一種耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利說明】
[0001]【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及鍍膜玻璃領(lǐng)域，尤其是涉及一種建筑用的耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃。
[0002]【【背景技術(shù)】】
公知的，在玻璃表面沉積兩層高紅外線反射材料，例如金屬銀、銅或金等材料，從而使玻璃能夠盡可能少的吸收太陽光光譜中的紅外線和其它物體發(fā)出的紅外線，由于玻璃自身不存儲能量，其在吸收較少紅外線的前提下向外輻射的紅外線也就相對非常有限了，因此這種玻璃被稱為雙銀低輻射鍍膜玻璃；目前，由于雙銀低輻射鍍膜玻璃能夠在夏天確保光線進(jìn)入建筑物內(nèi)的同時，相應(yīng)有效的阻擋太陽光中的近紅外線進(jìn)入室內(nèi)，從而達(dá)到降低室內(nèi)溫度，相應(yīng)節(jié)省制冷費用的目的，同時，雙銀低輻射鍍膜玻璃還能夠在冬天阻擋自身吸收室內(nèi)物體發(fā)出的遠(yuǎn)紅外線，避免將室內(nèi)的熱量散發(fā)到室外，從而達(dá)到保持室內(nèi)溫度，相應(yīng)節(jié)省取暖費用的目的，因此，雙銀低輻射鍍膜玻璃常作為一種國家大力推廣的綠色建材被當(dāng)作建筑物幕墻玻璃和門窗玻璃使用；然而，在長期應(yīng)用中發(fā)現(xiàn)，雖然現(xiàn)有的雙銀低輻射鍍膜玻璃最外層采用的都是硬度較高的氮化硅膜層，但其在應(yīng)用中仍然不能滿足一些高標(biāo)準(zhǔn)客戶的需求，且現(xiàn)有的雙銀低輻射鍍膜玻璃在加工過程中還易因出現(xiàn)劃傷而導(dǎo)致產(chǎn)生較高的次品率，此外，由于現(xiàn)有雙銀低輻射鍍膜玻璃中的銀膜層易在高溫環(huán)境中發(fā)生氧化或與其他物質(zhì)反應(yīng)，因此其不能鋼化。
[0003]【
【發(fā)明內(nèi)容】
】
為了克服【背景技術(shù)】中的不足，本發(fā)明公開了一種耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，所述的玻璃不但能夠在低輻射性能不變的前提下有效提高表面硬度，而且還能夠進(jìn)行鋼化加工。
[0004]為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，所述的玻璃包含玻璃基片，該玻璃基片的表面由下而上依次鍍有氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化鋅錫膜層、氧化鋅鋁膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅膜層和氮化碳膜層；
所述的玻璃在制作時選擇在真空環(huán)境下，通過磁控濺射在玻璃基片表面沉積十層膜的方法生產(chǎn)，要求在鍍膜室抽真空至1.2X10-4Pa以下，再充入工藝氣體使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0.2至0.5Pa，然后對濺射源送電，操作靶材開始濺射，依次將相應(yīng)的靶材原子或其化合物沉積到玻璃基片表面形成相應(yīng)的膜層；其具體操作如下:
第一個鍍膜室充入氮氣和氬氣，革E材為娃銷革E，在玻璃基片的表面沉積第一層氮化娃膜，厚度為10至55納米；第二個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在氮化硅膜層上沉積第二層鎳鉻膜，厚度為0.5至10納米；第三個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在鎳鉻膜層上沉積第三層銀膜，厚度為5至20納米；第四個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜層上沉積第四層鎳鉻膜，厚度為0.5至10納米；第五個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅錫靶，在鎳鉻膜層上沉積第五層氧化鋅錫膜，厚度為20至60納米；第六個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅鋁靶，在氧化鋅錫膜層上沉積第六層氧化鋅鋁膜，厚度為10至60納米；第七個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在氧化鋅鋁膜層上沉積第七層銀膜，厚度為5至20納米；第八個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜層上沉積第八層鎳鉻膜，厚度為I至10納米；第九個鍍膜室充入氮氣和氬氣，靶材為硅鋁靶，在鎳鉻膜層上沉積第九層氮化硅膜，厚度為15至60納米；第十個鍍膜室充入氬氣，靶材為陶瓷氮化碳靶，在氮化硅膜層上沉積第十層氮化碳膜，厚度為3至30納米。
