一種掩膜板清洗系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種掩膜板清洗系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來TFT_LCD(ThinFilm Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)已經(jīng)在顯示領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用,在液晶屏生產(chǎn)制造過程中,薄膜晶體管陣列基板的生產(chǎn)是頗為重要的一環(huán),而光刻所用的掩膜板作為TFT制作的核心“道具”,其保養(yǎng)和維護(hù)顯得尤為重要。
[0003]由于工廠內(nèi)部微小粉塵和揮發(fā)氣體的存在,使得掩膜板必須定期進(jìn)行系統(tǒng)的清潔除靜電處理。目前工廠內(nèi)部基本上都使用離子風(fēng)槍、離子棒進(jìn)行去顆粒處理,而對于頑固污漬,一般使用高等級無塵布蘸清水或者異丙醇(IPA)進(jìn)行浸泡擦拭。另外,用于制作薄膜晶體管(TFT)的掩膜板的底部都會使用特殊的薄膜(Pe11 icIe)保護(hù)掩膜板下表面的TFT圖案,以阻止顆粒和工廠內(nèi)揮發(fā)氣體的污染。
[0004]現(xiàn)有的掩膜板清潔過程均由人工手動操作實現(xiàn),在清洗過程中,人工操作失誤發(fā)生幾率較大,容易造成對Pe 11 i c I e的污染,一旦Pe 11 i c I e上粘上不明液態(tài)污漬,則會造成曝光過程中的焦距變化和穿透率失真。而對Pellicle的保護(hù)只能依賴于人員的細(xì)心和經(jīng)驗,使得掩膜板的良品率較低。
[0005]因此,亟需一種掩膜板清洗系統(tǒng)以解決上述技術(shù)問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足,提供一種掩膜板清洗系統(tǒng),用以解決掩膜板下方的薄膜容易污染的問題。
[0007]本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題,采用如下技術(shù)方案:
[0008]本發(fā)明提供一種掩膜板清洗系統(tǒng),包括:夾具和薄膜保護(hù)裝置,所述夾具用于水平懸空夾持掩膜板;
[0009]所述薄膜保護(hù)裝置設(shè)置在所述夾具的下方,用于遮擋設(shè)置在掩膜板下表面的薄膜,并與薄膜四周的掩膜板的下表面連接,以防止用于沖洗掩膜板的沖洗液污染所述薄膜。
[0010]優(yōu)選的,所述薄膜保護(hù)裝置包括真空連接機(jī)構(gòu)和腔體,所述腔體內(nèi)部中空且開口向上,所述腔體的開口處沿所述開口設(shè)置有開口向上的凹槽;
[0011]所述真空連接機(jī)構(gòu)與所述凹槽相連,用于在所述凹槽內(nèi)形成真空,并借助真空將所述腔體的開口與薄膜四周的掩膜板的下表面貼合并連接。
[0012]優(yōu)選的,所述凹槽內(nèi)設(shè)置有多個真空孔;
[0013]所述真空連接機(jī)構(gòu)包括:氣體總管、配氣盤和多個氣體支管,所述氣體支管與所述真空孔一一對應(yīng)且相連,配氣盤設(shè)置于所述腔體的底部,與所述氣體總管和氣體支管相連。
[0014]優(yōu)選的,所述凹槽內(nèi)設(shè)置有密封膠。
[0015]進(jìn)一步的,所述薄膜保護(hù)裝置還包括升降機(jī)構(gòu),所述升降機(jī)構(gòu)用于豎直升降所述腔體和真空連接機(jī)構(gòu)。
[0016]優(yōu)選的,所述掩膜板包括石英載體和圖案化的掩膜板本體,所述掩膜板本體位于所述石英載體的下表面,所述薄膜覆蓋所述掩膜板本體;
[0017]所述石英載體的上表面和側(cè)面的交界處設(shè)置有倒角。
[0018]優(yōu)選的,所述倒角為30-60度。
[0019]優(yōu)選的,所述石英載體的上表面和所述倒角的表面采用親水性處理;和/或,所述石英載體的側(cè)面采用疏水性處理。
[0020]優(yōu)選的,所述夾具包括第一夾持機(jī)構(gòu)和第二夾持機(jī)構(gòu),第一夾持機(jī)構(gòu)和第二夾持機(jī)構(gòu)分別從所述掩膜板的兩側(cè)夾持并固定所述掩膜板;
[0021]所述第一夾持機(jī)構(gòu)和第二夾持機(jī)構(gòu)包括:驅(qū)動裝置以及水平設(shè)置的翼板、第一手臂、第二手臂、第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌,所述第一手臂與第二手臂分別與所述翼板的兩端相連,并能夠分別在第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌內(nèi)滑動伸縮;所述第一手臂和第二手臂的用于夾持所述掩膜板的夾持端設(shè)置有用于限制所述第一手臂和第二手臂水平位移大小的止擋部件;
