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      一種藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐的制作方法

      文檔序號(hào):8071548閱讀:193來(lái)源:國(guó)知局
      一種藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐的制作方法
      【專利摘要】藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐涉及一種藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用的真空爐。主要是為解決現(xiàn)有的藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐溫場(chǎng)熱擾動(dòng)幾率和不穩(wěn)定性高的問(wèn)題而設(shè)計(jì)的。它包括爐體、進(jìn)水閥門、流量計(jì)、真空系統(tǒng)、爐蓋、出水流量計(jì)、電極、觀察孔、晶體提拉機(jī)構(gòu)、下隔熱屏、側(cè)隔熱屏、上隔熱屏、坩堝、發(fā)熱體、坩堝托盤、托盤頂柱、出水管道、集水槽;集水控制槽上有進(jìn)水管,集水控制槽有管道經(jīng)調(diào)節(jié)閥門與集水槽連接,集水控制槽內(nèi)的換熱器有管道經(jīng)制冷閥門與制冷機(jī)連接,集水控制槽內(nèi)設(shè)有溫度控制儀,集水控制槽通過(guò)管道經(jīng)水泵和控制流量計(jì)與爐底中央的進(jìn)水閥門連接。優(yōu)點(diǎn)是減少溫場(chǎng)擾動(dòng)幾率和不穩(wěn)定性,確保藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)能有穩(wěn)定和理想的溫場(chǎng)。
      【專利說(shuō)明】—種藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐

      【技術(shù)領(lǐng)域】
      :
      [0001]本發(fā)明涉及一種藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用的真空爐。

      【背景技術(shù)】
      :
      [0002]現(xiàn)有的藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐底部無(wú)水冷,有的雖然有水冷,但是沒有溫度和水流量的控制,增加了生長(zhǎng)藍(lán)寶石晶體溫場(chǎng)熱擾動(dòng)幾率和不穩(wěn)定性,導(dǎo)致生產(chǎn)困難,產(chǎn)品質(zhì)量不穩(wěn)定,特別是生長(zhǎng)60kg以上晶體就更為困難。


      【發(fā)明內(nèi)容】

      :
      [0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種溫場(chǎng)熱擾動(dòng)幾率小,穩(wěn)定性好,能提高藍(lán)寶石產(chǎn)量和質(zhì)量的藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐。
      [0004]上述目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:與現(xiàn)有技術(shù)相同的是它也包括具有雙層結(jié)構(gòu)的爐體,爐體側(cè)壁上有進(jìn)水閥門,爐體側(cè)壁的出水口上有流量計(jì),爐體一側(cè)裝有真空系統(tǒng),爐體上部有爐蓋,爐蓋上有進(jìn)水閥門、出水流量計(jì)、電極、觀察孔、藍(lán)寶石晶體提拉機(jī)構(gòu),爐體內(nèi)有下隔熱屏、側(cè)隔熱屏、上隔熱屏,在各隔熱屏里面爐體的中央有坩堝,坩堝外面有發(fā)熱體,坩堝下面是坩堝托盤,坩堝托盤下面是托盤頂柱,托盤頂柱置于爐底上,爐底為雙層結(jié)構(gòu),爐底中央有進(jìn)水閥門;爐底周圍有若干個(gè)出水管道,各出水管道上都有流量計(jì),爐底上的各出水管道均與集水槽連通,集水槽內(nèi)設(shè)有溫度計(jì),集水槽上有排水閥門;與現(xiàn)有技術(shù)不同的是:還設(shè)有集水控制槽,集水控制槽上有進(jìn)水管,集水控制槽有管道經(jīng)調(diào)節(jié)閥門與集水槽連接,集水控制槽內(nèi)有換熱器,換熱器有管道經(jīng)制冷閥門與制冷機(jī)連接,集水控制槽內(nèi)設(shè)有溫度控制儀,集水控制槽通過(guò)管道經(jīng)水泵和控制流量計(jì)與爐底中央的進(jìn)水閥門連接。
      [0005]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:藍(lán)寶石晶體的生長(zhǎng)對(duì)溫場(chǎng)要求非常嚴(yán)格,現(xiàn)有的藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐溫度調(diào)控設(shè)施雖然較完備,并且設(shè)有雙層爐底,,通過(guò)控制雙層爐底內(nèi)的水溫來(lái)影響托盤頂柱的溫度,進(jìn)而達(dá)到通過(guò)托盤頂柱的溫度去影響坩堝的溫場(chǎng),在藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)實(shí)踐中雙層爐底內(nèi)水溫控制的精度仍顯不足;本發(fā)明增設(shè)了集水控制槽等控制手段,對(duì)水溫控制更精準(zhǔn)、靈活,從而實(shí)現(xiàn)通過(guò)托盤頂柱對(duì)坩堝溫場(chǎng)更為精確及時(shí)的控制,避免和減少溫場(chǎng)擾動(dòng)幾率和不穩(wěn)定性,確保藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)能有穩(wěn)定和理想的溫場(chǎng)。