[0005]進(jìn)一步，充入工藝氣體后鍍膜室的壓力穩(wěn)定在0.3Pa。
[0006]由于采用如上所述的技術(shù)方案，本發(fā)明具有如下有益效果:
本發(fā)明所述的耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃能夠在低輻射性能不變的前提下有效提高表面硬度，更耐劃傷，從而有效的降低了在加工中出現(xiàn)劃傷的機(jī)率，相應(yīng)的提高了生產(chǎn)效率，增加了生產(chǎn)方的經(jīng)濟(jì)收益；同時，所述的玻璃還能夠在鍍膜后再進(jìn)行鋼化，其不但能夠保證銀膜層在鋼化爐內(nèi)700多度的高溫環(huán)境中不被氧化或與其他物質(zhì)反應(yīng)，而且還能夠有效的保障鋼化后的輻射率不變化，膜層不變色。
[0007]【【附圖說明】】
圖1是本發(fā)明的示意圖。
[0008]圖中:1、玻璃基片；2、氮化硅膜層；3、鎳鉻膜層；4、銀膜層；5、鎳鉻膜層；6、氧化鋅錫膜層；7、氧化鋅鋁膜層；8、銀膜層；9、鎳鉻膜層；10、氮化硅膜層；11、氮化碳膜層。
[0009]【【具體實施方式】】
通過下面的實施例可以更詳細(xì)的解釋本發(fā)明，公開本發(fā)明的目的旨在保護(hù)本發(fā)明范圍內(nèi)的一切變化和改進(jìn)，本發(fā)明并不局限于下面的實施例:
結(jié)合附圖1，所述的耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃采用在一玻璃基片I表面由下而上依次鍍上氮化硅膜層2、鎳鉻膜層3、銀膜層4、鎳鉻膜層5、氧化鋅錫膜層6、氧化鋅鋁膜層7、銀膜層8、鎳鉻膜層9、氮化硅膜層10和氮化碳膜層11，即在玻璃基片I的表面形成十層膜層的結(jié)構(gòu)，從而構(gòu)成所述的耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃；
制作所述玻璃時，選擇在真空環(huán)境下，通過磁控濺射在玻璃基片表面沉積十層膜的方法生產(chǎn)，要求在鍍膜室抽真空至1.2X10-4Pa以下，再充入工藝氣體，使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0.2至0.5 Pa，通常選擇0.3Pa，將濺射源送電，靶材開始濺射，然后送入玻璃基片，并將相應(yīng)的靶材原子或其化合物依次沉積到玻璃基片表面形成膜層，其具體操作如下:
第一個鍍膜室充入氮氣和氬氣，革E材為娃銷革E，在玻璃基片的表面沉積第一層氮化娃膜，厚度為10至55納米；第二個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在氮化硅膜層上沉積第二層鎳鉻膜，厚度為0.5至10納米；第三個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在鎳鉻膜層上沉積第三層銀膜，厚度為5至20納米；第四個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜層上沉積第四層鎳鉻膜，厚度為0.5至10納米；第五個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅錫靶，在鎳鉻膜層上沉積第五層氧化鋅錫膜，厚度為20至60納米；第六個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅鋁靶，在氧化鋅錫膜層上沉積第六層氧化鋅鋁膜，厚度為10至60納米；第七個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在氧化鋅鋁膜層上沉積第七層銀膜，厚度為5至20納米；第八個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜層上沉積第八層鎳鉻膜，厚度為I至10納米；第九個鍍膜室充入氮氣和氬氣，靶材為硅鋁靶，在鎳鉻膜層上沉積第九層氮化硅膜，厚度為15至60納米；第十個鍍膜室充入氬氣，靶材為陶瓷氮化碳靶，在氮化硅膜層上沉積第十層氮化碳膜，厚度為3至30納米； 