動(dòng)而向熱室10外排出。并且，通過(guò)形成于正面門12的周圍的間隙等，向負(fù)壓室22內(nèi)侵入的空氣不會(huì)侵入到正壓室21內(nèi)而通過(guò)排氣單元41向熱室10外排氣。從熱室10排出的空氣例如通過(guò)活性炭過(guò)濾器導(dǎo)送至排氣設(shè)備并進(jìn)行預(yù)定的處理。放射性藥劑處置裝置100處置在PET（PositronEmmisionTomography）診斷等中使用的放射性藥劑，由于該放射性藥劑對(duì)患者注射，因此要求盡可能減少異物的混入。因此，在熱室10內(nèi)設(shè)置有放射性藥劑處置裝置100的室優(yōu)選盡可能抑制從其外部有異物的侵入。根據(jù)本實(shí)施方式的熱室10，由于是具備能夠?qū)?nèi)部保持為第1氣壓的正壓室21及能夠?qū)?nèi)部保持為比第1氣壓低且比大氣壓低的第2氣壓的負(fù)壓室22的結(jié)構(gòu)，因此能夠防止放射性物質(zhì)從負(fù)壓室22向熱室主體11外流出，并且防止異物（塵土、塵埃等）從負(fù)壓室22向正壓室21侵入。因此，能夠提供一種抑制異物侵入到正壓室21內(nèi)來(lái)實(shí)現(xiàn)清潔度的提升，并且可防止放射性物質(zhì)的流出的熱室。在本實(shí)施方式的熱室10中，能夠?qū)⒄龎菏?1內(nèi)維持為例如等級(jí)100的清潔度。若是在比起正壓室21更靠正面門12（開口部）側(cè)具備負(fù)壓室22的結(jié)構(gòu)，則能夠降低放射性物質(zhì)從負(fù)壓室22通過(guò)開口部流出的顧慮。并且，由于正壓室21的內(nèi)部保持為比大氣壓更高的第1氣壓，因此能夠可靠地防止異物從熱室10的外部向正壓室21內(nèi)侵入。并且，在本實(shí)施方式的熱室10中，導(dǎo)入到正壓室21內(nèi)的空氣從正壓室21的上部側(cè)導(dǎo)入，從正壓室21導(dǎo)出的空氣從正壓室21的下部側(cè)導(dǎo)出。通過(guò)從上部側(cè)導(dǎo)入空氣并從下部側(cè)導(dǎo)出空氣，能夠在正壓室21內(nèi)形成從上方向下方的氣體的流動(dòng)。例如，即使在正壓室21內(nèi)存在異物時(shí)，也不會(huì)揚(yáng)起異物而能夠向正壓室21外排出。以上，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明并不限定于上述實(shí)施方式。例如，正壓室內(nèi)的壓力（第1氣壓）并不限定于比大氣壓更高的情況，可以是大氣壓，也可以是比大氣壓更低的壓力。并且，熱室也可以是不具備清潔單元（升壓機(jī)構(gòu)（風(fēng)扇等）、過(guò)濾器）的結(jié)構(gòu)。例如，也可從填充有清潔度提升的空氣的容器（儲(chǔ)氣瓶等）向正壓室21內(nèi)導(dǎo)入空氣。另外，導(dǎo)入于正壓室21內(nèi)的氣體并不限定于空氣，也可以是其他氣體（例如，惰性氣體等）。并且，既可從正壓室21的上部側(cè)導(dǎo)入氣體，例如也可從下部側(cè)或中部導(dǎo)入。同樣可從正壓室21的下部側(cè)導(dǎo)出氣體，也可從上部側(cè)或中部導(dǎo)出。例如，也可是從負(fù)壓室22的上部側(cè)導(dǎo)出空氣的結(jié)構(gòu)。并且，升壓機(jī)構(gòu)并不限定于清潔單元31的風(fēng)扇，也可以是壓縮機(jī)等其他升壓機(jī)構(gòu)。并且，上述實(shí)施方式中，例示有具備多個(gè)正壓室21的結(jié)構(gòu)，但也可以是具備一個(gè)正壓室21的結(jié)構(gòu)。并且，負(fù)壓室22可以是相對(duì)于多個(gè)正壓室21共用的負(fù)壓室，也可以是與各正壓室21對(duì)應(yīng)地各自具備負(fù)壓室22的結(jié)構(gòu)。并且，上述實(shí)施方式中，在正壓室21的底面?zhèn)刃纬捎羞B通于負(fù)壓室22的空間22b，但也可以是在正壓室21的底面?zhèn)任葱纬捎锌臻g22b的結(jié)構(gòu)。另外，若放射性藥劑處置裝置100為檢定放射性藥劑的品質(zhì)的放射性藥劑的品質(zhì)檢定裝置，則能夠不廢棄已進(jìn)行品質(zhì)檢定的放射性藥劑而直接對(duì)患者注射。在以往的放射性藥劑的品質(zhì)檢定中，向作為其1工序的無(wú)菌試驗(yàn)用試劑瓶滴下放射性藥劑的操作由工作人員手動(dòng)進(jìn)行。由于工作人員的手侵入到熱室內(nèi)，因此熱室內(nèi)容易混入異物。因此，品質(zhì)檢定中使用的放射性藥劑無(wú)法供患者注射使用而被廢棄。但是，最近，要求放射性藥劑的品質(zhì)檢定的自動(dòng)化。通過(guò)機(jī)械自動(dòng)進(jìn)行品質(zhì)檢定，并且，通過(guò)使用如本發(fā)明的熱室，能夠抑制異物混入于進(jìn)行品質(zhì)檢定的放射性藥劑，并能夠?qū)⑦M(jìn)行品質(zhì)檢定的放射性藥劑直接對(duì)患者注射。本申請(qǐng)主張基于2012年2月22日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)第2012-036427號(hào)的優(yōu)先權(quán)。其申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容通過(guò)參考援用于本說(shuō)明書中。