[0022]所述驅(qū)動裝置與所述翼板相連,用于驅(qū)動所述翼板水平移動,并同時帶動所述第一手臂和第二手臂分別在第一導(dǎo)軌和第二導(dǎo)軌內(nèi)滑動,以使所述止擋部件抵靠住所述掩膜板的側(cè)面。
[0023]優(yōu)選的,所述驅(qū)動裝置為齒輪齒條驅(qū)動裝置。
[0024]優(yōu)選的,所述止擋部件包括第一擋板和第二擋板,第一擋板和第二擋板垂直設(shè)置在所述第一手臂和第二手臂的上表面,且第一擋板鄰近所述第一手臂和第二手臂的夾持端的端部;
[0025]所述第一擋板的高度小于所述第二擋板的高度,所述第一擋板的彈性大于所述第二擋板的彈性。
[0026]進(jìn)一步的,所述第一手臂和第二手臂的用于夾持所述掩膜板的夾持端還設(shè)置有用于支撐所述掩膜板的墊塊,所述墊塊位于所述第一手臂和第二手臂的夾持端的端部與所述第一擋板之間。
[0027]優(yōu)選的,所述墊塊為兩塊,包括第一墊塊和第二墊塊,所述第一墊塊鄰近所述第一手臂和第二手臂的夾持端的端部;
[0028]所述第一墊塊的高度大于所述第二墊塊的高度,所述第一墊塊的彈性小于所述第二墊塊的彈性。
[0029]進(jìn)一步的,所述系統(tǒng)還包括在水平方向上的位置能夠調(diào)節(jié)的沖洗裝置,所述沖洗裝置設(shè)置在所述夾具的上方,用于向所述掩膜板噴灑沖洗液。
[0030]進(jìn)一步的,所述系統(tǒng)還包括風(fēng)干裝置,所述風(fēng)干裝置設(shè)置于所述沖洗裝置的上方,用于豎直向下吹風(fēng)以風(fēng)干所述掩膜板。
[0031]進(jìn)一步的,所述風(fēng)干裝置還包括多個用于去除靜電的金屬針頭,所述金屬針頭設(shè)置于所述風(fēng)干裝置的出風(fēng)口處,并向不同方向排布。
[0032]本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)以下有益效果:
[0033]本發(fā)明利用夾具用于水平懸空夾持掩膜板,并通過在夾具的下方設(shè)置薄膜保護(hù)裝置,該薄膜保護(hù)裝置能夠與薄膜四周的掩膜板的下表面連接,并將掩膜板下表面的薄膜遮擋住,從而防止用于沖洗掩膜板的沖洗液污染所述薄膜,減小掩膜板的清潔工序?qū)と说囊蕾?,提高掩膜板生產(chǎn)的良品率,并為實現(xiàn)機(jī)械化、規(guī)模化的掩膜板清潔工序提供保障。
【附圖說明】
[0034]圖1為本發(fā)明實施例提供的掩膜板清洗系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0035]圖2為本發(fā)明實施例提供的薄膜保護(hù)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0036]圖3為本發(fā)明實施例提供的掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0037]圖4為本發(fā)明實施例提供的夾具的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0038]圖5為本發(fā)明實施例提供的夾具夾持掩膜板與薄膜保護(hù)裝置相連的示意圖。
[0039]圖例說明:
[0040]1、夾具2薄膜保護(hù)裝置 3、掩膜板[0041 ] 4、沖洗裝置 5、風(fēng)干裝置6、導(dǎo)流槽
[0042]11、第一加持機(jī)構(gòu)12、第二加持機(jī)構(gòu)13、驅(qū)動裝置
[0043]14、翼板15、第一手臂 16、第二手臂
[0044]17、第一導(dǎo)軌 18、第二導(dǎo)軌 21、真空連接機(jī)構(gòu)
[0045]22、腔體23、凹槽24、真空孔
[0046]25、升降機(jī)構(gòu) 31、薄膜32、掩膜板本體
[0047]33、石英載體 41、金屬針頭 191、第一擋板
[0048]192、第二擋板 101、第一墊塊 102、第二墊塊
[0049]211、氣體總管 212、配氣盤213、氣體支管
[0050]331、倒角
【具體實施方式】
[0051]下面將結(jié)合本發(fā)明中的附圖,對本發(fā)明中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整的描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明的一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0052]以下結(jié)合圖1-5,詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
[0053]如圖1所示,本發(fā)明提供一種掩膜板清洗系統(tǒng),該一種掩膜板清洗系統(tǒng)包括:夾具I和薄膜保護(hù)裝置2,夾具I用于水平懸空夾持掩膜板3。薄膜保護(hù)裝置2設(shè)置在夾具I的下方,用于遮擋設(shè)置在掩膜板3下表面的薄膜31,并與薄膜31四周的掩膜板3的下表面連接,以防止用于沖洗掩膜板3的沖洗液污染薄膜31。
[0054]本發(fā)明利用夾具用于水平懸空夾持掩膜板,并通過在夾具的下方設(shè)置薄膜