如上所述，當(dāng)十層膜層都沉積完畢即生成所述的玻璃，其中:第一和九層膜采用氮化硅膜是為了提高其結(jié)合力，提高膜層的耐磨、耐腐蝕性能；第二、四和八層膜采用鎳鉻膜是為了提高其與銀膜的附著力，從而達(dá)到有效保障銀膜層在鋼化爐內(nèi)700多度的高溫下不被氧化或與其它物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)的目的，進(jìn)而使所述玻璃在鋼化后還能夠具備膜層不變色和輻射率不變化的特性；第三和七層采用銀膜是為了使所述玻璃具備非常低的輻射率；第五層和第六層采用氧化鋅錫膜和氧化鋅鋁膜是為了調(diào)節(jié)玻璃的顏色和可見光透光率；第十層采用氮化碳膜是為了顯著提高玻璃基片表面膜層的整體耐劃傷性能。
[0010]本發(fā)明未詳述部分為現(xiàn)有技術(shù)，故本發(fā)明未對其進(jìn)行詳述。
【主權(quán)項】
1.一種耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，所述的玻璃包含玻璃基片，其特征是:所述的玻璃基片(I)的表面由下而上依次鍍有氮化硅膜層(2)、鎳鉻膜層(3)、銀膜層(4)、鎳鉻膜層(5)、氧化鋅錫膜層(6)、氧化鋅鋁膜層(7)、銀膜層(8)、鎳鉻膜層(9)、氮化硅膜層(10)和氮化碳膜層(11);所述的玻璃在制作時選擇在真空環(huán)境下，通過磁控濺射在玻璃基片表面沉積十層膜的方法生產(chǎn)，要求在鍍膜室抽真空至1.2X10-4Pa以下，再充入工藝氣體使鍍膜室壓力穩(wěn)定在0.2至0.5Pa，然后對濺射源送電，操作靶材開始濺射，依次將相應(yīng)的靶材原子或其化合物沉積到玻璃基片表面形成相應(yīng)的膜層；其具體操作如下: 第一個鍍膜室充入氮氣和氬氣，革E材為娃銷革E，在玻璃基片的表面沉積第一層氮化娃膜，厚度為10至55納米；第二個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在氮化硅膜層上沉積第二層鎳鉻膜，厚度為0.5至10納米；第三個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在鎳鉻膜層(3)上沉積第三層銀膜，厚度為5至20納米；第四個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜層上沉積第四層鎳鉻膜，厚度為0.5至10納米；第五個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅錫靶，在鎳鉻膜層上沉積第五層氧化鋅錫膜，厚度為20至60納米；第六個鍍膜室充入氧氣和氬氣，靶材為鋅鋁靶，在氧化鋅錫膜層上沉積第六層氧化鋅鋁膜，厚度為10至60納米；第七個鍍膜室充入氬氣，靶材為銀靶，在氧化鋅鋁膜層上沉積第七層銀膜，厚度為5至20納米；第八個鍍膜室充入氬氣，靶材為鎳鉻靶，在銀膜層上沉積第八層鎳鉻膜，厚度為I至10納米；第九個鍍膜室充入氮氣和氬氣，靶材為硅鋁靶，在鎳鉻膜層上沉積第九層氮化硅膜，厚度為15至60納米；第十個鍍膜室充入氬氣，靶材為陶瓷氮化碳靶，在氮化硅膜層上沉積第十層氮化碳膜，厚度為3至30納米。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，其特征是:充入工藝氣體后鍍膜室的壓力穩(wěn)定在0.3Pa?
【專利摘要】一種涉及鍍膜玻璃領(lǐng)域的耐劃傷可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃，所述的玻璃包含玻璃基片，該玻璃基片的表面由下而上依次鍍有氮化硅膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氧化鋅錫膜層、氧化鋅鋁膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅膜層和氮化碳膜層；所述的玻璃不但能夠在低輻射性能不變的前提下有效提高表面硬度，而且還能夠進(jìn)行鋼化加工。
【IPC分類】B32B17/06, B32B9/04, B32B33/00
【公開號】CN104890322
【申請?zhí)枴緾N201510236548
【發(fā)明人】郭明
【申請人】金堆城洛陽節(jié)能玻璃有限公司
【公開日】2015年9月9日
【申請日】2015年5月12日