      【專利附圖】

      【附圖說(shuō)明】
      :
      [0006]附圖是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

      【具體實(shí)施方式】
      :
      [0007]參照附圖,它包括具有雙層結(jié)構(gòu)的爐體6,爐體側(cè)壁上有進(jìn)水閥門11,爐體側(cè)壁的出水口上有流量計(jì)25,爐體一側(cè)裝有真空系統(tǒng)7,爐體上部有爐蓋1,爐蓋上有進(jìn)水閥門5、出水流量計(jì)25、電極2、觀察孔3、藍(lán)寶石晶體提拉機(jī)構(gòu)4,爐體內(nèi)有下隔熱屏10、側(cè)隔熱屏9、上隔熱屏8,在各隔熱屏里面爐體的中央有坩堝29,坩堝外面有發(fā)熱體27,坩堝下面是坩堝托盤28,坩堝托盤下面是托盤頂柱26,托盤頂柱置于爐底30上,爐底為雙層結(jié)構(gòu),爐底中央有進(jìn)水閥門15 ;爐底周圍有若干個(gè)出水管道,各出水管道上都有流量計(jì)25,爐底上的各出水管道均與集水槽12連通,集水槽內(nèi)設(shè)有溫度計(jì)14,集水槽上有排水閥門13 ;還設(shè)有集水控制槽17,集水控制槽上有進(jìn)水管18,集水控制槽有管道經(jīng)調(diào)節(jié)閥門16與集水槽12連接,集水控制槽內(nèi)有換熱器19,換熱器有管道經(jīng)制冷閥門20與制冷機(jī)21連接,集水控制槽內(nèi)設(shè)有溫度控制儀22,集水控制槽通過(guò)管道經(jīng)水泵23和控制流量計(jì)24與爐底中央的進(jìn)水閥門15連接。
      【權(quán)利要求】
      1.一種藍(lán)寶石晶體生長(zhǎng)用真空爐,包括具有雙層結(jié)構(gòu)的爐體(6),爐體側(cè)壁上有進(jìn)水閥門(11),爐體側(cè)壁的出水口上有流量計(jì)(25),爐體一側(cè)裝有真空系統(tǒng)(7),爐體上部有爐蓋(1),爐蓋上有進(jìn)水閥門(5)、出水流量計(jì)(25)、電極(2)、觀察孔(3)、藍(lán)寶石晶體提拉機(jī)構(gòu)(4),爐體內(nèi)有下隔熱屏(10)、側(cè)隔熱屏(9)、上隔熱屏(8),在各隔熱屏里面爐體的中央有坩堝(29),坩堝外面有發(fā)熱體(27),坩堝下面是坩堝托盤(28),坩堝托盤下面是托盤頂柱(26),托盤頂柱置于爐底(30)上,爐底為雙層結(jié)構(gòu),爐底中央有進(jìn)水閥門(15);爐底周圍有若干個(gè)出水管道,各出水管道上都有流量計(jì)(25),爐底上的各出水管道均與集水槽(12)連通,集水槽內(nèi)設(shè)有溫度計(jì)(14),集水槽上有排水閥門(13);其特征是:還設(shè)有集水控制槽(17),集水控制槽上有進(jìn)水管(18),集水控制槽有管道經(jīng)調(diào)節(jié)閥門(16)與集水槽(12)連接,集水控制槽內(nèi)有換熱器(19),換熱器有管道經(jīng)制冷閥門(20)與制冷機(jī)(21)連接,集水控制槽內(nèi)設(shè)有溫度控制儀(22),集水控制槽通過(guò)管道經(jīng)水泵(23)和控制流量計(jì)(24)與爐底中央的進(jìn)水閥門(15)連接。
      【文檔編號(hào)】C30B11/00GK104294363SQ201310307418
      【公開日】2015年1月21日 申請(qǐng)日期:2013年7月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年7月15日
      【發(fā)明者】姚泰, 韓杰才, 張宇民, 于永澔 申請(qǐng)人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
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