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      執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)及分子篩裝置的制造方法

      文檔序號:9418732閱讀:310來源:國知局
      執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)及分子篩裝置的制造方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001]本發(fā)明涉及核電領(lǐng)域,特別是涉及一種高溫氣冷堆取樣用的分子篩裝置及執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)。
      【背景技術(shù)】
      [0002]從20世紀(jì)60年代開始,英國、美國和德國開始研發(fā)高溫氣冷堆。1964年,英國與歐共體合作建造的世界第一座高溫氣冷堆龍(Dragon,20Mffth)堆建成臨界。其后,德國建成了 15麗e的高溫氣冷試驗堆AVR和30(Mffe的核電原型堆THTR-300。美國建成了 4(Mffe的實驗高溫氣冷堆桃花谷(Peach-Bottom)堆和330Mffe的圣符倫堡(Fort.St.Vrain)核電原型堆。2002年底,“第四代核能系統(tǒng)國際論壇”和美國能源部聯(lián)合發(fā)布了《第四代核能系統(tǒng)技術(shù)路線圖》,選取了包括超高溫氣冷堆在內(nèi)的六中核反應(yīng)堆型作為未來的研究重點。高溫氣冷堆是國際公認(rèn)的一種安全堆型,是未來陷阱核能系統(tǒng)的一個重要發(fā)展方向,2006年初,《國家中長期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要》中將大型壓水堆及高溫氣冷堆核電站列為重大科技專項之一,高溫氣冷堆是具有第四代核能安全特性的核電技術(shù),被國際認(rèn)為是第四代核能系統(tǒng)中最有可能率先實現(xiàn)商業(yè)化的技術(shù)。
      [0003]高溫氣冷堆是具有第四代特征的先進(jìn)堆型,由于其冷卻劑中載帶數(shù)量可觀的石墨粉塵,石墨粉塵上富集大量放射性核素,是高溫氣冷堆放射性產(chǎn)生的源頭。如果能對其進(jìn)行直接測量,即相當(dāng)于得到了高溫氣冷堆放射性水平的第一手?jǐn)?shù)據(jù),為研究高溫氣冷堆的輻射安全特性提供第一手材料,對于掌握這種第四代反應(yīng)堆在各種工況下的整體輻射特點有重要意義。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004]本發(fā)明的一個目的是要提供一種在取樣時能將分子篩裝置固定于取樣桶中,并在取樣完成后能使分子篩裝置脫離取樣桶的執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)。
      [0005]本發(fā)明的另一個目的是要提供一種分子篩裝置,通過對該分子篩裝置流經(jīng)反應(yīng)堆內(nèi)的高溫氦氣來獲得反應(yīng)堆內(nèi)的環(huán)境,進(jìn)而高溫氣冷堆放射性水平的第一手?jǐn)?shù)據(jù),也可直接推知堆芯放射性釋放特征及初始釋放總量。
      [0006]特別地,本發(fā)明提供了一種執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu),其中,包括:
      [0007]定位孔,在待定位件軸向方向分布、凹入所述待定位件的側(cè)壁內(nèi);
      [0008]定位件,具有伸出部分,該伸出部分能伸入所述定位孔中來將所述待定位件鎖死和脫離所述定位孔中來將所述待定位件解鎖。
      [0009]進(jìn)一步地,所述定位孔具有在所述待定位件的軸向方向延伸的第一凹槽,所述定位件具有與所述第一凹槽寬度基本相同的第一插頭;
      [0010]當(dāng)所述定位件的所述伸出部分伸入所述定位孔時,所述第一插頭插入所述所述第一凹槽中來將所述待定位件進(jìn)行軸向鎖死。
      [0011]進(jìn)一步地,所述定位孔還具有在所述待定位件的軸向方向延伸的第二凹槽,所述第一凹槽位于所述第二凹槽的下方,且所述第二凹的寬度大于所述第一凹槽的寬度;所述定位件還具有與所述第二凹槽寬度基本相同的第二插頭,所述第一插頭位于所述第二插頭的下方;
      [0012]當(dāng)所述定位件的所述伸出部分伸入所述定位孔時,所述第二插頭插入所述第二凹槽中來將所述待定位件進(jìn)行進(jìn)一步的軸向鎖死。
      [0013]進(jìn)一步地,所述定位孔的周向外部圍繞有部分覆蓋所述定位孔的外圈,所述外圈固定連接于所述待定位件;所述定位件具有用于容納所述外圈的定位槽;
      [0014]當(dāng)所述定位件的所述伸出部分伸入所述定位孔時,所述外圈置于所述定位槽內(nèi)來將所述待定位件徑向鎖死。
      [0015]進(jìn)一步地,所述外圈靠近所述定位孔的前端方向。
      [0016]進(jìn)一步地,所述定位孔具有供所述定位件軸向移動的位移段,所述定位件在所述位移段內(nèi)移動來使所述外圈置于所述定位槽內(nèi)或與其脫離。
      [0017]進(jìn)一步地,所述定位孔的數(shù)量為多個,各所述定位孔沿周向分布于所述待定位件的側(cè)壁上,所述定位件的數(shù)量為一個;
      [0018]各所述定位孔在所述待定位件的的側(cè)壁上周向分布。
      [0019]進(jìn)一步地,所述定位件為氣動致動,所述定位件被致動而在所述待定位件的徑向方向移動,來伸入或移出所述定位孔。
      [0020]進(jìn)一步地,所述待定位件為適用于分子篩裝置的連接器;
      [0021]優(yōu)選地,所連接器整體為圓柱狀;
      [0022]所述固定件為適用于分子篩裝置的取樣桶。
      [0023]根據(jù)本發(fā)明的另一個方面,還提供一種分子篩裝置,其具有上述技術(shù)方案之一所述的執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)。
      [0024]本發(fā)明的執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)的定位件能伸入定位孔中來將所述待定位件鎖死和脫離所述定位孔中來將所述待定位件解鎖,這樣在取樣時執(zhí)行鎖死機(jī)構(gòu)就能將分子篩裝置固定于取樣桶中,并在取樣完成后使分子篩裝置脫離取樣桶。
      [0025]本發(fā)明的該分子篩裝置能通過反應(yīng)堆的高溫氦氣,分子篩裝置對高溫氦氣進(jìn)行取樣來獲得反應(yīng)堆內(nèi)的環(huán)境,進(jìn)而能獲得高溫氣冷堆放射性水平的第一手?jǐn)?shù)據(jù),也可直接推知堆芯放射性釋放特征及初始釋放總量。
      [0026]根據(jù)下文結(jié)合附圖對本發(fā)明具體實施例的詳細(xì)描述,本領(lǐng)域技術(shù)人員將會更加明了本發(fā)明的上述以及其他目的、優(yōu)點和特征。
      【附圖說明】
      [0027]后文將參照附圖以示例性而非限制性的方式詳細(xì)描述本發(fā)明的一些具體實施例。附圖中相同的附圖標(biāo)記標(biāo)示了相同或類似的部件或部分。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解,這些附圖未必是按比例繪制的。附圖中:
      [0028]圖1是根據(jù)本發(fā)明一個實施例分子篩裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0029]圖2是根據(jù)本發(fā)明另一個實施例分子篩裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0030]圖3是根據(jù)本發(fā)明一個實施例分子篩裝置的剖視圖;
      [0031]圖4是根據(jù)本發(fā)明再一個實施例分子篩裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0032]圖5是根據(jù)本發(fā)明一個實施例分子篩裝置與取樣桶結(jié)合后的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0033]圖6是根據(jù)圖5的A部結(jié)構(gòu)放大示意圖;
      [0034]圖7是根據(jù)圖5的B部結(jié)構(gòu)放大示意圖;
      [0035]圖8是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的第一凹槽和第二凹槽的形狀示意圖;
      [0036]圖9是根據(jù)本發(fā)明一個實施例的定位件的伸出部分所在部位的示意圖;
      [0037]圖10是根據(jù)本發(fā)明一個實施例分子篩裝置與高溫氣冷堆、穿墻段、伺服執(zhí)行系統(tǒng)、執(zhí)行機(jī)構(gòu)的位置關(guān)系圖。
      [0038]圖中的附圖標(biāo)記如下:
      [0039]O-高溫氣冷堆;
      [0040]1-分子篩裝置;
      [0041]100-殼體,101-側(cè)壁,102-殼體前端,103-殼體后端,104-容納腔,105-進(jìn)氣通道,106-阻擋件,107-分子篩,108-出氣通道,109-出氣孔,110-環(huán)槽;
      [0042]111-定位孔,11 Ia-第一凹槽,11 Ib-第二凹槽;
      [0043]112-密封件,113-導(dǎo)流孔;
      [0044]114-定位件,114a_第一插頭,114b_第二插頭,114c_定位槽;
      [0045]115-外圈,116-連接器,117-螺紋孔,118-凹槽,119-螺栓,120-取樣桶,121-密封環(huán),122-密封條,123-密封座,124-密封插件,125-氣體通道,126-出氣通口,127-閥門,128-頂桿,129-密封槽,130-密封片,131-分子篩腔,132-過濾腔;
      [0046]2_穿墻段;
      [0047]3_伺服執(zhí)行系統(tǒng);
      [0048]4-執(zhí)行機(jī)構(gòu)。
      【具體實施方式】
      [0049]本發(fā)明提供一種分子篩裝置1,該分子篩裝置I能放置于如圖5所示的整體上呈長形的取樣桶120中來對高溫氦氣進(jìn)行取樣,所述分子篩裝置I基本上包括殼體100、容納腔104、進(jìn)氣通道105和阻擋件106。
      [0050]其中,殼體100整體上呈長形,長形的殼體100方便儲存分子篩顆粒和過濾顆粒,分子篩顆粒能吸附高溫氦氣中需要的分子顆粒,過濾顆粒能對高溫氦氣進(jìn)行過濾。長形的殼體100具有沿其長度方向延伸的長形的側(cè)壁101,所述殼體100沿其長度方向分布有殼體前端102和殼體后端103。
      [0051]其中,容納腔104由所述殼體100包裹形成,容納腔104用于容納分子篩107。
      [0052]其中,進(jìn)氣通道105設(shè)置于所述殼體前端102,并與所述容納腔104相通,進(jìn)氣通道105用于供所述高溫氦氣通過所述進(jìn)氣通道105進(jìn)入所述容納腔104。
      [0053]其中,阻擋件106設(shè)置于所述殼體前端102上,阻擋件106用于阻止所述分子篩107從所述殼體前端102脫離所述分子篩裝置I。在一個實施例中,阻擋件106可以單獨的部件并與殼體前端102連接,在其它實施例中阻擋件106也可以為殼體前端102收縮形成的縮口。
      [0054]當(dāng)對所述高溫氦氣進(jìn)行取樣前,如圖10所示,通過執(zhí)行機(jī)構(gòu)4將所述分子篩裝置I放置于所述取樣桶120中;當(dāng)對所述高溫氦氣進(jìn)行取樣時,所述分子篩裝置I流經(jīng)由反應(yīng)堆釋放的所述高溫氦氣。當(dāng)對所述高溫氦氣進(jìn)行取樣后,通過所述執(zhí)行機(jī)構(gòu)4將所述分子篩裝置I
      當(dāng)前第1頁1 2 3 
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